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文檔簡介

第一緒1.1第一緒1.11.11.21.2100019世紀(jì)以后,由于簡單加工的材料已不能滿足人類日益增長的多方面發(fā)展需要。于是HenryBessemer——當(dāng)代鋼鐵冶煉的HenryBessemer——當(dāng)代鋼鐵冶煉的1.32050年代以后,由于材料檢驗(yàn)、加工和化學(xué)分析等技術(shù)的發(fā)展,人類認(rèn)識了更多子材料層出不窮。1920年以后,石油的大量利用和煉制技術(shù)的發(fā)展帶動(dòng)了高分子和塑料的1940年生產(chǎn)的尼龍。1960年美國人研制出硼纖維材料。這種材料具20世紀(jì)的新技術(shù)革命時(shí)代,對社會(huì)進(jìn)步影響最大的材料應(yīng)該是半導(dǎo)體硅。沒有半導(dǎo)躍的領(lǐng)域,21世紀(jì)將逐漸實(shí)現(xiàn)按需設(shè)計(jì)材料。1.2金屬冶煉中的metallugymetallugy從理論方面來說,火法冶金(pyrometallurgy)O、S、F、Cl與其Fe2O3CaF2SNaCl或電力等,由此可以獲得的一些常見金屬,如Fe、Al、Mg、Ca等,反應(yīng)如下:利用CFeO(s)+C(s)==Fe+CO(g)(s)+2Cl2==式中:s代表固體,g代表氣體,lFeO(s)+CO(g)==Fe(s)+CO2(g)(s)+CO(g)==Pb(l)+CO2(g)+2H2(g)==W(s)+2H2O(g)(g)==Mo(s)+2H2O(g)==PbS(l)+Fe(s)==Pb(l)+FeS(l)(s)+Si(s)==2Mg(g)+SiO2(s)(s)+2Ca(g)==Ti(s)+2CaO(s)(s)+2Ca(s)==Fe3O4(s)+4CO(g)==3Fe(s)+4CO2(g)PbO(s)+CO(g)==Pb(l)+CO2(g)3SiO2(s)3SiO2(s)+4Al(l)==3Si(s)+2Al2O3Sb2S3(l)+3Fe(s)==2Sb(l)+3FeS(l)Bi2S3(l)+3Fe(s)==2Bi(l)+3FeS(l)Cu2O(l)+H2(g)==2Cu(l)+O(溶于金屬中)CO(g)SiO2(液態(tài)爐渣2Fe(l)Si2FeO(液態(tài)爐渣)3PbO(l)+2As(l)==3Pb(l)+As2O3SiCl4(g)+2Zn(g)==Si(s)+鋼鐵冶2.3億噸左右,但人0203000轎車業(yè)的交易額中,鋼材約占50%。2540·203倍以上。鋼鐵工業(yè)以其高生產(chǎn)率、高度效率的方法,尤其是在礦物燃料短缺的情況下。C0.05~2.0%;C0.05%。(SiMn時(shí)為了要增加流動(dòng)性,含磷量可達(dá)1.2%。硫(S):在生鐵中是有害元素,它促使鐵與碳的結(jié)合,使鐵硬脆,并與鐵化合成低熔點(diǎn)生鐵中硫的含量規(guī)定最多不得超過0.06%(車輪生鐵除外。很少。含碳量多少是區(qū)別鋼鐵的主要標(biāo)準(zhǔn)。生鐵含碳量大于2.0%;鋼含碳量小于2.0%。生鐵的中小型高爐有8m3,13m3,直到255m3,620m3不等,大型高爐有1033m3,1386m3,2000m3等,高爐發(fā)展趨勢是大型化,我國寶鋼一號高爐為4000m3。1.4煉鐵1.4煉鐵用的礦石有赤鐵礦Fe2O3,磁鐵礦Fe3O42Fe2O3·3H2O及菱鐵礦FeCO3等,鐵礦的含鐵量(品位)提高到60%左右。經(jīng)破碎、研磨等過程得到的精礦粉直徑小于塊可提高高爐產(chǎn)量,降低焦比(每煉1t生鐵所需要焦炭的公斤數(shù))節(jié)約能源。用的熔劑,用空氣(或純氧)做助燃劑。以上原料在高爐中冶煉要完成3個(gè)基本過程。C+CO2+續(xù)與C作用:CO2+C=2CO-3Fe2O3+CO=2Fe3O4+CO2+QFe3O4+CO=3FeO+CO2-QFeO+CO=Fe+CO2+QFe2O3+3CO=2Fe+3CO2+1545℃CaOCaO+CaOSiO2CaSiO3(爐渣)爐渣一般在爐身下部開始形成(溫度約1000℃以上。3Fe(1)+C=煉鋼的基本任務(wù)是根據(jù)所需鋼種的要求,把生鐵中碳及其他元素的含量增加或減少到32Fe+O2→2FeO+Si→2Fe+SiO2FeO+Mn→Fe+MnOFeO+C→Fe+COFeS+CaO→FeO+2P+5FeO+3CaO→5Fe+這一階段主要是用硅鐵、錳鐵或金屬鋁來還原鋼水中含有的少量FeO2FeO+Si→2Fe+3FeO+2Al→3Fe+FeO+Mn→Fe+Mg+[O]→MgOMg+[S]→MgS[Mg]+[S]→以反應(yīng)Mg+[O]→MgO將很快結(jié)束,而剩下兩個(gè)脫硫反應(yīng)同時(shí)進(jìn)行。一般工藝采用CaO/Mg2~3作為石灰、鎂粉的噴吹比率,達(dá)到較好效果。而用于鋼水脫硫的脫硫CaSiCaO-Al2O3-CF2系合成CaO外,脫磷的條件和脫硫不同,因?yàn)閺?qiáng)氧化氣氛和較低的CaO-FeO的渣子。常常利用復(fù)合吹煉的有加精細(xì)的工藝。對要求高的鋼種可增加底吹氬、RH真空處理、噴粉處理可以有效降低鋼中熱力學(xué)來解決了,其中最直觀的是Ellingham圖。金屬還進(jìn)行計(jì)算。在金屬還原反應(yīng)中,標(biāo)準(zhǔn)摩爾金屬氧化物的標(biāo)準(zhǔn)生成自由能fG的最穩(wěn)定相態(tài))1標(biāo)準(zhǔn)生成自由能,用符號f成GABTAB均為常數(shù),T個(gè)反應(yīng)在不同的溫度區(qū)間的G許多無機(jī)材料的制備過程中,根據(jù)熱力學(xué)原理,通過對有關(guān)反應(yīng)的成GABTAB均為常數(shù),T個(gè)反應(yīng)在不同的溫度區(qū)間的G許多無機(jī)材料的制備過程中,根據(jù)熱力學(xué)原理,通過對有關(guān)反應(yīng)的G(必須為負(fù))和系圖的研究來判斷。1944年,H.J.T.Ellingham等生成自由能與溫度的關(guān)系圖,用來指導(dǎo)冶金工藝,因此GTEllingham用關(guān)系圖能方便地從該圖直接讀出任意要求溫度下的G1GT吉布斯-赫姆霍茲方程GHTS包含有GTGSTH。對于金屬還原反應(yīng),假定H和Sy=ax+b左向右傾斜的GT關(guān)系直線(可稱作氧化物生成直線能力,Ellingham把各種金屬與氧氣的反應(yīng)寫成金屬與一摩爾氧氣反應(yīng)的自由能變化。如下2xM(s)O2yO2 yGRTlnKRTln22度的正比例函數(shù),也即每一種金屬氧化物的G~T物的信息繪于一個(gè)G~TEllingham1.5圖中G的與上面介紹的標(biāo)準(zhǔn)生成自由能GGf結(jié)合吉布斯-赫姆霍茲方程,圖中直線截距為H 是0K時(shí)的標(biāo)準(zhǔn)焓, 而G0K=而G0K=H0K,斜率為S0K。又因?yàn)镾1mol氧氣反應(yīng)所取的數(shù)據(jù),這樣可使得關(guān)系圖規(guī)格化并簡化。由于固態(tài)金屬與氧的反應(yīng)要Ellingham圖中各生成直線斜率變化及其原因可分為如下四種情況。(1)氧化物生成線為正斜由于各方應(yīng)的熵變SMgOB點(diǎn)有個(gè)突變(轉(zhuǎn)折,斜率有明顯變(1378K2Mg(sl)O2(g)2MgO(s)(氣體體積1→0)2Mg(g)O2(g)2MgO(s)(氣體體積3→0)其他金屬在其相應(yīng)的沸點(diǎn)溫度也有明顯的類似斜率變化。這些點(diǎn)是按照每一個(gè)GTi(α)→i(β(880℃氧化物的熔點(diǎn),如PbO(800℃;PbO(1470℃(54℃,L2(1300氧化物的同素異構(gòu)轉(zhuǎn)變,如SiO2(870℃或1470℃。根據(jù)每種轉(zhuǎn)變的體積變化的分析,可以明顯地看出該變化引起地反應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)熵變S(3)CO2(S)=-SEllingham因而生成氧化物過程的G對較弱,生成的氧化物較不穩(wěn)定,例如Ag2O和HgO。2G~T利用G~T(1)G~T關(guān)系圖所研究的溫度范圍很寬(0~2400℃化物的G是不可行的。然而,如果反應(yīng)溫度升至足夠高溫(使G負(fù)值減小),致使氧化物生成線過G=0的水平線,表明G>0各反應(yīng)線與G=04Ag(s)+O2(g)→2Pd(s)+O2(g)→2Ni(s)+O2(g)→(2)利用G~T中,越在下面的金屬氧化物的GG1.5中,在整個(gè)溫度范圍內(nèi),TiO2中,越在下面的金屬氧化物的GG1.5中,在整個(gè)溫度范圍內(nèi),TiO2MnOT=1000℃時(shí),由G~TGTi(s)+O2(g)→GMn(s)+O2(g)→Ti(s)+2MnO(s)→Mn(s)+G由能變,因此純金屬Ti可以MnOGTi(s)+O2(g)→G4/3Al(s)+O2(g)→Ti(s)+2/3Al2O3(s)→4/3Al(s)+G原Al2O3(s)反應(yīng)的自由能變,其值遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于零,故該反應(yīng)不能發(fā)生,即用金TiT=1000℃時(shí),TiO2MnOAl2O3。CaO具有度以上,則Al將還原MgO。隨著溫度的升高,反應(yīng)的G越來越負(fù)。從圖1.5可以看出,反應(yīng)(1)與反應(yīng)(2)的兩條生成線700℃相交,在較低溫度下,反(1)線位于反應(yīng)(2)線以下,所以CO2比較穩(wěn)定,在還原反應(yīng)產(chǎn)物中占優(yōu)勢地位。但在高些難熔氧化物,如MgO、CaO和Al2O3等,只要溫度足夠高(分別達(dá)到1850℃、2150℃和2000℃(5)G~T物、氮化物等許多無機(jī)化合物的G~T關(guān)系圖。這些G~T1.5Ellingham1.5Ellingham圖(氧化物標(biāo)準(zhǔn)生成自由能1.2.3氯化1.1為了使被處理的物料獲得較大的反應(yīng)能力以加速反應(yīng)的進(jìn)行,或者為了得到高質(zhì)量的1.1為了使被處理的物料獲得較大的反應(yīng)能力以加速反應(yīng)的進(jìn)行,或者為了得到高質(zhì)量的熔點(diǎn)沸點(diǎn)1TiOCl1TiCl(g)1 42222此反應(yīng)的摩爾標(biāo)準(zhǔn)吉布斯自由能變G220501TiOCl1TiCl(g)1 42222此反應(yīng)的摩爾標(biāo)準(zhǔn)吉布斯自由能變G220506.9T(kcalmol)C1O22此反應(yīng)的摩爾標(biāo)準(zhǔn)吉布斯自由能變G2780020.05T(kcalmol1TiOClC1TiCl(g) 422高鈦渣Cl2CTiCl4得到的TiCl4TiCl4+2H2又叫“海綿鈦”1:氯化法煉鉛CaO(s)+Cl2(g)=CaCl2(l)+PbO(l)+Cl2(g)=PbCl2(g)+1/2O2(g)∴CaCl2(l)+PbO(l)=PbCl2(g)+CaO(s)T=1600K,CaCl2(l)+MnO(s)=MnCl2(g)+CaO(s)ΔGθ=1.2.4化學(xué)遷移1.羰基法:原料是金屬與CO反應(yīng)形成的羰基化合物,由于其熔點(diǎn)低,故可用于提純。1.用羰基鐵提純鐵)(5G1.2.4化學(xué)遷移1.羰基法:原料是金屬與CO反應(yīng)形成的羰基化合物,由于其熔點(diǎn)低,故可用于提純。1.用羰基鐵提純鐵)(5G276214804TJ/)200~280C,G224884667.63TJ/ΔGΔG0RTln Fe(CO)520atmΔGΔG0例2.用羰基鎳提純鎳4180~200Ni(s)+4CO(g)→Ni(CO)4(g) Cp p p -T(Δa·M+Δb·M+Δc·M012T298M0 (TM1(TM22298T故T<111oCNi(CO)440注意:①ΔH用羰基鎢(W(CO)6例(2)碘化法(2)碘化法4無機(jī)非金屬材料的1.3.1固相反A(s)+B(s)→A(s)A(l)A(s)B(s)(AB)(l),A(s)B(s)A+AB)(l(AB+AB)(lB(s)→Ag)+B(s)或反應(yīng)物與第三組分反應(yīng)都可能出現(xiàn)氣體A(s)+C(g)→(AC)(g),例SiO(s)→SiO(g)+2C→SiC+2SiO2→2SiO+分解反應(yīng),如表1.2所示。1.2A(s)+B(g)→Zn+1/2O2→AB(s)+C(g)→A(s)+Cr2O3+3H2→2Cr+A(s)+B(s)→MgO+Al2O3→A(s)+BC(s)→AC(s)+Cu+AgCl→CuCl+應(yīng),反應(yīng)溫度在100~600℃,高溫固相反應(yīng),反應(yīng)溫度在應(yīng),反應(yīng)溫度在100~600℃,高溫固相反應(yīng),反應(yīng)溫度在600℃以上。生幾個(gè)反應(yīng),生成的相應(yīng)的幾個(gè)變體(A1,A2,A3,…,An)的自由能變化分別為AC(s)+BD(s)→AD(s)+NaI+AgCl→NaCl+AB(s)→A(s)+MgCO3→MgO+最終產(chǎn)物將是ΔGA1相,然而當(dāng)ΔG2,ΔG3,…,ΔGn都是負(fù)值時(shí),則生最終產(chǎn)物將是ΔGA1相,然而當(dāng)ΔG2,ΔG3,…,ΔGn都是負(fù)值時(shí),則生零,因此ΔG≈ΔH,所以,沒有液相或氣相參與的固相反應(yīng),只有ΔH<0時(shí),反應(yīng)才能進(jìn)行,如果過程中有氣體放出和液體參加,則必須考慮ΔG的影響。3Si(s)2N2(g)Si3N43SiO2(s)6C(s)2N2(g)Si3N4(s)此外,固-固反應(yīng)還可用于制備鎂鋁尖晶石、莫來石、BaTiO3,反應(yīng)MgO(s)+Al2O3(s)MgAl2O42SiO2(s)+3Al2O3(s)2SiO23Al2O3BaO(s)TiO2(s)BaTiO3BaCO3(s)TiO2(s)BaTiO3(s)CO2(g)簡稱SHS)是一種節(jié)能、快速而又實(shí)用的合成方法。這種技術(shù)是前蘇聯(lián)科學(xué)家于1967年提出nonmetaloxidemetalandreductant=oxidereductanTiO2TiO2B2O35MgTiB25MgO2B2O3C6MgB4C6MgO氣相反圖 氣體中蒸發(fā)法是在惰性氣體(He,Ar,Xe等)或活性氣體(O2,CH4,NH3等)中將4-8nm的ZrO24nm的Y2O3等化學(xué)氣相沉積法(CVD法CVD法,是近二三十年發(fā)展起來的制備無機(jī)材料的新技術(shù),已被xPx)的化合物,而且他們的物理性質(zhì)可以通過氣相摻雜的沉積過程精確控制。因此,化學(xué)(3)MO-CVD。另外,反應(yīng)時(shí)Ar(40~250Pa),兩電極間施加的電壓范圍為(0~31.5V)。由于兩極間的輝光放(3)MO-CVD。另外,反應(yīng)時(shí)Ar(40~250Pa),兩電極間施加的電壓范圍為(0~31.5V)。由于兩極間的輝光放Ar離子形成,在電場的作用下Ar離子沖擊陰極靶材表面,使靶材原子從表面蒸發(fā)出來形成超微粒置可用來制備7-50nm直徑的納米陶瓷分子團(tuán),己用磁控濺射研究了TiO2,Zr02等陶瓷納米4.3nm左右,而且粒度很整齊,另外,納米陶瓷粉體的形成就在油中aA(g)bB(g)cC(g)(PaPbPcSA =K(PaPb/Pc,A C(PaPb/PcA 其中,K為平衡常數(shù),定義K 。如圖1.8所示,高過飽和度的產(chǎn)物為粉體;16P ()TI1/ )0p3kT(kT為氣—固界面的界面張力;p為實(shí)際氣體的蒸汽壓。D(6CoM)1/NCo(mol/cm3)為氣相中金屬源濃度MNMN液相液相法可分為沉淀法、水解法、水熱法、溶膠凝膠法等等。水熱法是通過高溫高壓在e2液相法可分為沉淀法、水解法、水熱法、溶膠凝膠法等等。水熱法是通過高溫高壓在e22ZCe02pH常用FeSO4Fe(NO3)2為原料,而Fe2+在空氣中易氧化成Fe3+,若遇到OH-則生成FeSO42NH3OHFe(OH)2(NH3)2Fe(OH)1OHOFe(OH)H2 322Fe33HOFe(OH)3H 或(1)共沉淀法Al(OH)3已形成[Al(OH)4]-而溶解,不能得到按計(jì)量比的混合材料,這時(shí),如果用稀Na2CO3Al2O33SnO2pH值相差較大[Sn(OH)4pH=1,Ln(OH)3pH=9.5]NaOHNH3?H2O做沉淀劑時(shí),事實(shí)上是的條件下,向BaCl2和TiOCl2混合溶液加入草酸,就得到了鋇鈦復(fù)合草酸鹽沉淀。BaCl2+TiOCl2+2H2C2O4+4H2O→BaTiO(C2O4)2?4H2O+可得BaTi03或摻雜BaTi03BaCl2+TiOCl2+2H2C2O4+4H2O→BaTiO(C2O4)2?4H2O+可得BaTi03或摻雜BaTi03粉體。BaTiO(C2O4)2+++2CO0.5BaTi2O5+BaTi03+YCl3溶- ++CO2+ +23 液pH值進(jìn)一步增大,可代液pH值進(jìn)一步增大,可代Na2CO3做均勻沉淀劑,生成碳酸鹽或金屬氫氧化物,也可能形混合沉淀形式。如在含有Zn2+的溶液中加入尿素,升高溫度至90℃保溫10h,可制得均勻球ZnCO3,短少后得到單分散ZnO粉體。若要Zn2SnO4復(fù)合氧化物,也可利用均勻沉法。在化學(xué)計(jì)量比為2:1Zn2+、Sn4+混合液中,加入尿素,并升溫到90℃,保溫10h以上,即可得H2SnO3和ZnCO3的均勻混合物,過濾、洗滌、煅燒后可制得勻顆粒得Zn2SnO4微粉,該反應(yīng)是指鹽的組分離子跟水離解的H+和OH-結(jié)合成弱電解質(zhì)的反應(yīng);并且我們可Mn+(ag)+M(OH)n(s)+根據(jù)化學(xué)平衡理論,強(qiáng)酸強(qiáng)堿鹽不水解,如NaCl、K2SO4反發(fā)生水解反應(yīng),不同的金屬離子水解程度不同。水解程度的大小主要取決于金屬離子的電8epdfs4高溫度的方法來制備金屬氧化物,如FeCl3紫色溶液由于部分水解而呈黃色,升高到60℃以上即可使Fe3+水解成橙紅色的FeOOH或Fe2O3溶膠或沉淀。金屬醇鹽是M-O-C鍵的有機(jī)金屬化合物的一種,它的通式為M(OR)n,其中M是金M+nROH→M(OR)n+TiCl4+4ROH+4NH3→Ti(OR)4+Al(OC3H7)33H2OAl(OH)33C3H7OH+2HAl(OH)3Al2O3H2O1.101.3.4粉體粒徑分布效沉速徑,又叫Stokes徑。l:顆粒長軸長度;d3N(N單位重量粒子數(shù)p6沉降速度較慢。利用Stokes定律可以得到顆粒的沉降速度與粒徑的數(shù)量關(guān)系。1.12FKFF4r3( 03FwFs2r2(v09 2r2(v09 2(0)r式中,為顆粒密度0為介質(zhì)密度v為顆粒沉降速r為顆粒平均粒徑,為介18lnd (0dst的顆粒,從距離軸心s處到r處的時(shí)間。題選溶膠-凝膠法(Sol-年,1846J.J.EbelmenSiCl4與乙醇混合后,發(fā)現(xiàn)在濕空氣中發(fā)生水解并形1971H.DislichSol-Gel法成功開發(fā)出SiO2-B2O-Al2O3-Na2O-K2O多組分玻璃之后,Sol-Gel法才引起科學(xué)界的廣泛關(guān)注,1975B.E.YoldasM.Yamane制得整塊陶瓷材料及多孔透明氧化鋁薄膜。80年代以來,在玻GelSol-Gel1.13金屬醇鹽、硝pH1.13Sol-GelSol-Gel法,其原料一般為金屬鹽的水溶液。這種方法比2+M(H 金屬醇鹽、硝pH1.13Sol-GelSol-Gel法,其原料一般為金屬鹽的水溶液。這種方法比2+M(H OO—+MMOOOO—+OO-M—OH+—M—OH→—M—O—OH+M+nROH→M(OR)n+n/2如Y、Al、Be等的醇鹽的制備,則需添加汞或汞的化合物為催化劑。2)SiCl4+4i-PrOH→Si(OPri)4+Zr、Nb等醇鹽。反應(yīng)式如下:MCl4+nROH+NH3→M(OR)n+3)MCl4+nNaOR→M(OR)n+Cr等)的制備,則可利用它們的氯化物與鋰的醇鹽反應(yīng),即MCl4+nLiOR→M(OR)n↓+(2)醇鹽Sol-GelSi(OR)4+H2O→Si(OR)3OH+ Si(OR)3OH+Si(OR)4→Si(OR)3OSi(OR)3+2Si(OR)3OH+Me2+→Me[Si(OR)3O]2+理控制。可以認(rèn)為其機(jī)理主要是H3+O對OR基的親電取代反應(yīng):(OR)3SiOR+H3+O→(OR)3SiOH+ROH+H++H2O→H3Si-O-SiO鍵。因此,導(dǎo)致制。一般認(rèn)為其機(jī)理是OH-對OR基的親核取代反應(yīng):(OR)3SiOR+OH-→(OR)3SiOH+OR-+H2O→ROH+OH-(OR)3SiOH+OH-→(OR)3SiO-+H2O(OR)3SiOH+(OR)3SiO-→Si(OR)3OSi(OR)3+A.干(3)Sol-GelBaMgA110O17是一種優(yōu)良的熒光材料基質(zhì),化學(xué)穩(wěn)定性非常好。BaMgA110O17:Eu藍(lán)(3)Sol-GelBaMgA110O17是一種優(yōu)良的熒光材料基質(zhì),化學(xué)穩(wěn)定性非常好。BaMgA110O17:Eu藍(lán)BaCl2TiOCl22(COOH)24H2OBaTiO(C2O4)24H2OBaTiO(C2O4)24H2OBaTiO(CO)4H 42 4 322221BaTiO1BaCO 1 332222屬(或半導(dǎo)體)4-5個(gè)數(shù)量級的突變,同時(shí)還伴隨著明顯的光學(xué)VO2可以應(yīng)用到建D.生物材生物材料是指可對機(jī)體組織進(jìn)行修復(fù)、替代與再生,具有特殊功能的材料含有CaO-附:膠體的性Fe(OH)3膠體中加入適當(dāng)?shù)奈镔|(zhì)(電解質(zhì))Fe(OH)3Fe(OH)3A、加入電。,該效應(yīng)與顆粒粒徑有關(guān),即當(dāng)顆粒粒徑d>>λ/2時(shí),入射光線被反射;而當(dāng)d<λ/2。,該效應(yīng)與顆粒粒徑有關(guān),即當(dāng)顆粒粒徑d>>λ/2時(shí),入射光線被反射;而當(dāng)d<λ/2,則入射發(fā)生散射。圖1.14為光電倍增管示意圖。θ圖 9 cos2II0 1N定義為膠體的重量濃度,即單位體積膠體溶液中粒子重量NCvIReyleigh比RI(1cos2092n22n292n2n2R2 1 1 n2n 2 1 1(1)電荷,如Fe(OH)3膠體和Al(OH)3膠體微粒。非金屬氧化物、金屬硫化物膠體微粒吸附陰離As2S3膠體,H2SiO3 過量時(shí)帶負(fù)電荷 例:SiO2H2OH2SiO3HSiO3HSiO 膠體吸附I-而帶負(fù)電。參考參考文2001,9.轉(zhuǎn)爐煉鋼新技術(shù).天津冶金,2005,1:50200227(2)第三缺陷化 第三缺陷化 化學(xué) 缺陷締 3.1缺陷化學(xué)基羅格-文克(Kr?ger-Vink)應(yīng)用質(zhì)量作用定律處理晶格缺陷間的關(guān)系,提出了一套缺陷化3.1.1晶體缺陷的1)點(diǎn)缺本征缺點(diǎn)缺(零維缺陷雜質(zhì)缺位線缺(一維缺陷位錯(cuò)處的雜小角晶粒間面缺(二維缺陷攣晶界堆垛層包羅格-文克(Kr?ger-Vink)應(yīng)用質(zhì)量作用定律處理晶格缺陷間的關(guān)系,提出了一套缺陷化3.1.1晶體缺陷的1)點(diǎn)缺本征缺點(diǎn)缺(零維缺陷雜質(zhì)缺位線缺(一維缺陷位錯(cuò)處的雜小角晶粒間面缺(二維缺陷攣晶界堆垛層包藏雜體缺(三維缺陷沉空導(dǎo)帶電電子缺價(jià)態(tài)空2)線缺(用e'表示)2)線缺(用e'表示),在價(jià)帶中有空穴載流子(用h*表示)。這類電子和空穴也是一種缺陷,總稱為了描述在離子晶體中可能出現(xiàn)的不同類型的原子尺度的缺陷,克羅格-文克(Kr?gerVink)提出了一套缺陷化學(xué)符號,現(xiàn)已成為國際上通用的符號。他們發(fā)展了應(yīng)用質(zhì)量作用點(diǎn)缺陷所帶有效電·點(diǎn)缺陷負(fù)電荷AAAiAAAi3-1VNa’表示一個(gè)鈉離子空位,相對于周圍環(huán)境顯出一個(gè)單位的負(fù)電;Mgi..e'VNa’,VclhVcl于陽離子半徑,故VMMi容易形成,而VxXi(VMVX)或兩種點(diǎn)缺陷可以分別用兩種點(diǎn)缺陷可以分別用符號CaNa,和VNa來表示。若在HCl氣氛中焙燒ZnS時(shí),晶體中ClSSiCNCNCSi3.1.2點(diǎn)缺陷和電子1)弗蘭克爾缺陷(Frenkel2)肖特基缺陷(Schottky3-23-31)取代式雜質(zhì)缺3-23-31)取代式雜質(zhì)缺(a)間隙(b)取代3-4在各種金屬間化合物或共價(jià)化合物中,原子半徑相近的(15%)2)間隙式雜質(zhì)缺Zr2)間隙式雜質(zhì)缺Zr原子密堆積所形成的四面體間隙中,生成ZrH2-半金屬性氫化鋯,事實(shí)上氫化鋯是原4+O3,這種材料是—NZnS:Ag,C1中3)電子缺3-53.色現(xiàn)象:白色的Y2O3-53.色現(xiàn)象:白色的Y2O3在真空中煅燒,變成黑色,再退火,又變成白色原因:晶體中存在缺陷,陰離子空位能捕獲自由電子,陽離子空位能捕獲電子空穴,心。中易形成氧空位,捕獲自由電子。真空煅燒,色心形成,顯出黑色;退火時(shí)分類:1)帶一個(gè)正電荷的陰離子空位——α2)捕獲一個(gè)電子的陰離子空位——F(VX3)捕獲兩個(gè)電子的陰離子空位——F(VX(VM'h)4)捕獲一個(gè)空穴的陽離子空位——V1 5)捕獲兩個(gè)空穴的陽離子空位——V2(VM2h3.2缺陷化學(xué)反應(yīng)方程1)2)在給定化合物(MaXb)中,M3.2缺陷化學(xué)反應(yīng)方程1)2)在給定化合物(MaXb)中,MX例如在A12O3中的A1:O=2:3。只要保持比例不變,每一種類的格點(diǎn)總數(shù)可以改變。如果xV‥O3)Xi等。例如,發(fā)生肖特基缺陷時(shí),晶體中原子遷移到晶體表面(S4)電中性原3O1O2TiO2Ti2 o223O1O O o22M2+3O1O O o22M2+X2-VMM M2+X2-XXXiXM2+X2-X(無缺陷態(tài))0 VMM2+X2-MXM M2+X2-MXMX BA 12(g)VX2 VVMM MM1(g)V2hX2MX2h·P1X XXX22VVXXVVXX2e1XXVXX22如材料內(nèi)能導(dǎo)通電流的1X XXX22VVXXVVXX2e1XXVXX22如材料內(nèi)能導(dǎo)通電流的載流子主要為e,則這類材料稱為N型半導(dǎo)體材料。例如TiO2-1MX XMXi22MMiiMMii1MXM2e X i22可見,M1+yXN型半導(dǎo)體材料。Zn1+yO12(g)X2iXhXiiXiXi1(g)X2h2i2例1.NaCl中摻入CaCl2,缺陷反應(yīng)方程式為22MgO中摻入Al2O3和Al2O3中摻入MgOAl2OOO3.3非化學(xué)計(jì)量化合的性能和結(jié)構(gòu)有關(guān),所以又稱“本征缺陷”2MgO中摻入Al2O3和Al2O3中摻入MgOAl2OOO3.3非化學(xué)計(jì)量化合的性能和結(jié)構(gòu)有關(guān),所以又稱“本征缺陷”VMexpEEexpmkTRTMi能。在無外界干擾的情況下,因間隙和空位是等量的,有 expM2RTexpE exp,mRT2RTMg Mg非化學(xué)計(jì)量化合物主要2TiO2Ti4O1O2Ti2非化學(xué)計(jì)量化合物主要2TiO2Ti4O1O2Ti2Ti2e1OVV2O2 2O22(2TiO2Ti31OVTi 2O2O1O2eVO2O2N型半導(dǎo)體材料(氧離子遷移速率遠(yuǎn)小于電子遷移速率,故氧化鈦是一電子導(dǎo)電為主種非局域性的電子也叫“弱束縛電子”P1/2[V]K 考慮到體系中失去的氧很少,認(rèn)為[O]100%;從反應(yīng)式中可得[e2[VOOK11/2[e'2Kexp(G)f[e']16TiO2是電子導(dǎo)電,其電導(dǎo)率e,所以料電池。ZrO2與TiO2不同之處在于:ZrO2氧離子空位擴(kuò)散速度快,氧離子通過空位的料電池。ZrO2與TiO2不同之處在于:ZrO2氧離子空位擴(kuò)散速度快,氧離子通過空位的3-6為ZrO2POCPt穩(wěn)定型ZrO2PtPO(22PO(C)>PO(AO2-從高氧分壓側(cè)PO(C向低氧分壓側(cè)PO(A22221[P(c)]2e' 2 2E(RT/4F)ln{PO(c)/PO22式中,R為氣體常數(shù),F(xiàn)為法拉第常數(shù),T可以把ZrO2看作氧離子導(dǎo)體,當(dāng)其兩側(cè)的氧分壓不同時(shí),在ZrO2CO和CO2的分壓比可以看作燃燒過程的還原氧化比,其反應(yīng)式為:22122COCO2,平衡常數(shù)K K 1/ ZnOCO和CO2的分壓比可以看作燃燒過程的還原氧化比,其反應(yīng)式為:22122COCO2,平衡常數(shù)K K 1/ ZnO放入Zn蒸汽中加熱,ZnZnO1ZnOZne i221ZnOZn2e 或i22K[Zn][e]]1/i從而得到ZnO的電e'1/12e OMOMi22以為代表,其缺陷反應(yīng)實(shí)質(zhì)為1 2i2[h]P1/為例,空位。一般也稱FeO為“非化學(xué)整比化合物”,其缺陷反應(yīng)方程式如下 1O為例,空位。一般也稱FeO為“非化學(xué)整比化合物”,其缺陷反應(yīng)方程式如下 1O2FeOV2hO2 212O2h2O[h]P1/3-7FeOZrO2x,TiO2x,KCl1x,NaCl1x,Ⅰ型(缺陰離子型Zn1xO,Cd1xⅡ型(陽離子間隙型UOⅢ型(陰離子間隙型Cu2xO,Fe1xO,Ni1xO,Co1xO,Ti1xO2,K1xBr,K1xI,Fe1xS,Pb1xS,Cu1xSⅣ型(缺陽離子型的非化學(xué)計(jì)量化合物的電導(dǎo)率都與氧分壓的次方成比例,故可以做ln~ln2用紫外光照射激發(fā),則產(chǎn)生的弱束縛電子和空穴會(huì)與H的非化學(xué)計(jì)量化合物的電導(dǎo)率都與氧分壓的次方成比例,故可以做ln~ln2用紫外光照射激發(fā),則產(chǎn)生的弱束縛電子和空穴會(huì)與H2S反應(yīng)e'1H22S2hS氫。所以ZnO可用于石油的脫3.3.21mol的ZrO2xmolCaO ZrO2的化學(xué)式為:Zr1xCaxO2x,它表xmolCaOxmol的鈣離子,置換x有2(2x2x4(1x01mol的ZrO2中摻入CaO 3)1mol的Al2O3xmolMgO2MgVO2 按前述原則,Al2O3的化學(xué)式為:Al2xMgx 13x4)1mol的Al2O3xmolMgO按上述原則,Al2O3的化學(xué)式為: MgxO322x按上述原則,Al2O3的化學(xué)式為: MgxO322x 1mol的Al2O3中摻入Cr2O32O1mol5)中形成的Al2xCrxO3中再摻入xmolNiO,發(fā)生置換反2NiO 'AlO的化學(xué)式為CrNi 1 23y3.3.3ρV得到設(shè)一個(gè)晶胞中有iWWiii其中NA為阿佛加德羅常比如對于化學(xué)式為Zr0.85Ca0.15O1.85的化合物,其基體是氧化鋯,螢石結(jié)構(gòu),即一個(gè)0.850.151.8581.8540.8591.2240.15402WWWONNNAAAWCa5.565g/cm2WCa5.565g/cm2而 ZrO2中摻雜CaO后理論密度和CaO摻雜量之間的關(guān)3.4缺陷締''NaClNaCl考慮NaCl的熱缺陷產(chǎn)生:NaCl 表surface。在一定條件下,有部分鈉離子和氯離子空位組合形成缺陷締合:')x3.4缺陷締''NaClNaCl考慮NaCl的熱缺陷產(chǎn)生:NaCl 表surface。在一定條件下,有部分鈉離子和氯離子空位組合形成缺陷締合:')x,其中的xV' [(VNa'VKa[VNa'][V]'][V],其中Gss[(V'V)]exp(GaGs 焓變和熵變的關(guān)系,有:GahaTSa,GshsTSs。其中的Sa[(V'V)]exp(SaSs)exp(hs kKexp(SaSs)Kk[(V'V)]K'exp(hs 如果再考慮到相互作用能ha與一些微觀量的關(guān)系,我們有q1(eVaR離,可以用原子間距代替,單位為埃(A);為晶體的靜態(tài)介電常數(shù)。hs通常是可離,可以用原子間距代替,單位為埃(A);為晶體的靜態(tài)介電常數(shù)。hs通常是可測的1)NaCl中加入CaCl2V',Ca (Ca'')2 2)向CdF中加入Sm3: F'(SmF'2i3)ZnSAl3Al''' 3.5電子結(jié)構(gòu)(電子與空穴3.5.1能帶結(jié)構(gòu)和電子可見導(dǎo)體的價(jià)帶和導(dǎo)帶是有重疊的,在外電場的作用下,大量共有化電子很的禁帶則較寬,從能級圖上來看,是因?yàn)闈M帶與空帶之間有一個(gè)較寬的禁帶 約eV),共有化電子很難從低能級(滿帶)躍遷到高能級(空帶)上去。正是由于這種電子圖3- 導(dǎo)體、半導(dǎo)體和絕緣體的的能帶結(jié)EnNexp(圖3- 導(dǎo)體、半導(dǎo)體和絕緣體的的能帶結(jié)EnNexp() 2(2me*kT)3/其中的*me是電子的有效質(zhì)量,h是普朗克常數(shù);當(dāng)Ch 300K時(shí),硅的2.810/cm,砷化鎵的4.710/cm3 CnNexp(E) 2(2mh*kT)3/其中價(jià)帶中空穴的態(tài)密度N,m*是空穴的有效質(zhì)量,當(dāng)h 300K1.0410/cm7.010/cm3 Vmh3.5.2摻雜后的點(diǎn)缺陷的局域Si(Eg1.09eV)Ge(Eg0.71eV)xAsGe缺陷的能級距導(dǎo)帶底很近,容易受激而使該“準(zhǔn)自由電子”3- AsGeEDAsGe半導(dǎo)體的N型摻xx“準(zhǔn)自由電子”的缺陷叫“施主缺陷”,對應(yīng)的As摻雜Ge是n型半導(dǎo)體BGe圖3- 半導(dǎo)體的P型摻0.0104eV圖3- 半導(dǎo)體的P型摻0.0104eVEg(Ge)Eaa于BGe 這樣能吸引價(jià)帶中的電子而在價(jià)帶中產(chǎn)生空穴的缺陷叫受主缺陷,對應(yīng) 雜Gep加熱,就會(huì)產(chǎn)生鋅空位和空穴:VZn2hV,或者說 提供空穴,自身變成V則VZn就是一個(gè)受主缺陷。見圖3-3-12AlZnEDAlZne'AlZnEDAlZne'繼續(xù)進(jìn)行還有:AlZnED' e'由于ED'EDKdefects AgKED(6.4eV)AgKe' AgKEA(5.6eV)AgK有關(guān)的趣味知識向摻雜的化合物或某些能產(chǎn)生準(zhǔn)自由電子的非化學(xué)計(jì)量化合物(如TiO2)穴的激發(fā)而使有機(jī)物、油污等不易附著,也叫“光催化效果”3.6半導(dǎo)體的光學(xué)-Ix=I0(1-式中,I:距離表面x遠(yuǎn)處的光強(qiáng);Ix0r:材料表面的反射1.本征吸h是普朗克常量,ν是光的頻率.C是光速,ν0:材料的頻率閾值,λ0:材料的波長閾值,表3-2列出了常見半導(dǎo)體材料的波長閥值。3-2則是由GaxIn1-xAsGaxIn1-xAsyP1-y合金制成非本征吸雜質(zhì)吸自由激子吸晶格吸7.半導(dǎo)體的光學(xué)性質(zhì)有如下特氯化鈉為7.半導(dǎo)體的光學(xué)性質(zhì)有如下特氯化鈉為2)摻雜后造成部分較低的局域能級,如Cr3+有未充滿的電子組態(tài)3d54s1(1.7eV8.發(fā)光二圖3- PN結(jié)發(fā)光二極管示意N`型半導(dǎo)體導(dǎo)帶中有電子,價(jià)帶中無空穴,故不發(fā)n與pp-n9.光導(dǎo)電n與pp-n9.光導(dǎo)電亮態(tài)下,即存在光照時(shí)N:單位體積中復(fù)合中心的數(shù)目V:載流子的漂移S:載流子漂移的1ABn0nn(AB)/VS1/0 Bn(B/NS)1/(光電導(dǎo)率)ne(電子遷移速度10.光電導(dǎo)弛豫過10.光電導(dǎo)弛豫過3-14矩形脈沖光照弛豫過程3-15正弦光照弛豫過程3-15正弦光照弛豫過程的空穴增加,電阻率變小。光敏電阻常用的半導(dǎo)體材料有硫化鎘(CdS,ΔEg=2.4eV(CdSe,ΔEg=1.8eV)參考文崔秀山,固體化學(xué)基礎(chǔ),北京:北京理工大學(xué)出版社,AllenandThomas,TheStructureofMaterials,JohnWiley&Sons,NewYork,1999.Section5.1.6,“PointImperfectionsinIonicCrystals,”pp.263–270containsagoodintroductiontoKr¨oger-Vinknotation,SchottkyandFrenkeldefects,andimpurity-ionincorporation.Chiang,Birnie,andKingery,PhysicalCeramics,JohnWiley&Sons,NewYork,1997.2.1,“PointDefects,”3.2,“AtomisticDiffusionProcesses,”and3.3,“ElectricalConductivity”areallrelevant.Also,seeinformationonoxygensensorsonpp.142–146and234–235.第五擴(kuò)散與物質(zhì)遷5.1擴(kuò)散定 第五擴(kuò)散與物質(zhì)遷5.1擴(kuò)散定 擴(kuò)散系數(shù)D與濃度相關(guān)時(shí)的求 原子跳躍頻率(jump 5.3.2五種擴(kuò)散機(jī) 5.4擴(kuò)散系 5.5影響擴(kuò)散的因 ★ 專題選 5.1擴(kuò)散定菲克第一定律:JDC,式中的J是擴(kuò)散通量,單位為g/(cm2sec)5.1擴(kuò)散定菲克第一定律:JDC,式中的J是擴(kuò)散通量,單位為g/(cm2sec) Dzz);對一維擴(kuò)散J 菲克第二定律 (DC)VCRA,描述了濃度隨時(shí)間的變化規(guī)律5.1.1引入:物質(zhì)流——菲克第一定式中WAxAXg/(cm2secADJJAxAXmol/cm2sCADAJAxAXmol/cm2sCADA C AJD5.1.2非穩(wěn)態(tài)擴(kuò)散——菲克第二定A5.1JAx A DA A xDCCVD制膜、粉體,A(g)B(g)C(s nnAnADABAwA(n nnAnADABAwA(nAnBnAnAxinAyjnAz xiyjzJADABAxyz)yz zAzz)xyRAnA對于(5-1)式兩邊加nA(DABA)nAwAwAn/vnAvAAv-DABA vxvxyvyzvz nAvA-(DABA vA(DABA)其中第一項(xiàng)vA代表宏觀流動(dòng),第二項(xiàng)(DABA)代表微觀擴(kuò)散,第三項(xiàng)RA為化學(xué)CC)vA(DABA)其中第一項(xiàng)vA代表宏觀流動(dòng),第二項(xiàng)(DABA)代表微觀擴(kuò)散,第三項(xiàng)RA為化學(xué)CC)vAABA5.1.3求解擴(kuò)散對于一維擴(kuò)散模型,有 JxAAxxxAJJxdJxdC Dx2(即菲克第二定律5.2 r 2rrL2rrL2rLJrrrrJDdJrdC LrDdrdCrdr DrdC5.3rdr 4rDrdC5.3rdr 4r2JrrrrrDdr2dC rrdCD r5.4將質(zhì)量濃度為2A棒和質(zhì)量濃度為1B棒焊接在一起,焊接面垂直于x軸,然5.5擴(kuò)散偶的成分-(x=0若焊接面右側(cè)棒的原始質(zhì)量濃度為零時(shí),則(5-13)式簡化碳質(zhì)量濃度為0的滲碳零件可被視為半無限長的擴(kuò)散體,即遠(yuǎn)離滲碳源的一端的碳質(zhì)量濃假定滲碳一開始,滲碳源一端表面就達(dá)到滲碳?xì)夥盏奶假|(zhì)碳質(zhì)量濃度為0的滲碳零件可被視為半無限長的擴(kuò)散體,即遠(yuǎn)離滲碳源的一端的碳質(zhì)量濃假定滲碳一開始,滲碳源一端表面就達(dá)到滲碳?xì)夥盏奶假|(zhì)量濃度s如果滲碳零件為純鐵(0=0),則上式簡化為BABA薄膜源,然后將此擴(kuò)散偶進(jìn)行擴(kuò)散退火,那么在一定的溫度下,金A溶質(zhì)在金屬B棒中的濃度將隨退火時(shí)間t而變。5.61rdCdr2r rA,則CAlnr1CrC1Alnr1CrC2Alnr2AC1C1Ar r2lnln CC1C2lnrC122rrlnlnH22HCrC2Alnr2AC1C1Ar r2lnln CC1C2lnrC122rrlnlnH22H根據(jù)西特華(Sievert)定律得不純KP1/C11KP1/C22P PKDP PC1DC1JD1212xA→BA濃度為解:反應(yīng)速度nkCAaRr4r2n4r2rrrrr兩邊同時(shí)除以4r2r,并令r0Jrrr Ar邊界條件:r=RCA f CA11frf rCr1frfr rrfrfCrrf2rrrCrASrrCrr2fr1frfr rrfrfCrrf2rrrCrASrrCrr2frkDeffaArr2fr kaC Cr2frkaKfr2reKreeKrefr22frC1coshKrC2sinhr=0RCr=R時(shí),CR=C 22kaCARsinhCAkCrsinhrRk 4A的消耗速度為:3CA 2rkakaCAS CASR keffrkkrDRRkakaka CASR CASkakaCAS CASR keffrkkrDRRkakaka CASR CASeffrkrkDRRkC4R2ASR DeffkkC2CR 催化效率:W4kaCAS 3kkeffRR kaR,則3KcothKKKD5.1.4置換型固溶體中的5.1.5擴(kuò)散系數(shù)D與濃度相關(guān)時(shí)的求D也隨之增加。因此菲克第二定律應(yīng)t=05.1.5擴(kuò)散系數(shù)D與濃度相關(guān)時(shí)的求D也隨之增加。因此菲克第二定律應(yīng)t=0時(shí),若=+,則若=-,則現(xiàn)求質(zhì)量濃度為時(shí)的擴(kuò)散系數(shù),在和之間。對-式積1d1d(Dd)(Dd(Dd20dd )(D 因?yàn)楫?dāng)=d0(Dd dxxd所 D(1) 2td01俁野確定了0xdx=01tdxd01005.2i:iFiiF1vB iiA1Bi力NA1i1tdxd01005.2i:iFiiF1vB iiA1Bi力NA1iJvC iiNiRTlno i1lnaiC則J iii1lnCCxiiCiiN1lnaidCiJ dxiii1lnaix iii1lnaiNlnxiiBkTlnDln ilnailnxilnlnDBkTi)ln i1ln0物質(zhì)由高濃度ln1lnriln1ln物質(zhì)由低濃度高濃度擴(kuò)散(上坡擴(kuò)散lncmVBVB11ln0物質(zhì)由高濃度ln1lnriln1ln物質(zhì)由低濃度高濃度擴(kuò)散(上坡擴(kuò)散lncmVBVB1J/NVBV/V/x1F VxBAA原子的摩爾化學(xué)位GARTlnaARTlnCA(aA和CAABARTln CV ANalnCABACA NaABARTln BkTADABkTADA5.3擴(kuò)散的微觀5.3.1原子跳躍頻率(jump原子擴(kuò)散必須克服一定的能壘,G=G2-G1G2的原子才能發(fā)生跳躍(jumpmigration。T溫度下具有跳躍條件的原子分?jǐn)?shù)(稱為幾率jumpprobability)n/Nn/N=exp(-△G/Г=根據(jù)擴(kuò)散方程及數(shù)學(xué)推倒得:D5.3.2五種擴(kuò)散(interstitialcymechanism)(也叫篡位式) b.擠列機(jī)制(crowdionconfiguration)c.躍遷機(jī)制(jumpmigration。 Gm的擴(kuò)散系數(shù)可以表述為:D NVv0exp 6Smigelkas和Kirkendall實(shí)驗(yàn),把Cu和w(Zn)=30%的Cu-Zn合金焊合起來,原始焊合面離子晶體中大部分為空位機(jī)制擴(kuò)散,如MgO、NaCl、FeO、離子晶體中大部分為空位機(jī)制擴(kuò)散,如MgO、NaCl、FeO、CoO小,這是由于鍵的方向性和高的鍵能,使得自擴(kuò)散活化能>熔點(diǎn)相近金屬的活化能,所以分別代表這四種擴(kuò)散途徑的擴(kuò)散則有:QsQgQdQl,DsDgDdDl可見擴(kuò)散由1)到4)是由易到難的,故一般情況下晶體內(nèi)的擴(kuò)散以晶格擴(kuò)散為控速環(huán)節(jié)。5)原子通過位錯(cuò)擴(kuò)散。溫度越低,原子在位錯(cuò)中的時(shí)間越長,diffusion鄰的平衡位置間跳動(dòng)所需越過的能壘為GmfZvfexp(Gm)D1d6D1d2fZexp(Gm)exp(Gs6由GmHmTSm和GsHsTSs1Hm S1D d2fZ s)exp( 6把式中與溫度無關(guān)的項(xiàng)合并設(shè)1Hm S1D d2fZ s)exp( 6把式中與溫度無關(guān)的項(xiàng)合并設(shè)k, 1ms)2D0)1lnD。做lnD 1m20kTT,低溫時(shí)熱缺陷的貢獻(xiàn)小,斜率為(Hm,bccm2kkLatticediffusioncoefficientsofsubstitutionalsolutesinbcc5.45.4.1自擴(kuò)散gradientd(dρ/dx1.nlimknknN5.45.4.1自擴(kuò)散gradientd(dρ/dx1.nlimknknN1均方位移量 ,定義為222kkkk12 2k5.82.RjRi5.911NN2dnRnRR r1r1r1r2r1r3r1r4r1rnr2r1r2r2nRnRR r1r1r1r2r1r3r1r4r1rnr2r1r2r2r2r3r2r4r2rnr3r1r3r2r3r3r3r4r3rnrnr1rnr2rnr3rnr4rnn R r rn1nn1nnn ir rr r2ri,ij1j1每次跳躍距離為n1nna2i,ini12n1n n12/ncosi,i2i1cosi,i112R 則nn又n= D=Rnft6D/(for3-(for2-(for1-D*16D*B*fDff1f15.4.2本征擴(kuò)散1其中iD*B*fDff1f15.4.2本征擴(kuò)散1其中iRTlnF0iNFB1iiNdlnaiJvCBFCCBB ii xilni)dlnaidlnaiJBBBRT(1i iiln dlnxiiilnDBRT(1) lni形成化合物。如Fe3C形成。氣體中的擴(kuò)散1氣體的擴(kuò)散系數(shù)可以寫為 D v3v2d2其中,v:氣體最可幾速率;:分子平均自由程;m:分子質(zhì)量;d:氣體分子直徑1/2T3/218k kkD B形成化合物。如Fe3C形成。氣體中的擴(kuò)散1氣體的擴(kuò)散系數(shù)可以寫為 D v3v2d2其中,v:氣體最可幾速率;:分子平均自由程;m:分子質(zhì)量;d:氣體分子直徑1/2T3/218k kkD B B 33m2d21/3/22T3/11B3 d BP B2 1VAB31/0.0018583T3/21 2mB 2P 1式中,AB為平均碰撞直徑,AB AB2 kA、B原子的碰撞積分,與無量綱溫度TTBTD 1/ kB kBAkBB0.001858318733/ 1 1 DFe1/ kB kBAkBB0.001858318733/ 1 1 DFe 2 FeDFe2.433.422.92Fe21/ 3521124kkBFekBArkT1873T BFeFe4.00cm2/DFe5.4.4多孔介質(zhì)與復(fù)合材料中的擴(kuò)散5.10多孔介質(zhì)中的擴(kuò)散示意圖(a)和周期性分布兩相介質(zhì)中的擴(kuò)散示意圖 V總體積V實(shí)際固體體積1V。WVWW:實(shí)際密實(shí)V實(shí)1 3 1vd 1DDDDD 212 21111 WVWW:實(shí)際密實(shí)V實(shí)1 3 1vd 1DDDDD 212 21111 D2211例如:Φ D1221例如:ΦD12 15.4.5液體中的擴(kuò)散速為零,粘度為,則質(zhì)點(diǎn)受到的作用力FfV,體積中存在化學(xué)位梯度0kTlnx0kTB1Bc 0kBTlnc1kBTlnc1c2kBcC>>C 1c1JcV11kDkDDV1/kTDBkBcC>>C 1c1JcV11kDkDDV1/kTDB0 VD102~105cm2/s;a2b21/aa2b21/2ba2b21/a2b21/2b25.4.6固體中的擴(kuò)散D106~1049cm2/s5.55.51)溫2)固溶體Cγ-Fe中,1200K時(shí),Dc=1.61×10-11m2/s;Niγ-Fe中,1200K時(shí),DNi=2.08×10-晶體結(jié)大約是-Fe240倍。所有元素在-Fe中的擴(kuò)散系數(shù)都比在-Fe中大,其原因是體心立方D0Q值都不相同。規(guī)律:基體金屬原子間的V(2108K)、Nb(鈮,2793K)、W(鎢,3653K)Q169(kJ/mol的對稱性對D也有影響。例如,900℃時(shí)碳在α-Fe(bcc)和γ-Fe(fcc)D分別為:1.6×10-10m2/s和速度更快。這主要是因?yàn)樘荚釉讦?Fe中,間隙造成的晶格畸變更大。不同元素在同一基體金屬中擴(kuò)散,其擴(kuò)散常數(shù)D0和擴(kuò)散激活能Q各不相同。規(guī)律:擴(kuò)散晶體缺是:QL>QB>QS,所以DS>DB>DL。5.11為銀單、多晶體的D隨變化圖。從圖中可以看出:(1)單晶體的擴(kuò)散系數(shù)表DlD(2)Ag來說700oC以上D單晶≈D多;700oC以下D單晶<D(3)晶界擴(kuò)散也有各向異性。晶界擴(kuò)散比晶內(nèi)擴(kuò)散快的多。而對于間隙固溶體,溶質(zhì)原子半徑小易擴(kuò)散,其Dl≈Db5)化學(xué)成第三組元(或雜質(zhì))對二元合金擴(kuò)散也有影響,但很復(fù)雜。有些使D升高,D下降,有Cr-FeD的影響:(1)碳化物形成元素:W、Mo、CrD(2)Mn對D影響不大;(3)Fe中元素影響不同。Co、NiD升高,Si等使D下降。6)應(yīng)力和磁場的磁性:具有磁性轉(zhuǎn)變的金屬在鐵磁性狀態(tài)下的比順磁性狀態(tài)下擴(kuò)散慢,D5.6摻雜濃度與對擴(kuò)散的影5-21的關(guān)系,只不過右邊應(yīng)再乘以摻雜引起的空位濃度;另外,必KCl中摻入CaCl21)當(dāng)加入微量CaCl2(加入量小于CaCl2磁性:具有磁性轉(zhuǎn)變的金屬在鐵磁性狀態(tài)下的比順磁性狀態(tài)下擴(kuò)散慢,D5.6摻雜濃度與對擴(kuò)散的影5-21的關(guān)系,只不過右邊應(yīng)再乘以摻雜引起的空位濃度;另外,必KCl中摻入CaCl21)當(dāng)加入微量CaCl2(加入量小于CaCl2KCl中的固溶度)CaV'2Cl,有[VCaCl],則2 K2exp(HmHs/ )[CaCl K2exp(Gp)[CaK][VK2)當(dāng)加入的CaCl2超過固溶度時(shí),由固溶平衡:[CaCl2[CaCl]1/2exp(Gp)exp(Hs/2 K2]1/2exp(HmHs/2Gp/DK0'[CaCl)5.7非化學(xué)計(jì)量化合物中的1.陽離子空位型,如對FeONiOCoOMnO等缺陽離子型 1O2MVM2 2K exp 1/P 161fdZ[V'']exp( )fd2Z21/exp( )exp( )1/3DMM64lnDM~lnPO()2 ~1(氧分壓一定)MT 1O2MVM2 2K exp 1/P 161fdZ[V'']exp( )fd2Z21/exp( )exp( )1/3DMM64lnDM~lnPO()2 ~1(氧分壓一定)MT 1O(g)=OV2 2[V][Fe K 1022VKexpG/RT2004[Vexp(G0/RT)122111042 62NVv )06111 v()36.exp( 0).exp( m0 SS/HH/111 6 ).exp( (30 R HH6 D0ab15.12a 6當(dāng)氧分壓不變時(shí),做lnDM~T圖(5.12b1 1ms);低溫區(qū)由于熱缺陷影響很小,又考慮到非化學(xué)計(jì)量的2故斜率為k 1Om3響,斜率為),其中Ho表示氧氣“溶解”的自由焓kO1Og b15.12a 6當(dāng)氧分壓不變時(shí),做lnDM~T圖(5.12b1 1ms);低溫區(qū)由于熱缺陷影響很小,又考慮到非化學(xué)計(jì)量的2故斜率為k 1Om3響,斜率為),其中Ho表示氧氣“溶解”的自由焓kO1Og O2O2K Ge1132K0022 221 1G3exp04P6OO 26 Gv0VOmD11S S/H/21 P6 m0 m0O604 2 H/3D 0m6 21 6HmH03R1 6HmH03R)計(jì)量擴(kuò)散(非本征擴(kuò)散或雜質(zhì)擴(kuò)散5.13DT5.8擴(kuò)散系數(shù)與電導(dǎo)率的關(guān)電流的表達(dá)式:IJZeZ為導(dǎo)電離子的價(jià)數(shù),J為電流密度,eVBFB(eZx JVxC(C是該離子的密度5-22CeZBCZ2e2。又電導(dǎo)率IIx BCZ CZ。 DCZHmHf R HmH03(R R空穴)都參與導(dǎo)電,總的電導(dǎo)率i 空穴)都參與導(dǎo)電,總的電導(dǎo)率i 描述了當(dāng)晶體中有多種離子導(dǎo)電時(shí),第i種離子對總電導(dǎo)率的貢獻(xiàn)。當(dāng)然ti1ii,同理可以由iDiC2i題選1CaO穩(wěn)定ZrO2制成的氧分壓傳感PPt:PO2O2212設(shè)C端氧分壓 較A端 OO22CO24e'2O2;A2O24e'O2CO24e'2O2;A2O24e'O22PGRTlnP2RTln RTlnO2 ,又Nerst方程:電化學(xué)反應(yīng)的吉布斯11P能變GZEFZ為反應(yīng)所轉(zhuǎn)移的電荷數(shù),E為電極間的電動(dòng)勢差,F(xiàn)2P2GRT4EF。 P1exp(1P例2.用NiNiO參比電極測冶煉無氧銅時(shí)的瞬時(shí)氧1斷的監(jiān)控。我們可以認(rèn)為外界的氧氣溶在液銅中:O2O2圖5.15ON-LINEREDOXSENSORSININDUSTRIALGLASSMELTINGP.R.Laimb?ck*,TNO-TPD,Eindhoven(NL)E-mailaddress:p.laimbock@emf 2)(5- 1Ni ONiO emf 2)(5- 1Ni ONiO NiO1G lnaO(參比電極(5-2這里,aO2參比電極)為氧氣活度,Gr為反應(yīng)的吉布斯自由能,根據(jù)熱力學(xué)Gr467543169.996TJ/(5-log(pO(玻璃熔體=20.171*2TNi/NiO1050℃1400℃之間精確的測量氧分壓(Ni1455℃1650℃。Mo/MoO2的吉布斯自由能為586343178.619TJmollog(pO(玻璃熔體=20.171*2TZrO2NiNiO參比電極測FeO的標(biāo)準(zhǔn)生成吉布斯自由能變3.用CaO穩(wěn)NiNiONiO2e'NiOFeO2FeOFeNiONiGGGGFeOGNiO312FeO的生成吉布斯自由能變GFeOGNiO2EF。從而可求出GFeO于NiO和FeO標(biāo)準(zhǔn)生成吉布斯自由能變是于NiO和FeO標(biāo)準(zhǔn)生成吉布斯自由能變是隨溫度的不同而變化的,所以通過上式還可得f(TABT例4.用CaO穩(wěn)定ZrO2和CoCoO參比電極測CoAl2O4的標(biāo)準(zhǔn)生成吉布斯自由能CoAl2O4是無法用單質(zhì)直接制取的一種化合物,一般用CoO和Al2O3合成,所以CoO2e'CoOOCoCoAl2O4總的反應(yīng)式就是:CoOAl2O3故反應(yīng)(5-31)的吉布斯自由能變就是CoAl2O4的標(biāo)準(zhǔn)吉布斯生成能,G2EF第五章第五章固相反應(yīng)動(dòng)力5.1固相反應(yīng)的概念和Ts。不同物質(zhì)的泰曼溫度與其熔點(diǎn)Tm之間存在著一定關(guān)系。例如金屬Ts0.3~0.4Tm,硅酸鹽為0.8~0.9Tm,鹽類為0.57Tm;Kingery則從下述三個(gè)方面來描述固相反應(yīng)的概念和特點(diǎn)純固相反應(yīng),一般都是放熱反應(yīng)。這種純固相反應(yīng),其反應(yīng)的熵變△S小到可以忽略不計(jì),即T△S→0。因此△G≈△H。所以,沒有液相或氣相參與的固相反應(yīng)只有△H<0時(shí),5.2固相反應(yīng)的過5.2固相反應(yīng)的過程及5.2.1固相反應(yīng)的過5.1(a)300℃.反應(yīng)物混合時(shí)已互相接觸。隨溫度的升高,5.1(5.1(d)所示。溫度約在550~620°C,由于溫度的升高,一種反應(yīng)物的質(zhì)點(diǎn)擴(kuò)散到如圖5.1(f)所示。溫度約在800°C以上。晶格結(jié)構(gòu)校正,消除缺陷。使之趨于熱力學(xué)5.2.2固相反應(yīng)的機(jī)理及分5.3相反應(yīng)動(dòng)力5.3.1一般動(dòng)力學(xué)關(guān)前提:穩(wěn)定擴(kuò)散過程:1、M-OMOC5.3相反應(yīng)動(dòng)力5.3.1一般動(dòng)力學(xué)關(guān)前提:穩(wěn)定擴(kuò)散過程:1、M-OMOC5.2=1+D1=1+1+K DC0>>化學(xué)反應(yīng)速率(DC0/>>KC0)時(shí),反應(yīng)阻力主要來源于化學(xué)反應(yīng)-->>1 推 5.3.2固相反應(yīng)動(dòng)力1 推 5.3.2固相反應(yīng)動(dòng)力mA+nB→pCVRACA、CB、CCA、B和C的濃度;KKK0exp{GR/式中KK0為常數(shù),△GR為反應(yīng)活化固相反應(yīng)一般是發(fā)生在相界面上,反應(yīng)物、生成物并不是均勻分布于介質(zhì)中,故R3-(R1RxR 3003R0dG當(dāng)反應(yīng)物顆粒為球形時(shí),有:x=R0[1-(1-dG/dt=4kNR0(1-G)(1-G)=k1(1- F(G)=[(1-G)-2/3-1]=1x于是 4反應(yīng)物顆粒初始體積V 3103未反應(yīng)部分的體積V4(R2034產(chǎn)物的體積V1x于是 4反應(yīng)物顆粒初始體積V 3103未反應(yīng)部分的體積V4(R2034產(chǎn)物的體積V [(R(R3 3 (R3(RxG 1 )3VR100x13x2R2[1(1G)1/3]201[11G)32KtKJJ反應(yīng)活化能求法:T1時(shí)→KJ(T1)T2時(shí)→KJ(T2)KAexp(GRJK(T)Aexp(GRK(T)Aexp(GR 12RT1T2反應(yīng)活化能求法:T1時(shí)→KJ(T1)T2時(shí)→KJ(T2)KAexp(GRJK(T)Aexp(GRK(T)Aexp(GR 12RT1T2lnKJ(T2GRTK(T 4r2dx=D4r2(CrRdxDC rM(x)(CC0R(RrRrRr2dxKRx2(12x)2K0x(R02DC22FK(G) G(1G)30.tR23n01(1K11(1K轉(zhuǎn)化率G<0.3,而金氏方程適合轉(zhuǎn)化率G<0.8。dxKRxdx令i0x(R 1(1K11(1K轉(zhuǎn)化率G<0.3,而金氏方程適合轉(zhuǎn)化率G<0.8。dxKRxdx令i0x(R i(1idx/dt=K/ii,dx/dti=0.5i=0(c)由Q~G作圖,Q K(132DC01(d)RKK2Rn005.3.3影響固相反應(yīng)速度的因行,而且△G的負(fù)值越大,反應(yīng)的熱力學(xué)推動(dòng)力也越大。反應(yīng)形成AB產(chǎn)物,若改A與B的比例就會(huì)影響到反應(yīng)物表面積和反應(yīng)界面積的大小,從而2G2G QKAexpDD0RRT,溫度升高均提高ZnO、CuO等,氣氛可直接影響晶體(a(b)(b(c)(c(d)第六傳第六傳6.1(Cussler,19846.1.1傳質(zhì)的速度與散,必須考慮各組分之間的相對運(yùn)動(dòng)速度以及該情況下的擴(kuò)散通量等問題。散,必須考慮各組分之間的相對運(yùn)動(dòng)速度以及該情況下的擴(kuò)散通量等問題。n=nA+nB=ρAuAuAuAkg/(m2混合物的總摩爾通量:N=NA+NB=cAuA+cBuBcAuAkmol/(m2mccAuAkmol/(m2mcAuA質(zhì)量通量A組分:ua(nnAA B組分:BuaB(nAnBcAuA摩爾通量:A組分:c x(NNA cB組分:cBumxB(NANB6.26.2.1分子傳A、Bc=cA+cBJ A A、Bc=cA+cBJ A 該關(guān)系說明:對雙組分混合氣體,在進(jìn)行等摩爾反方向分子擴(kuò)散時(shí),A在B中和B在A中的分子擴(kuò)散系數(shù)相等,以后以D表示。ABA組分的分壓差,所以組分A不斷向右進(jìn)行分子擴(kuò)散,并進(jìn)入液相中去,而液相中無任6.3Jc(uu)DdcAcuDdcAu AANccux(NN AA NDdcAx(NNA 同理:nDdAa(nnA 6.2.2渦流擴(kuò)散起主要作用)。由于渦流擴(kuò)散的復(fù)雜性,渦流擴(kuò)散通量常借助菲克第一定律的形式表或——渦流質(zhì)量通量6.2.2渦流擴(kuò)散起主要作用)。由于渦流擴(kuò)散的復(fù)雜性,渦流擴(kuò)散通量常借助菲克第一定律的形式表或——渦流質(zhì)量通量——渦流摩爾通量——渦流擴(kuò)散系數(shù),m2/s6.2.3對流 A和組分B擴(kuò)散通量之間的關(guān)系,可以定義出相應(yīng)的多種形式的對流傳質(zhì)系數(shù)。情況下kc的數(shù)值不同而已。一般而論,kc與界面的幾何形狀、流體的物性、流型以及濃度差等因素有關(guān),其中流型的影響最為顯著。kc的確定方法與對流傳熱系數(shù)h的確定方法類6.2.4濃度邊界AA6.4在CA~xCA6.4在CA~xCA~Z圖上的(CAs,0)點(diǎn)處做曲線的切線,與CACA點(diǎn)與壁面間形成的膜層稱為停滯膜層,或者說,濃度隨距離的降低只發(fā)生在厚度內(nèi)。而且的”濃度邊界層”。當(dāng)我們攪拌水時(shí),相當(dāng)于加快了水的流動(dòng)速度,則因此下降,k增6.2.5控速1)A擴(kuò)散到C若用nA,nB, 6.3對如圖6.5的情O2擴(kuò)散Fe中,設(shè)O2Fe表面的濃度為C2,離Fe表面d處濃度不變且為C(CCJDC-DC2C1 dD dJ(C1C26.5傳質(zhì)系數(shù)的單位是cm/sec。擴(kuò)散通量可以用高濃度與低濃度之差乘以傳質(zhì)系數(shù)來計(jì)算,6.3.1R——擴(kuò)散質(zhì)點(diǎn)的半徑;(cmV——擴(kuò)散質(zhì)點(diǎn)的穩(wěn)定的移動(dòng)速度;(cmsecStokes-Einstein引起的。濃度梯度作用在分子上的力FF1由VBFB DBkTDDabT的形式。6.3.2m為氣體分子質(zhì)量1 3DF1由VBFB DBkTDDabT的形式。6.3.2m為氣體分子質(zhì)量1 3D2(kT)3/2 , 32d2d2m 即D md22d2DD 2(kT)3/2111)1/3d P( B)2AB理論公式1/1.8825107T3/2 M氣體:D 2 B 稀溶液:D6經(jīng)驗(yàn)公式1/4.3559105T3/2M氣體:D Bp(V1/3V1/3M B1/11MD經(jīng)驗(yàn)公式1/4.3559105T3/2M氣體:D Bp(V1/3V1/3M B1/11MDp[(v)1/3(v1/3 BABT稀溶液:D7.41015)1/BVBDV1/B6.46.4.1穩(wěn)態(tài)擴(kuò)散-薄膜法(DiaphragmcellCD1ln) 1topC) 1topA11LV 的體積。A、L及V都是儀器的參數(shù)。NorthropAndersmMcbrain,Moaquain的體積。A、L及V都是儀器的參數(shù)。NorthropAndersmMcbrain

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