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材料分析與測試技術(shù)智慧樹知到期末考試答案2024年材料分析與測試技術(shù)X射線衍射定量分析,預先繪制內(nèi)標曲線時()
A:保持入射X射線角度不變B:保持待測物濃度不變C:保持內(nèi)標物濃度不變D:保持各物相濃度均不變答案:保持內(nèi)標物濃度不變掃描電子顯微鏡真空系統(tǒng)的作用是()。
A:防止電子槍極間放電和樣品污染B:防止信號收集器受損C:防止電磁透鏡受損D:防止顯像管受損答案:防止電子槍極間放電和樣品污染原子熒光光譜與原子發(fā)射光譜的共同點()。
A:電、熱能使氣態(tài)原子外層電子躍遷產(chǎn)生的發(fā)射光譜。B:氣體物質(zhì)外層電子躍遷產(chǎn)生的發(fā)射光譜。C:氣態(tài)原子外層電子躍遷產(chǎn)生的發(fā)射光譜。D:輻射使氣態(tài)原子外層電子躍遷產(chǎn)生的發(fā)射光譜。答案:氣態(tài)原子外層電子躍遷產(chǎn)生的發(fā)射光譜。當離子填隙形成固溶體時,衍射儀法采集的晶面衍射角度將()
A:無法判斷B:變小C:變大D:不變答案:變小關(guān)于X射線照射到電子上,對于散射強度描述正確的是()
A:各方向強度存在差異B:各方向強度相等C:垂直入射線方向強度最強D:入射線方向強度最弱答案:各方向強度存在差異X射線衍射儀光路上的濾波片用途是()
A:去除噪聲B:去除Kβ線C:增強X射線強度D:去除Kα線答案:去除Kβ線在入射電子束作用下被轟擊出來并離開樣品表面的樣品原子的核外電子稱為()。
A:背散射電子B:俄歇電子C:透射電子D:二次電子答案:二次電子選區(qū)光闌在透射電子顯微鏡中的位置是()
A:物鏡的前焦面B:物鏡的像平面C:中間鏡的物平面
D:物鏡的后焦面答案:物鏡的像平面電子衍射成像操作是將()
A:關(guān)閉中間鏡B:中間鏡的物平面與物鏡的像平面重合C:關(guān)閉物鏡。D:中間鏡的物平面與物鏡的背焦面重合答案:中間鏡的物平面與物鏡的背焦面重合入射X射線和散射X射線波長關(guān)系為()
A:二者一定相等B:前者一定大于后者C:二者可能相等D:前者一定小于后者答案:二者可能相等光柵是利用其對光的()作用來分光的。
A:折射作用B:干涉作用C:衍射作用D:偏振作用答案:衍射作用首次發(fā)現(xiàn)X射線衍射現(xiàn)象的人物是()
A:勞厄B:德拜C:愛因斯坦D:倫琴答案:勞厄影響掃描電子顯微鏡分辨率的主要因素有()。
A:樣品的厚度B:樣品的表面形貌C:檢測信號的種類D:樣品的組成答案:檢測信號的種類原子的反常散射會使原子散射因子()
A:不變B:變大C:都有可能D:變小答案:變小棱鏡是利用其對光的()作用來分光的。
A:衍射作用B:偏振作用C:干涉作用D:折射作用答案:折射作用背散射電子像主要用于()。
A:顯示相的形狀、尺寸及其分布B:材料極表層的成分定性和定量分析C:定性分析材料的成分分布D:斷口分析答案:定性分析材料的成分分布;顯示相的形狀、尺寸及其分布勞厄衍射采集到的衍射斑點分布可能為()
A:正方形B:橢圓C:直線D:雙曲線答案:橢圓###雙曲線###直線X射線衍射強度和以下哪些因素有關(guān)()
A:原子坐標B:入射X射線強度C:衍射角度D:原子類別答案:衍射角度###原子類別###原子坐標###入射X射線強度掃描電鏡二次電子像提供的表面形貌襯度應用極其廣泛,主要包括()。
A:斷口分析B:粉末形貌分析C:磨損及腐蝕分析D:金相分析答案:斷口分析###磨損及腐蝕分析###粉末形貌分析###金相分析光譜分析方法信號的產(chǎn)生的主要過程有()。
A:信號放大及處理B:產(chǎn)生被檢測的信號C:電磁輻射與物質(zhì)的相互作用D:能源提供能量答案:能源提供能量###電磁輻射與物質(zhì)的相互作用###產(chǎn)生被檢測的信號X射線衍射發(fā)生需滿足()
A:結(jié)構(gòu)因子不為零B:結(jié)構(gòu)因子等于零C:衍射幾何條件D:反射定律答案:衍射幾何條件###結(jié)構(gòu)因子不為零單晶電子衍射花樣的標定中,嘗試-校核法,衍射斑點指數(shù)的標定具有唯一性。()
A:對B:錯答案:錯滿足布拉格定律的衍射方向上,結(jié)構(gòu)因子不為零,則衍射線具有強度。()
A:錯誤B:正確答案:正確透射電子顯微鏡中主要是電磁透鏡,由于電磁透鏡不存在凹透鏡,因此不能像光學顯微鏡那樣通過凹凸透鏡的組合設計來減小或消除像差,因此透射電鏡中的像差都是不可以消除的。()
A:正確B:錯誤答案:錯誤一束X射線照射一個原子列(一維晶體),只有鏡面反射方向上才有可能產(chǎn)生衍射。()
A:對B:錯答案:錯倒易點陣中,通過倒易點陣原點O*且與某一晶向[uvw]垂直的倒易面有多個。()
A:錯誤B:正確答案:錯誤背散射電子產(chǎn)額隨樣品平均原子序數(shù)增大而減小。()
A:對B:錯答案:錯根據(jù)特征X射線的產(chǎn)生機理和命名規(guī)則,可知λKβ<λKα。()
A:正確B:錯誤答案:正確電子顯微鏡中的電子衍射等同于普通的電子衍射,電子顯微鏡中電子衍射基本公式中的L等于試樣到底片之間的距離。()
A:正確B:錯誤答案:錯誤PDF卡片上通常記載了選用剛玉作為內(nèi)標物時,物質(zhì)對應的K值。()
A:錯誤B:正確答案:正確勞厄使用的衍射方法主要用于多晶體的研究。()
A:對B:錯答案:錯需要測定化合物中是否含有羰基,可以采用的光譜方法為()。
A:紫外可見吸收光譜B:紅外吸收光譜C:原子吸收光譜D:X射線熒光光譜答案:AI參考:正確答案是B:紅外吸收光譜。\n\n羰基(C=O)的特征吸收峰在紅外光譜中位于2850cm-1(伸縮振動峰)和1725cm-1(彎曲振動峰),因此紅外光譜法可以用于測定化合物中是否含有羰基。紫外可見吸收光譜法主要用于測定有機化合物中的共軛體系,原子吸收光譜法用于測定金屬元素,X射線熒光光譜法用于測定元素種類。因此,本題答案為B。'在透射電子顯微鏡,薄晶試樣的襯度像的成像機制是()
A:衍射襯度B:吸收襯度C:散射襯度D:質(zhì)厚襯度答案:AI參考:在透射電子顯微鏡,薄晶試樣的襯度像的成像機制是**衍射襯度**。\n\n衍射襯度機制主要是由于樣品中不同區(qū)域的衍射強度不同造成的。在樣品中,電子束經(jīng)過區(qū)域密度不同的原子面,衍射強度不同,形成不同的襯度,進而形成了樣品的高、低襯度。這種襯度與樣品厚度無關(guān),因此也被稱為質(zhì)厚襯度。這種機制主要適用于透射電子顯微鏡。'在透射電鏡試樣的制備中,對于導電試樣的最終減薄,一般采用()方法。
A:化學減薄B:離子減薄C:機械減薄D:電解雙噴減薄答案:AI參考:在透射電鏡試樣的制備中,對于導電試樣的最終減薄,一般采用電解雙噴減薄方法。電解雙噴減薄是一種常用的試樣制備方法,用于對導電性良好的材料進行減薄。該方法通過在電解液中噴射兩種不同方向的電流,使得材料表面逐漸被腐蝕,從而達到減薄的目的。因此,本題的正確答案是D。'下列哪種定量方法適合來進行河水中重金屬元素的含量測定。()
A:標準光譜圖對照B:標準曲線法C:標準加入法D:比較黑度法答案:AI參考:正確答案為B:標準曲線法。標準曲線法是一種常用的定量方法,它適用于測定溶液中各種離子的濃度。該方法首先根據(jù)各種離子濃度的特點繪制標準曲線,然后將樣品中的離子進行測量,根據(jù)測得的數(shù)據(jù)與標準曲線的比較,確定樣品中離子濃度。這種方法準確度高、靈敏度高、操作簡便,因此適合進行河水中重金屬元素的含量測定。其他選項中,A、C、D并不適合進行河水中重金屬元素的含量測定。\n\n希望以上答案對你有幫助。'X射線吸收限產(chǎn)生的原因是()
A:康普頓散射B:光電效應C:彈性散射D:湯姆遜散射答案:AI參考:正確選項是【B:光電效應】。\n\nX射線吸收限的產(chǎn)生原因是光電效應,當X射線照射在物質(zhì)上時,能量被物質(zhì)中的原子吸收而產(chǎn)生出光電子,這些光電子就是散射的光量子,光電子的產(chǎn)生依賴于光的頻率大于某一閾值。光電效應在電子技術(shù)中具有重要意義。因此選項B正確。其他選項康普頓散射、彈性散射和湯姆遜散射雖然也是散射現(xiàn)象,但是它們和X射線吸收限的產(chǎn)生無關(guān)。'以下哪種X射線衍射定量方法最適用于物相種類固定且經(jīng)常性的大批量樣品分析工作()
A:間接法B:無法測定C:內(nèi)標曲線法D:任意內(nèi)標法答案:AI參考:正確選項為C:內(nèi)標曲線法。\n\n內(nèi)標曲線法是一種常用的X射線衍射定量方法,適用于物相種類固定且經(jīng)常性的大批量樣品分析工作。該方法通過建立一個標準曲線,將樣品中每個物相的衍射強度與相應的標準物相的衍射強度進行比較,從而確定樣品的物相組成和含量。這種方法具有較高的準確性和重復性,適用于經(jīng)常性的大批量樣品分析工作。相比之下,其他選項如間接法、無法測定和任意內(nèi)標法可能不適用于這種情況。'以下不能增大X射線衍射發(fā)生幾率的措施為()
A:增大X射線的強度B:改變?nèi)肷鋁射線角度C:轉(zhuǎn)動晶體D:改變X射線波長答案:AI參考:正確選項是D:改變X射線波長。\n\n增大X射線的強度、改變?nèi)肷鋁射線角度和轉(zhuǎn)動晶體都可以改變X射線衍射發(fā)生的幾率。增大X射線的強度可以增加衍射光子的數(shù)量,從而提高衍射發(fā)生的幾率。改變?nèi)肷鋁射線角度可以改變衍射光線的方向,從而增加衍射發(fā)生的幾率。轉(zhuǎn)動晶體可以改變晶體的結(jié)構(gòu)形態(tài),從而增加衍射發(fā)生的幾率。\n\n然而,改變X射線波長不會影響X射線衍射發(fā)生的幾率。因為X射線衍射是基于晶體的原子間距,而X射線的波長是由其產(chǎn)生的方式?jīng)Q定的,改變X射線波長不會改變晶體的原子間距,也就不會影響X射線衍射的發(fā)生。因此,不能增大X射線衍射發(fā)生幾率的措施為改變X射線波長。'下列關(guān)于紅外光譜的說法錯誤的是()。
A:特征吸收峰是指能代表基團存在,并有較高強度的吸收譜帶。B:紅外光譜的優(yōu)勢在于不需要結(jié)合制備過程及其他測試結(jié)果就能確定化合物的構(gòu)造。C:羰基的特征譜峰在1900~1550cm-1,為強吸收峰。D:指紋區(qū)是指1300cm-1以下的區(qū)域,包括不含氫的單鍵伸縮振動、彎曲振動及骨架振動。答案:AI參考:答案是D。指紋區(qū)是指1300cm-1以下的區(qū)域,包括不含氫的單鍵伸縮振動、彎曲振動及骨架振動。在這個問題中,D選項“指紋區(qū)是指1300cm-1以下的區(qū)域”表述錯誤,它指的是指紋區(qū)包括的是某些特征吸收峰所占據(jù)的區(qū)域,這些區(qū)域應該在紅外光譜圖的右側(cè)(高波數(shù)區(qū)域),而非下方(低波數(shù)區(qū)域)。所以選項D是錯誤的。其他選項都是正確的描述紅外光譜的特點和原理。\n\nA選項說特征吸收峰是指能代表基團存在,并有較高強度的吸收譜帶,這是對的。\n\nB選項說紅外光譜的優(yōu)勢在于不需要結(jié)合制備過程及其他測試結(jié)果就能確定化合物的構(gòu)造,這也是對的。\n\nC選項說羰基的特征譜峰在1900~1550cm-1,為強吸收峰,這也是對的。\n\n因此,本題答案為D。'對結(jié)構(gòu)因子計算公式進行化簡的前提條件是()
A:入射X射線強度高B:入射X射線為單色光源C:任何條件均可D:滿足衍射幾何條件答案:AI參考:正確選項是【D:滿足衍射幾何條件】。\n\n對結(jié)構(gòu)因子計算公式進行化簡的前提條件是需要滿足衍射幾何條件,即入射光束和樣品在空間上必須滿足布拉格衍射條件,否則衍射圖譜無法獲得。因此,選項D是正確的。選項A、B、C都不符合前提條件。'掃描電子顯微鏡的基本部分組成包括()。
A:控制系統(tǒng)B:電子光學系統(tǒng)C:信號收集和圖像顯示記錄系統(tǒng)D:真空系統(tǒng)答案:AI參考:答案為B、C、D。\n掃描電子顯微鏡的基本部分組成包括電子光學系統(tǒng)、信號收集和圖像顯示記錄系統(tǒng)、真空系統(tǒng)。電子光學系統(tǒng)為掃描電子顯微鏡提供電子束源并形成樣品所需的電子束,C選項正確;信號收集系統(tǒng)將電子束掃描樣品產(chǎn)生的信號收集起來;圖像顯示記錄系統(tǒng)將信號放大并轉(zhuǎn)換為可見圖像;真空系統(tǒng)保證儀器內(nèi)部達到高真空狀態(tài),以利于電子的傳輸。因此,答案為BCD。\n\nA控制系統(tǒng)通常用于控制掃描電子顯微鏡的各項操作,但它并不是掃描電子顯微鏡的基本部分組成,因此選項A不正確。\n\n因此,正確選項為BCD。'為了提高電磁的磁場集中在透鏡主軸方向更狹小的區(qū)域,可采取的措施有()
A:在線圈包裹軟磁鐵殼B:增加線圈的匝數(shù)C:加極靴D:增加線圈的電流強度答案:AI參考:為了提高電磁的磁場集中在透鏡主軸方向更狹小的區(qū)域,可采取的措施有:線圈包裹軟磁鐵殼、加極靴。\n\n選項B和D可能會對磁場產(chǎn)生影響,但并不是提高磁場集中在透鏡主軸方向更狹小區(qū)域的必要措施。而選項C中的極靴,它可以改變磁場的分布,使得磁場集中在主軸方向,從而提高了電磁在
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