電子工業(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn)（二次征求意見稿）

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

GB□□□□□-201□

電子工業(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn)

Emissionstandardofpollutantsforelectricalindustry

（二次征求意見稿）

前言

為貫徹《中華人民共和國(guó)環(huán)境保護(hù)法》、《中華人民共和國(guó)水污染防治法》、《中華人民共和國(guó)海

洋環(huán)境保護(hù)法》、《中華人民共和國(guó)大氣污染防治法》等法律、法規(guī)，保護(hù)環(huán)境，防治污染，促進(jìn)電

子工業(yè)的技術(shù)進(jìn)步和可持續(xù)發(fā)展，制定本標(biāo)準(zhǔn)。

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子工業(yè)企業(yè)或生產(chǎn)設(shè)施的水污染物和大氣污染物排放限值、監(jiān)測(cè)和監(jiān)控要求，

以及標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施與監(jiān)督等相關(guān)規(guī)定。為促進(jìn)地區(qū)經(jīng)濟(jì)與環(huán)境協(xié)調(diào)發(fā)展，推動(dòng)經(jīng)濟(jì)結(jié)構(gòu)的調(diào)整和經(jīng)濟(jì)增

長(zhǎng)方式的轉(zhuǎn)變，引導(dǎo)電子工業(yè)生產(chǎn)工藝和污染治理技術(shù)的發(fā)展方向，本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了水污染物和大氣

污染物特別排放限值。

電子工業(yè)企業(yè)或生產(chǎn)設(shè)施排放惡臭污染物、環(huán)境噪聲適用相應(yīng)的國(guó)家污染物排放標(biāo)準(zhǔn)，產(chǎn)生固

體廢物的鑒別、處理和處置適用國(guó)家固體廢物污染控制標(biāo)準(zhǔn)。配套的動(dòng)力鍋爐執(zhí)行《鍋爐大氣污染

物排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB13271）或《火電廠大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB13223）。

本標(biāo)準(zhǔn)為首次發(fā)布。

電子工業(yè)新建企業(yè)自2019年1月1日起，現(xiàn)有企業(yè)自2021年1月1日起，其水污染物和大氣

污染物排放控制按本標(biāo)準(zhǔn)的規(guī)定執(zhí)行，不再執(zhí)行《污水綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB8978）、《大氣污染物綜

合排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB16297）和《電鍍污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB21900）等標(biāo)準(zhǔn)中的相關(guān)規(guī)定。各地可

根據(jù)當(dāng)?shù)丨h(huán)境保護(hù)的需要和經(jīng)濟(jì)與技術(shù)條件，由省級(jí)人民政府批準(zhǔn)提前實(shí)施本標(biāo)準(zhǔn)。

本標(biāo)準(zhǔn)是電子工業(yè)水污染物和大氣污染物排放控制的基本要求。地方省級(jí)人民政府對(duì)本標(biāo)準(zhǔn)未

作規(guī)定的污染物項(xiàng)目，可以制定地方污染物排放標(biāo)準(zhǔn)；對(duì)本標(biāo)準(zhǔn)已作規(guī)定的污染物項(xiàng)目，可以制定

嚴(yán)于本標(biāo)準(zhǔn)的地方污染物排放標(biāo)準(zhǔn)。環(huán)境影響評(píng)價(jià)文件或排污許可證要求嚴(yán)于本標(biāo)準(zhǔn)或地方標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，

按照批復(fù)的環(huán)境影響評(píng)價(jià)文件或排污許可證執(zhí)行。

本標(biāo)準(zhǔn)由環(huán)境保護(hù)部水環(huán)境管理司、大氣環(huán)境管理司、科技標(biāo)準(zhǔn)司組織制訂。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草單位：中國(guó)電子工程設(shè)計(jì)院、環(huán)境保護(hù)部環(huán)境標(biāo)準(zhǔn)研究所、上海市環(huán)境科學(xué)研

究院、深圳市環(huán)境監(jiān)測(cè)中心站、中國(guó)電子電路行業(yè)協(xié)會(huì)、上海第二工業(yè)大學(xué)、信息產(chǎn)業(yè)電子第十一

設(shè)計(jì)研究院科技工程股份有限公司等。

本標(biāo)準(zhǔn)環(huán)境保護(hù)部201□年□□月□□日批準(zhǔn)。

本標(biāo)準(zhǔn)自2019年1月1日起實(shí)施。

本標(biāo)準(zhǔn)由環(huán)境保護(hù)部解釋。

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電子工業(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn)

1適用范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子工業(yè)企業(yè)或生產(chǎn)設(shè)施的水污染物和大氣污染物排放限值、監(jiān)測(cè)和監(jiān)控要求，以及

標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施與監(jiān)督等相關(guān)規(guī)定。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于電子專用材料、電子元件、印制電路板、半導(dǎo)體器件、顯示器件及光電子器件、電子

終端產(chǎn)品（含涂裝工藝在內(nèi)）等六類電子工業(yè)企業(yè)或生產(chǎn)設(shè)施的水污染物和大氣污染物排放管理，以及

這六類電子工業(yè)建設(shè)項(xiàng)目的環(huán)境影響評(píng)價(jià)、環(huán)境保護(hù)設(shè)施設(shè)計(jì)、竣工環(huán)境保護(hù)驗(yàn)收及其投產(chǎn)后的水污染

物和大氣污染物排放管理。其他電子工業(yè)企業(yè)或生產(chǎn)設(shè)施的水污染物和大氣污染物排放管理，參照本標(biāo)

準(zhǔn)執(zhí)行。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于法律允許的污染物排放行為。新設(shè)立污染源的選址和特殊保護(hù)區(qū)域內(nèi)現(xiàn)有污染源的管

理，除執(zhí)行本標(biāo)準(zhǔn)外，還應(yīng)按照《中華人民共和國(guó)水污染防治法》、《中華人民共和國(guó)海洋環(huán)境保護(hù)法》、

《中華人民共和國(guó)大氣污染防治法》、《中華人民共和國(guó)固體廢物污染環(huán)境防治法》、《中華人民共和

國(guó)環(huán)境影響評(píng)價(jià)法》等法律、法規(guī)和規(guī)章的相關(guān)規(guī)定執(zhí)行。

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的水污染物排放控制要求適用于電子工業(yè)企業(yè)直接或間接向其法定邊界外排放水污染

物的行為。

2規(guī)范性引用文件

本標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容引用了下列文件或其中的條款。凡是不注明日期的引用文件，其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。

GB/T6920水質(zhì)pH值的測(cè)定玻璃電極法

GB/T7466水質(zhì)總鉻的測(cè)定

GB/T7467水質(zhì)六價(jià)鉻的測(cè)定二苯碳酰二肼分光光度法

GB/T7470水質(zhì)鉛的測(cè)定雙硫腙分光光度法

GB/T7471水質(zhì)鎘的測(cè)定雙硫腙分光光度法

GB/T7475水質(zhì)銅、鋅、鉛、鎘的測(cè)定原子吸收分光光度法

GB/T7484水質(zhì)氟化物的測(cè)定離子選擇電極法

GB/T7485水質(zhì)總砷的測(cè)定二乙基二硫代氨基甲酸銀分光光度法

GB/T7494水質(zhì)陰離子表面活性劑的測(cè)定亞甲藍(lán)分光光度法

GB8978污水綜合排放標(biāo)準(zhǔn)

GB/T11893水質(zhì)總磷的測(cè)定鉬酸銨分光光度法

GB/T11901水質(zhì)懸浮物的測(cè)定重量法

GB/T11907水質(zhì)銀的測(cè)定火焰原子吸收分光光度法

GB/T11910水質(zhì)鎳的測(cè)定丁二酮肟分光光度法

GB/T11912水質(zhì)鎳的測(cè)定火焰原子吸收分光光度法

GB/T11914水質(zhì)化學(xué)需氧量的測(cè)定重鉻酸鹽法

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GB/T14668空氣質(zhì)量氨的測(cè)定納氏試劑比色法

GB/T15432環(huán)境空氣總懸浮顆粒物的測(cè)定重量法

GB/T15516空氣質(zhì)量甲醛的測(cè)定乙酰丙酮分光光度法

GB/T16157固定污染源排氣中顆粒物測(cè)定與氣態(tài)污染物采樣方法

GB16297大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)

GB/T16489水質(zhì)硫化物的測(cè)定亞甲基藍(lán)分光光度法

GB/T16758排風(fēng)罩的分類及技術(shù)條件

HJ/T28固定污染源排氣中氰化氫的測(cè)定異煙酸-吡唑啉酮分光光度法

HJ/T32固定污染源排氣中酚類化合物的測(cè)定4-氨基安替比林分光光度法

HJ/T33固定污染源排氣中甲醇的測(cè)定氣相色譜法

HJ/T38固定污染源排氣中非甲烷總烴的測(cè)定氣相色譜法

HJ/T55大氣污染物無(wú)組織排放監(jiān)測(cè)技術(shù)導(dǎo)則

HJ/T56固定污染源排氣中二氧化硫的測(cè)定碘量法

HJ/T57固定污染源排氣中二氧化硫的測(cè)定定電位電解法

HJ/T60水質(zhì)硫化物的測(cè)定碘量法

HJ/T67大氣固定污染源氟化物的測(cè)定離子選擇電極法

HJ/T75固定污染源煙氣排放連續(xù)監(jiān)測(cè)技術(shù)規(guī)范（試行）

HJ/T76固定污染源煙氣排放連續(xù)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)技術(shù)要求及檢測(cè)方法（試行）

HJ77.2環(huán)境空氣和廢氣二噁英類的測(cè)定同位素稀釋高分辨氣相色譜－高分辨質(zhì)譜

法

HJ/T84水質(zhì)無(wú)機(jī)陰離子的測(cè)定離子色譜法

HJ/T91地表水和污水監(jiān)測(cè)技術(shù)規(guī)范

HJ/T195水質(zhì)氨氮的測(cè)定氣相分子吸收光譜法

HJ/T199水質(zhì)總氮的測(cè)定氣相分子吸收光譜法

HJ/T200水質(zhì)硫化物的測(cè)定氣相分子吸收光譜法

HJ/T373固定污染源監(jiān)測(cè)質(zhì)量保證與質(zhì)量控制技術(shù)規(guī)范（試行）

HJ/T397固定源廢氣監(jiān)測(cè)技術(shù)規(guī)范

HJ/T399水質(zhì)化學(xué)需氧量的測(cè)定快速消解分光光度法

HJ484水質(zhì)氰化物的測(cè)定容量法和分光光度法

HJ485水質(zhì)銅的測(cè)定二乙基二硫代氨基甲酸鈉分光光度法

HJ486水質(zhì)銅的測(cè)定2，9-二甲基-1，10-菲啰啉分光光度法

HJ487水質(zhì)氟化物的測(cè)定茜素磺酸鋯目視比色法

HJ488水質(zhì)氟化物的測(cè)定氟試劑分光光度法

HJ489水質(zhì)銀的測(cè)定3,5-Br2-PADAP分光光度

HJ490水質(zhì)銀的測(cè)定鎘試劑2B分光光度法

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HJ493水質(zhì)采樣樣品的保存和管理技術(shù)規(guī)定

HJ494水質(zhì)采樣技術(shù)指導(dǎo)

HJ495水質(zhì)采樣方案設(shè)計(jì)技術(shù)指導(dǎo)

HJ501水質(zhì)總有機(jī)碳的測(cè)定燃燒氧化-非分散紅外吸收法

HJ533環(huán)境空氣和廢氣氨的測(cè)定納氏試劑分光光度法

HJ534環(huán)境空氣氨的測(cè)定次氯酸鈉-水楊酸分光光度法

HJ535水質(zhì)氨氮的測(cè)定納氏試劑分光光度法

HJ536水質(zhì)氨氮的測(cè)定水楊酸分光光度法

HJ537水質(zhì)氨氮的測(cè)定蒸餾-中和滴定法

HJ538固定污染源廢氣鉛的測(cè)定火焰原子吸收分光光度法(暫行)

HJ544固定污染源廢氣硫酸霧的測(cè)定離子色譜法（暫行）

HJ547固定污染源廢氣氯氣的測(cè)定碘量法（暫行）

HJ548固定污染源廢氣氯化氫的測(cè)定硝酸銀容量法（暫行）

HJ549環(huán)境空氣和廢氣氯化氫的測(cè)定離子色譜法(暫行)

HJ583環(huán)境空氣苯系物的測(cè)定固體吸附/熱脫附-氣相色譜法

HJ584環(huán)境空氣苯系物的測(cè)定活性炭吸附/二硫化碳解吸-氣相色譜法

HJ629固定污染源廢氣二氧化硫的測(cè)定非分散紅外吸收法

HJ636水質(zhì)總氮的測(cè)定堿性過(guò)硫酸鉀消解紫外分光光度法

HJ637水質(zhì)石油類和動(dòng)植物油的測(cè)定紅外分光光度法

HJ657空氣和廢氣顆粒物中鉛等金屬元素的測(cè)定電感耦合等離子體質(zhì)譜法

HJ659水質(zhì)氰化物等的測(cè)定真空檢測(cè)管-電子比色法

HJ644環(huán)境空氣揮發(fā)性有機(jī)物的測(cè)定吸附管采樣－熱脫附/氣相色譜－質(zhì)譜法

HJ665水質(zhì)氨氮的測(cè)定連續(xù)流動(dòng)-水楊酸分光光度法

HJ666水質(zhì)氨氮的測(cè)定流動(dòng)注射-水楊酸分光光度法

HJ667水質(zhì)總氮的測(cè)定連續(xù)流動(dòng)-鹽酸萘乙二胺分光光度法

HJ668水質(zhì)總氮的測(cè)定流動(dòng)注射-鹽酸萘乙二胺分光光度法

HJ670水質(zhì)磷酸鹽和總磷的測(cè)定連續(xù)流動(dòng)-鉬酸銨分光光度法

HJ671水質(zhì)總磷的測(cè)定流動(dòng)注射-鉬酸銨分光光度法

HJ685固定污染源廢氣鉛的測(cè)定火焰原子吸收分光光度法

HJ692固定污染源廢氣氮氧化物的測(cè)定非分散紅外吸收法

HJ693固定污染源廢氣氮氧化物的測(cè)定定電位電解法

HJ694水質(zhì)汞、砷、硒、鉍和銻的測(cè)定原子熒光法

HJ700水質(zhì)65種元素的測(cè)定電感耦合等離子體質(zhì)譜法

HJ732固定污染源廢氣揮發(fā)性有機(jī)物的采樣氣袋法

HJ734固定污染源VOCs的測(cè)定固相吸附-熱脫附-氣相色譜-質(zhì)譜法

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HJ801環(huán)境空氣和廢氣酰胺類化合物的測(cè)定液相色譜法

HJ819排污單位自行監(jiān)測(cè)技術(shù)指南總則

AQ/T4274局部排風(fēng)設(shè)施控制風(fēng)速檢測(cè)與評(píng)估技術(shù)規(guī)范

《污染源自動(dòng)監(jiān)控管理辦法》（國(guó)家環(huán)境保護(hù)總局令第28號(hào)）

《環(huán)境監(jiān)測(cè)管理辦法》（國(guó)家環(huán)境保護(hù)總局令第39號(hào)）

3術(shù)語(yǔ)和定義

下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本標(biāo)準(zhǔn)。

3.1電子專用材料specialelectronicmaterials

在半導(dǎo)體集成電路、各種電子元器件（包括有源及無(wú)源元器件、鋁電解電容器、激光器件、光通訊

器件、發(fā)光二極管器件、液晶顯示器件等電子基礎(chǔ)產(chǎn)品）制造中所采用的特定材料。本標(biāo)準(zhǔn)中電子專用

材料涵蓋的產(chǎn)品范圍包括半導(dǎo)體材料、覆銅板、電子銅箔、鋁電解電容器電極箔、光電子材料、藍(lán)寶石

基片、壓電晶體材料、電子專用精細(xì)化工與高分子材料，但不包括真空材料、磁性材料、焊接材料和陶

瓷材料等。具體產(chǎn)品范圍見附錄A。

3.2電子元件electricalunit

電子電路中具有某種獨(dú)立功能的單元，可對(duì)電路中電壓和電流進(jìn)行控制、變換和傳輸?shù)?。一般包括?/p>

電阻器、電容器、電子變壓器、電感器、壓電晶體元器件、電子敏感元器件與傳感器、電接插元件、控

制繼電器、微特電機(jī)與組件、電聲器件等產(chǎn)品。

3.3印制電路板printedcircuitboard（PCB）

在絕緣基材上，按預(yù)定設(shè)計(jì)形成印制元件、印制線路或兩者結(jié)合的導(dǎo)電圖形的印制電路或印制線路

成品板。印制電路板包括剛性板與撓性板，單面印制電路板、雙面印制電路板、多層印制電路板，以及

剛撓結(jié)合印制電路板和高密度互連印制電路板等。

3.4半導(dǎo)體器件semiconductordevice

利用半導(dǎo)體材料的特殊電特性制造，以實(shí)現(xiàn)特定功能的電子器件。包括分立器件和集成電路兩大類

產(chǎn)品。

3.5光電子器件photoelectroncomponent

利用半導(dǎo)體光-電子（或電-光子）轉(zhuǎn)換效應(yīng)制成的各種功能器件。如發(fā)光二極管（LED）；半導(dǎo)體光

電器件中的光電轉(zhuǎn)換器、光電探測(cè)器等；激光器件中的氣體激光器件、半導(dǎo)體激光器件、固體激光器件、

靜電感應(yīng)器件等；光通信電路及其他器件；半導(dǎo)體照明器件等。

3.6顯示器件displaydevice

基于電子手段呈現(xiàn)信息供視覺感受的器件。包括薄膜晶體管液晶顯示器件（TN/STN-LCD、TFT-LCD）、

低溫多晶硅薄膜晶體管液晶顯示器件（LTPS-TFT-LCD）、有機(jī)發(fā)光二極管顯示器件（OLED）、真空熒光顯

示器件（VFD）、場(chǎng)發(fā)射顯示器件（FED）、等離子顯示器件（PDP）、曲面顯示器件以及柔性顯示器件等。

3.7電子終端產(chǎn)品electronterminalsproduct

以采用印制電路板（PCB）組裝工藝技術(shù)為基礎(chǔ)裝配的具有獨(dú)立應(yīng)用功能的電子信息產(chǎn)品或組件。

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如通信設(shè)備、雷達(dá)設(shè)備、廣播電視設(shè)備、電子計(jì)算機(jī)、視聽設(shè)備、電子測(cè)量?jī)x器等。

3.8現(xiàn)有企業(yè)existingfacility

本標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施之日前已建成投產(chǎn)或環(huán)境影響評(píng)價(jià)文件已通過(guò)審批的電子工業(yè)企業(yè)或生產(chǎn)設(shè)施。

3.9新建企業(yè)newfacility

本標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施之日起環(huán)境影響評(píng)價(jià)文件通過(guò)審批的新建、改建和擴(kuò)建電子工業(yè)建設(shè)項(xiàng)目。

3.10直接排放directdischarge

排污單位直接向環(huán)境水體排放水污染物的行為。

3.11間接排放indirectdischarge

排污單位向公共污水處理系統(tǒng)排放水污染物的行為。

3.12公共污水處理系統(tǒng)publicwastewatertreatmentsystem

通過(guò)納污管道等方式收集廢水，為兩家及兩家以上排污單位提供廢水處理服務(wù)并且排水能夠達(dá)到相

關(guān)排放標(biāo)準(zhǔn)要求的企業(yè)或機(jī)構(gòu)，包括各種規(guī)模和類型的城鎮(zhèn)污水處理廠、區(qū)域（包括各類工業(yè)園區(qū)、開

發(fā)區(qū)、工業(yè)聚集地等）廢水處理廠等，其廢水處理程度應(yīng)達(dá)到二級(jí)或二級(jí)以上。

3.13排水量effluentvolume

生產(chǎn)設(shè)施或企業(yè)向企業(yè)法定邊界以外排放的廢水的量，包括與生產(chǎn)有直接或間接關(guān)系的各種外排廢

水（含廠區(qū)生活污水、冷卻廢水、廠區(qū)鍋爐和電站排水等）。

3.14單位產(chǎn)品基準(zhǔn)排水量benchmarkeffluentvolumeperunitproduct

用于核定水污染物排放濃度而規(guī)定的生產(chǎn)單位電子產(chǎn)品的廢水排放量上限值。

3.15揮發(fā)性有機(jī)物volatileorganiccompounds

參與大氣光化學(xué)反應(yīng)的有機(jī)化合物，或者根據(jù)規(guī)定的方法測(cè)量或核算確定的有機(jī)化合物。

根據(jù)行業(yè)特征和環(huán)境管理需求，可選擇對(duì)主要VOCs物種進(jìn)行定量加和的方法測(cè)量總有機(jī)化合物（以

TVOC表示），或者選用按基準(zhǔn)物質(zhì)標(biāo)定，檢測(cè)器對(duì)混合進(jìn)樣中VOCs綜合響應(yīng)的方法測(cè)量非甲烷有機(jī)化

合物（以NMHC表示，以碳計(jì)）。

3.16標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)standardcondition

溫度為273.15K、壓力為101325Pa時(shí)的狀態(tài)。本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的大氣污染物排放濃度限值均以標(biāo)準(zhǔn)狀

態(tài)下的干氣體為基準(zhǔn)。

3.17企業(yè)邊界enterpriseboundary

電子工業(yè)企業(yè)或生產(chǎn)設(shè)施的法定邊界。若無(wú)法定邊界，則指企業(yè)或生產(chǎn)設(shè)施的實(shí)際占地邊界。

3.18排氣筒高度stackheight

自排氣筒（或其主體建筑構(gòu)造）所在的地平面至排氣筒出口計(jì)的高度，單位為m。

4水污染物排放控制要求

4.1現(xiàn)有企業(yè)2021年1月1日前仍執(zhí)行現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)，自2021年1月1日起執(zhí)行表1規(guī)定的水污染物排

放限值。

4.2新建企業(yè)自2019年1月1日起執(zhí)行表1規(guī)定的水污染物排放限值。

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表1水污染物排放限值

單位：mg/L（pH值除外）

排放限值(1)

直接排放間接排放(2)

污染

電電

印顯示印半顯示物排

序電子電子

污染物電子制半導(dǎo)器件電子制導(dǎo)器件放監(jiān)

號(hào)子終子終

專用電體器及光專用電體及光控位

元端元端

材料路件電子材料路器電子置

件產(chǎn)件產(chǎn)

板器件板件器件

品品

1pH值6.0～9.06.0～9.0

2懸浮物（SS）50250

化學(xué)需氧量

380300

（CODCr）

總有機(jī)碳

42090

（TOC）

5總氰化物0.2--0.4--

企業(yè)

6石油類3.08.0

廢水

7氨氮10/20(3)5.020105.05.025/45(3)2545402525

總排

8總氮20/30(3153015151540/60(3)4060604040

放口

9總磷0.5/1.0(3)0.51.01.00.50.56.0

陰離子表面

103.06.0

活性劑（LAS）

11硫化物----1.01.0--------1.01.0----

12氟化物10--20--

13總銅0.5--0.50.51.01.00.5--

14總鋅1.5----1.51.5--1.5----1.51.5--

15總鎘0.05----0.05----0.05--0.05----

車間

16總鉻1.0----0.5----1.0----0.5----

或生

17六價(jià)鉻0.2----0.1----0.2----0.1----

產(chǎn)設(shè)

18總砷0.30.3--0.20.2--0.30.3--0.20.2--

施廢

19總鉛0.20.1--0.20.2--0.20.1--0.20.2--

水排

20總鎳0.5--0.5--

放口

21總銀0.3--0.3--

注：（1）表中的“--”表示該污染物不是相應(yīng)子行業(yè)的污染控制項(xiàng)目。

（2）總鎘、總鉻、六價(jià)鉻、總砷、總鉛、總鎳、總銀執(zhí)行本表規(guī)定的間接排放控制要求。

對(duì)于其他水污染物，1）企業(yè)廢水若排向城鎮(zhèn)污水處理廠時(shí)，水污染物排放執(zhí)行本表規(guī)定的間接排放控制要求。2）若排

向其他公共污水處理系統(tǒng)時(shí)，則其間接排放限值由企業(yè)與公共污水處理系統(tǒng)協(xié)商確定，但應(yīng)滿足以下條件：a）公共污水處

理系統(tǒng)應(yīng)具備有效去除該污染物的能力，即企業(yè)與公共污水處理系統(tǒng)合計(jì)對(duì)該污染物的去除率不低于企業(yè)執(zhí)行直接排放限值

時(shí)該污染物的去除率（按污染物的質(zhì)量計(jì)算）；b）企業(yè)排向公共污水處理系統(tǒng)的廢水應(yīng)得到實(shí)時(shí)監(jiān)控和預(yù)警；c）企業(yè)應(yīng)設(shè)

有應(yīng)急事故池，廢水達(dá)不到協(xié)商的間接排放控制要求時(shí)排入事故池中，不得排向公共污水處理系統(tǒng)；d）企業(yè)應(yīng)與公共污水

處理系統(tǒng)簽訂委托處理協(xié)議，并報(bào)當(dāng)?shù)丨h(huán)境保護(hù)主管部門備案。公共污水處理系統(tǒng)排放應(yīng)保證達(dá)到相關(guān)環(huán)保要求。企業(yè)與公

—19—

共污水處理系統(tǒng)未協(xié)商確定間接排放限值的，按本表規(guī)定的間接排放限值執(zhí)行。

（3）適用于鋁電解電容器電極箔生產(chǎn)企業(yè)。

4.3根據(jù)環(huán)境保護(hù)工作的要求，在國(guó)土開發(fā)密度已經(jīng)較高、環(huán)境承載能力開始減弱，或環(huán)境容量較小、

生態(tài)環(huán)境脆弱，容易發(fā)生嚴(yán)重環(huán)境污染問(wèn)題而需要采取特別保護(hù)措施的地區(qū)，應(yīng)嚴(yán)格控制企業(yè)的污染物

排放行為，在上述地區(qū)的電子工業(yè)企業(yè)執(zhí)行表2規(guī)定的水污染物特別排放限值。

執(zhí)行水污染物特別排放限值的地域范圍、時(shí)間，由國(guó)務(wù)院環(huán)境保護(hù)行政主管部門或省級(jí)人民政府規(guī)

定。

表2水污染物特別排放限值

單位：mg/L（pH值除外）

排放限值(1)

直接排放間接排放(2)

電電電

印半顯示印半污染物

序電子子電顯示器子

污染物制導(dǎo)器件制導(dǎo)排放監(jiān)

號(hào)電子專子終專子件及光終

電體及光電體控位置

用材料元端用元電子器端

路器電子路器

件產(chǎn)材件件產(chǎn)

板件器件板件

品料品

1pH值6.0～9.06.0～9.0

2懸浮物（SS）20250

化學(xué)需氧量

350300

（CODCr）

總有機(jī)碳

41590

（TOC）

5總氰化物0.2--0.2--

6石油類1.05.0

企業(yè)廢

7氨氮8.0/15(3)5.0158.05.05.020

水總排

8總氮10/20(3)102010101035

放口

9總磷0.53.0

陰離子表面

10活性劑0.51.0

（LAS）

11硫化物----1.01.0--------1.01.0----

12氟化物8.0--15--

13總銅0.3--0.3--

14總鋅1.0----1.01.0--1.0----1.01.0--

15總鎘0.01----0.01----0.01----0.01----

16總鉻0.5----0.5----0.5----0.5----

車間或

17六價(jià)鉻0.1----0.1----0.1----0.1----

生產(chǎn)設(shè)

18總砷0.10.1--0.10.1--0.10.1--0.10.1--

施廢水

19總鉛0.10.1--0.10.1--0.10.1--0.10.1--

排放口

20總鎳0.1--0.1--

21總銀0.1--0.1--

—20—

注：（1）表中的“--”表示該污染物不是相應(yīng)子行業(yè)的污染控制項(xiàng)目。

（2）總鎘、總鉻、六價(jià)鉻、總砷、總鉛、總鎳、總銀執(zhí)行本表規(guī)定的間接排放控制要求。

對(duì)于其他水污染物，1）企業(yè)廢水若排向城鎮(zhèn)污水處理廠時(shí)，水污染物排放執(zhí)行本表規(guī)定的間接排放控制要求。2）若排

向其他公共污水處理系統(tǒng)時(shí)，則其間接排放限值由企業(yè)與公共污水處理系統(tǒng)協(xié)商確定，但應(yīng)滿足以下條件：a）公共污水處

理系統(tǒng)應(yīng)具備有效去除該污染物的能力，即企業(yè)與公共污水處理系統(tǒng)合計(jì)對(duì)該污染物的去除率不低于企業(yè)執(zhí)行直接排放限值

時(shí)該污染物的去除率（按污染物的質(zhì)量計(jì)算）；b）企業(yè)排向公共污水處理系統(tǒng)的廢水應(yīng)得到實(shí)時(shí)監(jiān)控和預(yù)警；c）企業(yè)應(yīng)設(shè)

有應(yīng)急事故池，廢水達(dá)不到協(xié)商的間接排放控制要求時(shí)排入事故池中，不得排向公共污水處理系統(tǒng)；d）企業(yè)應(yīng)與公共污水

處理系統(tǒng)簽訂委托處理協(xié)議，并報(bào)當(dāng)?shù)丨h(huán)境保護(hù)主管部門備案。公共污水處理系統(tǒng)排放應(yīng)保證達(dá)到相關(guān)環(huán)保要求。企業(yè)與公

共污水處理系統(tǒng)未協(xié)商確定間接排放限值的，按本表規(guī)定的間接排放限值執(zhí)行。

（3）適用于鋁電解電容器電極箔生產(chǎn)企業(yè)。

4.4新建企業(yè)自2019年1月1日起，現(xiàn)有企業(yè)自2021年1月1日起，執(zhí)行表3規(guī)定的單位產(chǎn)品基準(zhǔn)

排水量。

表3單位電子產(chǎn)品基準(zhǔn)排水量

污染物

序號(hào)適用企業(yè)產(chǎn)品規(guī)格單位單位產(chǎn)品基準(zhǔn)排水量(1)排放監(jiān)

控位置

硅單晶材料、壓電晶體材料、藍(lán)寶

m3/t產(chǎn)品2200

石基片

1電子專用材料電子銅箔m3/t產(chǎn)品100

鋁電解電容器電極箔m3/m20.15

其他m3/t產(chǎn)品5.0

壓電晶體元器件m3/萬(wàn)只產(chǎn)品3.5

2電子元件

其他m3/萬(wàn)只產(chǎn)品0.2

單面板m3/m20.3

雙面板m3/m21.4排水量

3印制電路板

多層板（2+n）層m3/m2(1.3+0.5n)(2)計(jì)量位

HDI板（2+n）層m3/m2(1.3+0.8n)(2)置與污

≤6英寸芯片生產(chǎn)m3/片3.2染物排

8英寸芯片生產(chǎn)m3/片6.0放監(jiān)控

4半導(dǎo)體器件12英寸芯片生產(chǎn)m3/片11位置一

封裝測(cè)試m3/千塊產(chǎn)品2.0致

分立器件m3/萬(wàn)塊產(chǎn)品3.5

m3/m2（以陣列

顯示器件及薄膜晶體管液晶顯示器件

5玻璃基板投入1.8(4)/3.5(5)/6.2(6)

光電子器件（TFT-LCD）(3)

面積計(jì)）

m3/m2（以陣列

有源矩陣有機(jī)發(fā)光二極管顯示器件

玻璃基板投入6.2

顯示器件及（AMOLED）

5光電子器件面積計(jì)）

發(fā)光二極管（LED）m3/萬(wàn)粒0.5

—21—

注：（1）本表中規(guī)定的單位產(chǎn)品基準(zhǔn)排水量值應(yīng)按照滿產(chǎn)情況進(jìn)行測(cè)算。

（2）n為正整數(shù)，2+n用于表達(dá)印制電路板層數(shù)，如6層多層板是（2+4），n為4。HDI板層數(shù)包含芯板。剛撓板

層數(shù)應(yīng)以剛性或撓性的總層數(shù)計(jì)算，鑒于撓性電路板的特殊性，其基準(zhǔn)排水量按本表限值相應(yīng)增加35%。

（3）本限值對(duì)應(yīng)的工藝過(guò)程包括：陣列-彩膜-成盒-模塊。

（4）本限值對(duì)應(yīng)6代以上a-Si-TFT-LCD和Oxide-TFT-LCD企業(yè)。

（5）本限值對(duì)應(yīng)6代及以下a-Si-TFT-LCD企業(yè)。

（6）本限值對(duì)應(yīng)6代及以下LTPSTFTLCD企業(yè)。

4.5水污染物排放限值適用于單位產(chǎn)品實(shí)際排水量不高于單位產(chǎn)品基準(zhǔn)排水量的情況。若單位產(chǎn)品實(shí)

際排水量超過(guò)單位產(chǎn)品基準(zhǔn)排水量，須按公式（1）將實(shí)測(cè)水污染物濃度換算為水污染物基準(zhǔn)水量排放

濃度，并以水污染物基準(zhǔn)水量排放濃度作為判定排放是否達(dá)標(biāo)的依據(jù)。產(chǎn)品產(chǎn)量和排水量統(tǒng)計(jì)周期為一

個(gè)工作日。

在企業(yè)的生產(chǎn)設(shè)施同時(shí)生產(chǎn)兩種以上產(chǎn)品，可適用不同排放控制要求或不同行業(yè)國(guó)家污染物排放標(biāo)

準(zhǔn)時(shí)，且生產(chǎn)設(shè)施產(chǎn)生的污水混合處理排放的情況下，應(yīng)執(zhí)行排放標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)定的最嚴(yán)格的濃度限值，并

按公式（1）換算水污染物基準(zhǔn)水量排放濃度：

Q總

基＝實(shí)（1）

YiQi基

式中：

基——水污染物基準(zhǔn)排水量排放濃度，mg/L；

3

Q總——排水總量，m；

Yi——某種產(chǎn)品產(chǎn)量，產(chǎn)品單位見表3；

某種產(chǎn)品的單位產(chǎn)品基準(zhǔn)排水量，產(chǎn)品單位見表；

Qi基——3

實(shí)——實(shí)測(cè)水污染物排放濃度，mg/L。

若與的比值小于，則以水污染物實(shí)測(cè)濃度作為判定排放是否達(dá)標(biāo)的依據(jù)。

Q總YiQi基1

5大氣污染物排放控制要求

5.1有組織排放控制要求

5.1.1現(xiàn)有企業(yè)2021年1月1日前仍執(zhí)行現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)，自2021年1月1日起執(zhí)行表4規(guī)定的大氣污染

物排放限值。

5.1.2新建企業(yè)自2019年1月1日起執(zhí)行表4規(guī)定的大氣污染物排放限值。

表4大氣污染物排放限值

單位：mg/m3（去除效率除外）

序號(hào)污染物排放限值污染物排放

—22—

顯示器件監(jiān)控位置

電子專用印制電路半導(dǎo)體器電子終端

電子元件及光電子

材料板件產(chǎn)品

器件

1顆粒物202020----20

2氮氧化物(1)100/150(2)--100--100--

3氯化氫15/30(2)15--

4硫酸霧10--

5氰化氫----0.5------

6氟化物（以F計(jì)）5.0--

7氯氣5.0------5.0--

8氨30--

9鉛及其化合物0.30.30.3----0.3

車間或生產(chǎn)

10錫及其化合物2.02.02.02.0--2.0

設(shè)施排氣筒

11砷化氫(3)--1.01.0--

12磷化氫(3)--1.01.0--

NMHC100或去除效率95%(4)

13VOCs

TVOC150或去除效率95%(4)

三氯乙

141.0

烯(3)

有機(jī)特

15苯4.0

征污染

甲醛

16物(5)5.0

17甲苯25

18二甲苯40

注：（1）適用于硝酸酸洗工藝。

（2）適用于鋁電解電容器電極箔企業(yè)。

（3）待國(guó)家污染物監(jiān)測(cè)方法標(biāo)準(zhǔn)發(fā)布后實(shí)施。

（4）去除效率等于處理設(shè)施進(jìn)口和出口的污染物質(zhì)量差值與處理設(shè)施進(jìn)口污染物質(zhì)量的比