電子工業(yè)污染物排放標準（二次征求意見稿）

中華人民共和國國家標準

GB□□□□□-201□

電子工業(yè)污染物排放標準

Emissionstandardofpollutantsforelectricalindustry

（二次征求意見稿）

前言

為貫徹《中華人民共和國環(huán)境保護法》、《中華人民共和國水污染防治法》、《中華人民共和國海

洋環(huán)境保護法》、《中華人民共和國大氣污染防治法》等法律、法規(guī)，保護環(huán)境，防治污染，促進電

子工業(yè)的技術進步和可持續(xù)發(fā)展，制定本標準。

本標準規(guī)定了電子工業(yè)企業(yè)或生產(chǎn)設施的水污染物和大氣污染物排放限值、監(jiān)測和監(jiān)控要求，

以及標準實施與監(jiān)督等相關規(guī)定。為促進地區(qū)經(jīng)濟與環(huán)境協(xié)調發(fā)展，推動經(jīng)濟結構的調整和經(jīng)濟增

長方式的轉變，引導電子工業(yè)生產(chǎn)工藝和污染治理技術的發(fā)展方向，本標準規(guī)定了水污染物和大氣

污染物特別排放限值。

電子工業(yè)企業(yè)或生產(chǎn)設施排放惡臭污染物、環(huán)境噪聲適用相應的國家污染物排放標準，產(chǎn)生固

體廢物的鑒別、處理和處置適用國家固體廢物污染控制標準。配套的動力鍋爐執(zhí)行《鍋爐大氣污染

物排放標準》（GB13271）或《火電廠大氣污染物排放標準》（GB13223）。

本標準為首次發(fā)布。

電子工業(yè)新建企業(yè)自2019年1月1日起，現(xiàn)有企業(yè)自2021年1月1日起，其水污染物和大氣

污染物排放控制按本標準的規(guī)定執(zhí)行，不再執(zhí)行《污水綜合排放標準》（GB8978）、《大氣污染物綜

合排放標準》（GB16297）和《電鍍污染物排放標準》（GB21900）等標準中的相關規(guī)定。各地可

根據(jù)當?shù)丨h(huán)境保護的需要和經(jīng)濟與技術條件，由省級人民政府批準提前實施本標準。

本標準是電子工業(yè)水污染物和大氣污染物排放控制的基本要求。地方省級人民政府對本標準未

作規(guī)定的污染物項目，可以制定地方污染物排放標準；對本標準已作規(guī)定的污染物項目，可以制定

嚴于本標準的地方污染物排放標準。環(huán)境影響評價文件或排污許可證要求嚴于本標準或地方標準時，

按照批復的環(huán)境影響評價文件或排污許可證執(zhí)行。

本標準由環(huán)境保護部水環(huán)境管理司、大氣環(huán)境管理司、科技標準司組織制訂。

本標準主要起草單位：中國電子工程設計院、環(huán)境保護部環(huán)境標準研究所、上海市環(huán)境科學研

究院、深圳市環(huán)境監(jiān)測中心站、中國電子電路行業(yè)協(xié)會、上海第二工業(yè)大學、信息產(chǎn)業(yè)電子第十一

設計研究院科技工程股份有限公司等。

本標準環(huán)境保護部201□年□□月□□日批準。

本標準自2019年1月1日起實施。

本標準由環(huán)境保護部解釋。

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電子工業(yè)污染物排放標準

1適用范圍

本標準規(guī)定了電子工業(yè)企業(yè)或生產(chǎn)設施的水污染物和大氣污染物排放限值、監(jiān)測和監(jiān)控要求，以及

標準實施與監(jiān)督等相關規(guī)定。

本標準適用于電子專用材料、電子元件、印制電路板、半導體器件、顯示器件及光電子器件、電子

終端產(chǎn)品（含涂裝工藝在內(nèi)）等六類電子工業(yè)企業(yè)或生產(chǎn)設施的水污染物和大氣污染物排放管理，以及

這六類電子工業(yè)建設項目的環(huán)境影響評價、環(huán)境保護設施設計、竣工環(huán)境保護驗收及其投產(chǎn)后的水污染

物和大氣污染物排放管理。其他電子工業(yè)企業(yè)或生產(chǎn)設施的水污染物和大氣污染物排放管理，參照本標

準執(zhí)行。

本標準適用于法律允許的污染物排放行為。新設立污染源的選址和特殊保護區(qū)域內(nèi)現(xiàn)有污染源的管

理，除執(zhí)行本標準外，還應按照《中華人民共和國水污染防治法》、《中華人民共和國海洋環(huán)境保護法》、

《中華人民共和國大氣污染防治法》、《中華人民共和國固體廢物污染環(huán)境防治法》、《中華人民共和

國環(huán)境影響評價法》等法律、法規(guī)和規(guī)章的相關規(guī)定執(zhí)行。

本標準規(guī)定的水污染物排放控制要求適用于電子工業(yè)企業(yè)直接或間接向其法定邊界外排放水污染

物的行為。

2規(guī)范性引用文件

本標準內(nèi)容引用了下列文件或其中的條款。凡是不注明日期的引用文件，其最新版本適用于本標準。

GB/T6920水質pH值的測定玻璃電極法

GB/T7466水質總鉻的測定

GB/T7467水質六價鉻的測定二苯碳酰二肼分光光度法

GB/T7470水質鉛的測定雙硫腙分光光度法

GB/T7471水質鎘的測定雙硫腙分光光度法

GB/T7475水質銅、鋅、鉛、鎘的測定原子吸收分光光度法

GB/T7484水質氟化物的測定離子選擇電極法

GB/T7485水質總砷的測定二乙基二硫代氨基甲酸銀分光光度法

GB/T7494水質陰離子表面活性劑的測定亞甲藍分光光度法

GB8978污水綜合排放標準

GB/T11893水質總磷的測定鉬酸銨分光光度法

GB/T11901水質懸浮物的測定重量法

GB/T11907水質銀的測定火焰原子吸收分光光度法

GB/T11910水質鎳的測定丁二酮肟分光光度法

GB/T11912水質鎳的測定火焰原子吸收分光光度法

GB/T11914水質化學需氧量的測定重鉻酸鹽法

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GB/T14668空氣質量氨的測定納氏試劑比色法

GB/T15432環(huán)境空氣總懸浮顆粒物的測定重量法

GB/T15516空氣質量甲醛的測定乙酰丙酮分光光度法

GB/T16157固定污染源排氣中顆粒物測定與氣態(tài)污染物采樣方法

GB16297大氣污染物綜合排放標準

GB/T16489水質硫化物的測定亞甲基藍分光光度法

GB/T16758排風罩的分類及技術條件

HJ/T28固定污染源排氣中氰化氫的測定異煙酸-吡唑啉酮分光光度法

HJ/T32固定污染源排氣中酚類化合物的測定4-氨基安替比林分光光度法

HJ/T33固定污染源排氣中甲醇的測定氣相色譜法

HJ/T38固定污染源排氣中非甲烷總烴的測定氣相色譜法

HJ/T55大氣污染物無組織排放監(jiān)測技術導則

HJ/T56固定污染源排氣中二氧化硫的測定碘量法

HJ/T57固定污染源排氣中二氧化硫的測定定電位電解法

HJ/T60水質硫化物的測定碘量法

HJ/T67大氣固定污染源氟化物的測定離子選擇電極法

HJ/T75固定污染源煙氣排放連續(xù)監(jiān)測技術規(guī)范（試行）

HJ/T76固定污染源煙氣排放連續(xù)監(jiān)測系統(tǒng)技術要求及檢測方法（試行）

HJ77.2環(huán)境空氣和廢氣二噁英類的測定同位素稀釋高分辨氣相色譜－高分辨質譜

法

HJ/T84水質無機陰離子的測定離子色譜法

HJ/T91地表水和污水監(jiān)測技術規(guī)范

HJ/T195水質氨氮的測定氣相分子吸收光譜法

HJ/T199水質總氮的測定氣相分子吸收光譜法

HJ/T200水質硫化物的測定氣相分子吸收光譜法

HJ/T373固定污染源監(jiān)測質量保證與質量控制技術規(guī)范（試行）

HJ/T397固定源廢氣監(jiān)測技術規(guī)范

HJ/T399水質化學需氧量的測定快速消解分光光度法

HJ484水質氰化物的測定容量法和分光光度法

HJ485水質銅的測定二乙基二硫代氨基甲酸鈉分光光度法

HJ486水質銅的測定2，9-二甲基-1，10-菲啰啉分光光度法

HJ487水質氟化物的測定茜素磺酸鋯目視比色法

HJ488水質氟化物的測定氟試劑分光光度法

HJ489水質銀的測定3,5-Br2-PADAP分光光度

HJ490水質銀的測定鎘試劑2B分光光度法

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HJ493水質采樣樣品的保存和管理技術規(guī)定

HJ494水質采樣技術指導

HJ495水質采樣方案設計技術指導

HJ501水質總有機碳的測定燃燒氧化-非分散紅外吸收法

HJ533環(huán)境空氣和廢氣氨的測定納氏試劑分光光度法

HJ534環(huán)境空氣氨的測定次氯酸鈉-水楊酸分光光度法

HJ535水質氨氮的測定納氏試劑分光光度法

HJ536水質氨氮的測定水楊酸分光光度法

HJ537水質氨氮的測定蒸餾-中和滴定法

HJ538固定污染源廢氣鉛的測定火焰原子吸收分光光度法(暫行)

HJ544固定污染源廢氣硫酸霧的測定離子色譜法（暫行）

HJ547固定污染源廢氣氯氣的測定碘量法（暫行）

HJ548固定污染源廢氣氯化氫的測定硝酸銀容量法（暫行）

HJ549環(huán)境空氣和廢氣氯化氫的測定離子色譜法(暫行)

HJ583環(huán)境空氣苯系物的測定固體吸附/熱脫附-氣相色譜法

HJ584環(huán)境空氣苯系物的測定活性炭吸附/二硫化碳解吸-氣相色譜法

HJ629固定污染源廢氣二氧化硫的測定非分散紅外吸收法

HJ636水質總氮的測定堿性過硫酸鉀消解紫外分光光度法

HJ637水質石油類和動植物油的測定紅外分光光度法

HJ657空氣和廢氣顆粒物中鉛等金屬元素的測定電感耦合等離子體質譜法

HJ659水質氰化物等的測定真空檢測管-電子比色法

HJ644環(huán)境空氣揮發(fā)性有機物的測定吸附管采樣－熱脫附/氣相色譜－質譜法

HJ665水質氨氮的測定連續(xù)流動-水楊酸分光光度法

HJ666水質氨氮的測定流動注射-水楊酸分光光度法

HJ667水質總氮的測定連續(xù)流動-鹽酸萘乙二胺分光光度法

HJ668水質總氮的測定流動注射-鹽酸萘乙二胺分光光度法

HJ670水質磷酸鹽和總磷的測定連續(xù)流動-鉬酸銨分光光度法

HJ671水質總磷的測定流動注射-鉬酸銨分光光度法

HJ685固定污染源廢氣鉛的測定火焰原子吸收分光光度法

HJ692固定污染源廢氣氮氧化物的測定非分散紅外吸收法

HJ693固定污染源廢氣氮氧化物的測定定電位電解法

HJ694水質汞、砷、硒、鉍和銻的測定原子熒光法

HJ700水質65種元素的測定電感耦合等離子體質譜法

HJ732固定污染源廢氣揮發(fā)性有機物的采樣氣袋法

HJ734固定污染源VOCs的測定固相吸附-熱脫附-氣相色譜-質譜法

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HJ801環(huán)境空氣和廢氣酰胺類化合物的測定液相色譜法

HJ819排污單位自行監(jiān)測技術指南總則

AQ/T4274局部排風設施控制風速檢測與評估技術規(guī)范

《污染源自動監(jiān)控管理辦法》（國家環(huán)境保護總局令第28號）

《環(huán)境監(jiān)測管理辦法》（國家環(huán)境保護總局令第39號）

3術語和定義

下列術語和定義適用于本標準。

3.1電子專用材料specialelectronicmaterials

在半導體集成電路、各種電子元器件（包括有源及無源元器件、鋁電解電容器、激光器件、光通訊

器件、發(fā)光二極管器件、液晶顯示器件等電子基礎產(chǎn)品）制造中所采用的特定材料。本標準中電子專用

材料涵蓋的產(chǎn)品范圍包括半導體材料、覆銅板、電子銅箔、鋁電解電容器電極箔、光電子材料、藍寶石

基片、壓電晶體材料、電子專用精細化工與高分子材料，但不包括真空材料、磁性材料、焊接材料和陶

瓷材料等。具體產(chǎn)品范圍見附錄A。

3.2電子元件electricalunit

電子電路中具有某種獨立功能的單元，可對電路中電壓和電流進行控制、變換和傳輸?shù)取Ｒ话惆ǎ?/p>

電阻器、電容器、電子變壓器、電感器、壓電晶體元器件、電子敏感元器件與傳感器、電接插元件、控

制繼電器、微特電機與組件、電聲器件等產(chǎn)品。

3.3印制電路板printedcircuitboard（PCB）

在絕緣基材上，按預定設計形成印制元件、印制線路或兩者結合的導電圖形的印制電路或印制線路

成品板。印制電路板包括剛性板與撓性板，單面印制電路板、雙面印制電路板、多層印制電路板，以及

剛撓結合印制電路板和高密度互連印制電路板等。

3.4半導體器件semiconductordevice

利用半導體材料的特殊電特性制造，以實現(xiàn)特定功能的電子器件。包括分立器件和集成電路兩大類

產(chǎn)品。

3.5光電子器件photoelectroncomponent

利用半導體光-電子（或電-光子）轉換效應制成的各種功能器件。如發(fā)光二極管（LED）；半導體光

電器件中的光電轉換器、光電探測器等；激光器件中的氣體激光器件、半導體激光器件、固體激光器件、

靜電感應器件等；光通信電路及其他器件；半導體照明器件等。

3.6顯示器件displaydevice

基于電子手段呈現(xiàn)信息供視覺感受的器件。包括薄膜晶體管液晶顯示器件（TN/STN-LCD、TFT-LCD）、

低溫多晶硅薄膜晶體管液晶顯示器件（LTPS-TFT-LCD）、有機發(fā)光二極管顯示器件（OLED）、真空熒光顯

示器件（VFD）、場發(fā)射顯示器件（FED）、等離子顯示器件（PDP）、曲面顯示器件以及柔性顯示器件等。

3.7電子終端產(chǎn)品electronterminalsproduct

以采用印制電路板（PCB）組裝工藝技術為基礎裝配的具有獨立應用功能的電子信息產(chǎn)品或組件。

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如通信設備、雷達設備、廣播電視設備、電子計算機、視聽設備、電子測量儀器等。

3.8現(xiàn)有企業(yè)existingfacility

本標準實施之日前已建成投產(chǎn)或環(huán)境影響評價文件已通過審批的電子工業(yè)企業(yè)或生產(chǎn)設施。

3.9新建企業(yè)newfacility

本標準實施之日起環(huán)境影響評價文件通過審批的新建、改建和擴建電子工業(yè)建設項目。

3.10直接排放directdischarge

排污單位直接向環(huán)境水體排放水污染物的行為。

3.11間接排放indirectdischarge

排污單位向公共污水處理系統(tǒng)排放水污染物的行為。

3.12公共污水處理系統(tǒng)publicwastewatertreatmentsystem

通過納污管道等方式收集廢水，為兩家及兩家以上排污單位提供廢水處理服務并且排水能夠達到相

關排放標準要求的企業(yè)或機構，包括各種規(guī)模和類型的城鎮(zhèn)污水處理廠、區(qū)域（包括各類工業(yè)園區(qū)、開

發(fā)區(qū)、工業(yè)聚集地等）廢水處理廠等，其廢水處理程度應達到二級或二級以上。

3.13排水量effluentvolume

生產(chǎn)設施或企業(yè)向企業(yè)法定邊界以外排放的廢水的量，包括與生產(chǎn)有直接或間接關系的各種外排廢

水（含廠區(qū)生活污水、冷卻廢水、廠區(qū)鍋爐和電站排水等）。

3.14單位產(chǎn)品基準排水量benchmarkeffluentvolumeperunitproduct

用于核定水污染物排放濃度而規(guī)定的生產(chǎn)單位電子產(chǎn)品的廢水排放量上限值。

3.15揮發(fā)性有機物volatileorganiccompounds

參與大氣光化學反應的有機化合物，或者根據(jù)規(guī)定的方法測量或核算確定的有機化合物。

根據(jù)行業(yè)特征和環(huán)境管理需求，可選擇對主要VOCs物種進行定量加和的方法測量總有機化合物（以

TVOC表示），或者選用按基準物質標定，檢測器對混合進樣中VOCs綜合響應的方法測量非甲烷有機化

合物（以NMHC表示，以碳計）。

3.16標準狀態(tài)standardcondition

溫度為273.15K、壓力為101325Pa時的狀態(tài)。本標準規(guī)定的大氣污染物排放濃度限值均以標準狀

態(tài)下的干氣體為基準。

3.17企業(yè)邊界enterpriseboundary

電子工業(yè)企業(yè)或生產(chǎn)設施的法定邊界。若無法定邊界，則指企業(yè)或生產(chǎn)設施的實際占地邊界。

3.18排氣筒高度stackheight

自排氣筒（或其主體建筑構造）所在的地平面至排氣筒出口計的高度，單位為m。

4水污染物排放控制要求

4.1現(xiàn)有企業(yè)2021年1月1日前仍執(zhí)行現(xiàn)行標準，自2021年1月1日起執(zhí)行表1規(guī)定的水污染物排

放限值。

4.2新建企業(yè)自2019年1月1日起執(zhí)行表1規(guī)定的水污染物排放限值。

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表1水污染物排放限值

單位：mg/L（pH值除外）

排放限值(1)

直接排放間接排放(2)

污染

電電

印顯示印半顯示物排

序電子電子

污染物電子制半導器件電子制導器件放監(jiān)

號子終子終

專用電體器及光專用電體及光控位

元端元端

材料路件電子材料路器電子置

件產(chǎn)件產(chǎn)

板器件板件器件

品品

1pH值6.0～9.06.0～9.0

2懸浮物（SS）50250

化學需氧量

380300

（CODCr）

總有機碳

42090

（TOC）

5總氰化物0.2--0.4--

企業(yè)

6石油類3.08.0

廢水

7氨氮10/20(3)5.020105.05.025/45(3)2545402525

總排

8總氮20/30(3153015151540/60(3)4060604040

放口

9總磷0.5/1.0(3)0.51.01.00.50.56.0

陰離子表面

103.06.0

活性劑（LAS）

11硫化物----1.01.0--------1.01.0----

12氟化物10--20--

13總銅0.5--0.50.51.01.00.5--

14總鋅1.5----1.51.5--1.5----1.51.5--

15總鎘0.05----0.05----0.05--0.05----

車間

16總鉻1.0----0.5----1.0----0.5----

或生

17六價鉻0.2----0.1----0.2----0.1----

產(chǎn)設

18總砷0.30.3--0.20.2--0.30.3--0.20.2--

施廢

19總鉛0.20.1--0.20.2--0.20.1--0.20.2--

水排

20總鎳0.5--0.5--

放口

21總銀0.3--0.3--

注：（1）表中的“--”表示該污染物不是相應子行業(yè)的污染控制項目。

（2）總鎘、總鉻、六價鉻、總砷、總鉛、總鎳、總銀執(zhí)行本表規(guī)定的間接排放控制要求。

對于其他水污染物，1）企業(yè)廢水若排向城鎮(zhèn)污水處理廠時，水污染物排放執(zhí)行本表規(guī)定的間接排放控制要求。2）若排

向其他公共污水處理系統(tǒng)時，則其間接排放限值由企業(yè)與公共污水處理系統(tǒng)協(xié)商確定，但應滿足以下條件：a）公共污水處

理系統(tǒng)應具備有效去除該污染物的能力，即企業(yè)與公共污水處理系統(tǒng)合計對該污染物的去除率不低于企業(yè)執(zhí)行直接排放限值

時該污染物的去除率（按污染物的質量計算）；b）企業(yè)排向公共污水處理系統(tǒng)的廢水應得到實時監(jiān)控和預警；c）企業(yè)應設

有應急事故池，廢水達不到協(xié)商的間接排放控制要求時排入事故池中，不得排向公共污水處理系統(tǒng)；d）企業(yè)應與公共污水

處理系統(tǒng)簽訂委托處理協(xié)議，并報當?shù)丨h(huán)境保護主管部門備案。公共污水處理系統(tǒng)排放應保證達到相關環(huán)保要求。企業(yè)與公

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共污水處理系統(tǒng)未協(xié)商確定間接排放限值的，按本表規(guī)定的間接排放限值執(zhí)行。

（3）適用于鋁電解電容器電極箔生產(chǎn)企業(yè)。

4.3根據(jù)環(huán)境保護工作的要求，在國土開發(fā)密度已經(jīng)較高、環(huán)境承載能力開始減弱，或環(huán)境容量較小、

生態(tài)環(huán)境脆弱，容易發(fā)生嚴重環(huán)境污染問題而需要采取特別保護措施的地區(qū)，應嚴格控制企業(yè)的污染物

排放行為，在上述地區(qū)的電子工業(yè)企業(yè)執(zhí)行表2規(guī)定的水污染物特別排放限值。

執(zhí)行水污染物特別排放限值的地域范圍、時間，由國務院環(huán)境保護行政主管部門或省級人民政府規(guī)

定。

表2水污染物特別排放限值

單位：mg/L（pH值除外）

排放限值(1)

直接排放間接排放(2)

電電電

印半顯示印半污染物

序電子子電顯示器子

污染物制導器件制導排放監(jiān)

號電子專子終專子件及光終

電體及光電體控位置

用材料元端用元電子器端

路器電子路器

件產(chǎn)材件件產(chǎn)

板件器件板件

品料品

1pH值6.0～9.06.0～9.0

2懸浮物（SS）20250

化學需氧量

350300

（CODCr）

總有機碳

41590

（TOC）

5總氰化物0.2--0.2--

6石油類1.05.0

企業(yè)廢

7氨氮8.0/15(3)5.0158.05.05.020

水總排

8總氮10/20(3)102010101035

放口

9總磷0.53.0

陰離子表面

10活性劑0.51.0

（LAS）

11硫化物----1.01.0--------1.01.0----

12氟化物8.0--15--

13總銅0.3--0.3--

14總鋅1.0----1.01.0--1.0----1.01.0--

15總鎘0.01----0.01----0.01----0.01----

16總鉻0.5----0.5----0.5----0.5----

車間或

17六價鉻0.1----0.1----0.1----0.1----

生產(chǎn)設

18總砷0.10.1--0.10.1--0.10.1--0.10.1--

施廢水

19總鉛0.10.1--0.10.1--0.10.1--0.10.1--

排放口

20總鎳0.1--0.1--

21總銀0.1--0.1--

—20—

注：（1）表中的“--”表示該污染物不是相應子行業(yè)的污染控制項目。

（2）總鎘、總鉻、六價鉻、總砷、總鉛、總鎳、總銀執(zhí)行本表規(guī)定的間接排放控制要求。

對于其他水污染物，1）企業(yè)廢水若排向城鎮(zhèn)污水處理廠時，水污染物排放執(zhí)行本表規(guī)定的間接排放控制要求。2）若排

向其他公共污水處理系統(tǒng)時，則其間接排放限值由企業(yè)與公共污水處理系統(tǒng)協(xié)商確定，但應滿足以下條件：a）公共污水處

理系統(tǒng)應具備有效去除該污染物的能力，即企業(yè)與公共污水處理系統(tǒng)合計對該污染物的去除率不低于企業(yè)執(zhí)行直接排放限值

時該污染物的去除率（按污染物的質量計算）；b）企業(yè)排向公共污水處理系統(tǒng)的廢水應得到實時監(jiān)控和預警；c）企業(yè)應設

有應急事故池，廢水達不到協(xié)商的間接排放控制要求時排入事故池中，不得排向公共污水處理系統(tǒng)；d）企業(yè)應與公共污水

處理系統(tǒng)簽訂委托處理協(xié)議，并報當?shù)丨h(huán)境保護主管部門備案。公共污水處理系統(tǒng)排放應保證達到相關環(huán)保要求。企業(yè)與公

共污水處理系統(tǒng)未協(xié)商確定間接排放限值的，按本表規(guī)定的間接排放限值執(zhí)行。

（3）適用于鋁電解電容器電極箔生產(chǎn)企業(yè)。

4.4新建企業(yè)自2019年1月1日起，現(xiàn)有企業(yè)自2021年1月1日起，執(zhí)行表3規(guī)定的單位產(chǎn)品基準

排水量。

表3單位電子產(chǎn)品基準排水量

污染物

序號適用企業(yè)產(chǎn)品規(guī)格單位單位產(chǎn)品基準排水量(1)排放監(jiān)

控位置

硅單晶材料、壓電晶體材料、藍寶

m3/t產(chǎn)品2200

石基片

1電子專用材料電子銅箔m3/t產(chǎn)品100

鋁電解電容器電極箔m3/m20.15

其他m3/t產(chǎn)品5.0

壓電晶體元器件m3/萬只產(chǎn)品3.5

2電子元件

其他m3/萬只產(chǎn)品0.2

單面板m3/m20.3

雙面板m3/m21.4排水量

3印制電路板

多層板（2+n）層m3/m2(1.3+0.5n)(2)計量位

HDI板（2+n）層m3/m2(1.3+0.8n)(2)置與污

≤6英寸芯片生產(chǎn)m3/片3.2染物排

8英寸芯片生產(chǎn)m3/片6.0放監(jiān)控

4半導體器件12英寸芯片生產(chǎn)m3/片11位置一

封裝測試m3/千塊產(chǎn)品2.0致

分立器件m3/萬塊產(chǎn)品3.5

m3/m2（以陣列

顯示器件及薄膜晶體管液晶顯示器件

5玻璃基板投入1.8(4)/3.5(5)/6.2(6)

光電子器件（TFT-LCD）(3)

面積計）

m3/m2（以陣列

有源矩陣有機發(fā)光二極管顯示器件

玻璃基板投入6.2

顯示器件及（AMOLED）

5光電子器件面積計）

發(fā)光二極管（LED）m3/萬粒0.5

—21—

注：（1）本表中規(guī)定的單位產(chǎn)品基準排水量值應按照滿產(chǎn)情況進行測算。

（2）n為正整數(shù)，2+n用于表達印制電路板層數(shù)，如6層多層板是（2+4），n為4。HDI板層數(shù)包含芯板。剛撓板

層數(shù)應以剛性或撓性的總層數(shù)計算，鑒于撓性電路板的特殊性，其基準排水量按本表限值相應增加35%。

（3）本限值對應的工藝過程包括：陣列-彩膜-成盒-模塊。

（4）本限值對應6代以上a-Si-TFT-LCD和Oxide-TFT-LCD企業(yè)。

（5）本限值對應6代及以下a-Si-TFT-LCD企業(yè)。

（6）本限值對應6代及以下LTPSTFTLCD企業(yè)。

4.5水污染物排放限值適用于單位產(chǎn)品實際排水量不高于單位產(chǎn)品基準排水量的情況。若單位產(chǎn)品實

際排水量超過單位產(chǎn)品基準排水量，須按公式（1）將實測水污染物濃度換算為水污染物基準水量排放

濃度，并以水污染物基準水量排放濃度作為判定排放是否達標的依據(jù)。產(chǎn)品產(chǎn)量和排水量統(tǒng)計周期為一

個工作日。

在企業(yè)的生產(chǎn)設施同時生產(chǎn)兩種以上產(chǎn)品，可適用不同排放控制要求或不同行業(yè)國家污染物排放標

準時，且生產(chǎn)設施產(chǎn)生的污水混合處理排放的情況下，應執(zhí)行排放標準中規(guī)定的最嚴格的濃度限值，并

按公式（1）換算水污染物基準水量排放濃度：

Q總

基＝實（1）

YiQi基

式中：

基——水污染物基準排水量排放濃度，mg/L；

3

Q總——排水總量，m；

Yi——某種產(chǎn)品產(chǎn)量，產(chǎn)品單位見表3；

某種產(chǎn)品的單位產(chǎn)品基準排水量，產(chǎn)品單位見表；

Qi基——3

實——實測水污染物排放濃度，mg/L。

若與的比值小于，則以水污染物實測濃度作為判定排放是否達標的依據(jù)。

Q總YiQi基1

5大氣污染物排放控制要求

5.1有組織排放控制要求

5.1.1現(xiàn)有企業(yè)2021年1月1日前仍執(zhí)行現(xiàn)行標準，自2021年1月1日起執(zhí)行表4規(guī)定的大氣污染

物排放限值。

5.1.2新建企業(yè)自2019年1月1日起執(zhí)行表4規(guī)定的大氣污染物排放限值。

表4大氣污染物排放限值

單位：mg/m3（去除效率除外）

序號污染物排放限值污染物排放

—22—

顯示器件監(jiān)控位置

電子專用印制電路半導體器電子終端

電子元件及光電子

材料板件產(chǎn)品

器件

1顆粒物202020----20

2氮氧化物(1)100/150(2)--100--100--

3氯化氫15/30(2)15--

4硫酸霧10--

5氰化氫----0.5------

6氟化物（以F計）5.0--

7氯氣5.0------5.0--

8氨30--

9鉛及其化合物0.30.30.3----0.3

車間或生產(chǎn)

10錫及其化合物2.02.02.02.0--2.0

設施排氣筒

11砷化氫(3)--1.01.0--

12磷化氫(3)--1.01.0--

NMHC100或去除效率95%(4)

13VOCs

TVOC150或去除效率95%(4)

三氯乙

141.0

烯(3)

有機特

15苯4.0

征污染

甲醛

16物(5)5.0

17甲苯25

18二甲苯40

注：（1）適用于硝酸酸洗工藝。

（2）適用于鋁電解電容器電極箔企業(yè)。

（3）待國家污染物監(jiān)測方法標準發(fā)布后實施。

（4）去除效率等于處理設施進口和出口的污染物質量差值與處理設施進口污染物質量的比