光化學反應儀曝光及顯影制程術語手冊

第第頁光化學反應儀曝光及顯影制程術語手冊光化學反應儀重要用于討論氣相或液相介質、固定或流動體系、紫外光或模擬可見光照、反應容器是否負載TiO2光催化劑等條件下的光化學反應。具有供給分析反應產物和自由基的樣品，測定反應動力學常數，測定量子產率等功能，廣泛應用化學合成、環(huán)境保護以及生命科學等討論領域光化學、干膜、曝光及顯影制程術語手冊1、Absorption領受，吸入指被領受物會進入主體的內部，是一種化學式的吸入步履。如光化反映中的光能領受，或板材與綠漆對溶劑的吸入等。還有一貌似詞Adsorption則是指吸附而言，只附著在主體的概略，是一種物理式的親和吸附。2、ActinicLight（orIntensity，orRadiation）有用光指用以完成光化反映各類光線中，其Z有用波長規(guī)模的光而言。例如在360～420nm波長規(guī)模的光，對偶氮棕片、淺顯吵嘴底片及重鉻酸鹽感光膜等，其等反映均Z快Z且功用Z大，謂之有用光。3、Acutance解像尖銳度是指各類由感光編制所取得的圖像，其線條邊緣的尖銳景象抽象（Sharpness），此與解像度Resolution不合。后者是指在必定寬度距離中，可以了了的顯像（Develope）解出若干良多多少組“線對”而言（LinePair，系指一條線路及一個空間的組合），普簡易稱只說解出機條“線”而已。4、AdhesionPromotor附出力增長劑多指干膜中所添加的某些化學品，能促使其與銅面發(fā)生“化學鍵”，而增長其與底材間之附出力者皆謂之。5、Binder粘結劑各類積層板中的接著樹脂部份，或干膜之阻劑中，所添加用以“成形”而不致太“散”的接著及構成劑類。6、BlurEdge（Circle）恍惚邊帶，恍惚邊圈多層板各內層孔環(huán)與孔位之間在做瞄準度搜檢時，可把持X光透視法為之。由于X光之光源與其機組均非平行光之機關，故所得圓墊（Pad）之削減回憶，其邊緣之解像其實不明銳了了，稱為BlurEdge。7、BreakPoint出像點，顯像點指制程中已有干膜貼附的“在制板”，于自動保送線顯像室上下噴液中遏制顯像時，抵達其完成沖洗而出現出了了圖形的“旅程點”，謂之“BreakPoint”。所經過過的沖洗旅程，以占顯像室長度的50～75%之間為好，如斯可以使剩下旅途中的清水沖洗，更能加強斷根殘膜的成果。8、CarbonArcLamp碳弧燈晚期電路板底片的翻制或版膜的分娩時，為其曝光所用的光源之一，是在中心迫近的碳精棒之間，施加高電壓而發(fā)生弧光的拆卸。9、CleanRoom無塵室、干凈室是一個遭到賣力經管及精采把握的房間，其溫度、濕度、壓力都可加以調劑，且氣氛中的塵埃及臭氣已予以消弭，為半導體及細線電路板分娩制造必需的景象抽象。淺顯“干凈度”的表達，是以每“立方呎”的氣氛中，含有大于0.5μm以上的塵粒數目，做為分級的尺度，又為儉仆成本起見，常只在使命臺面上設置部門無塵的景象抽象，以嘗試必需的使命，稱CleanBenches。10、CollimatedLight平行光以感光法遏制回憶轉移時，為添加底片與板面間，在圖案上的變形走樣起見，應接受平行光遏制曝光制程。這類平行光是經由屢次反射折射，而取得低熱量且貌似平行的光源，稱為CollimatedLight，為細線路建筑必需的裝備。由于垂直于板面的平行光，對板面或景象抽象中的少許塵埃都很是緩慢，常會忠誠的暗示在所曬出的回憶上，構成很多額定的漏洞錯誤，反不如淺顯散射或漫射光源可以或許自彼此補而消彌，故接受平行光時，必需還要無塵室的合營才行。此時底片與待曝光的板面之間，已無需再做抽真空的密接（CloseContact），而可間接使用較嚴重的SoftContact或OffContact了。11、Conformity吻合性，服貼性完成零件壞配的板子，為使整片板子外形遭到賣力的呵護起見，再以絕緣性的涂料予以封護涂裝，使有更好的信任性。淺顯或較高條理的拆卸板，才會用到這類外形貼護層。12、DeclinationAngle斜射角由光源所間接射下的光線，或經各類折射反射過程后，再行射下的光線中，凡出現不垂直射在受光面上，而與“垂直法線”呈某一斜角者（即圖中之a角）該斜角即稱DeclinationAngle。當此斜光打在干膜阻劑邊緣所構成的“小孔相機”并經Mylar折光下，會泛起另外一“平行光”之半角（CollimationHalfAngle，CHA）。但凡“細線路”曝光所邃密精彩的“高平行度”的曝光機時，其所呈的“斜射角”應小于1.5度，其“平行半角”也須小于1.5度。13、Definition邊緣傳神度在以感光法或印刷法遏制圖形或回憶轉移時，所取得的下一代圖案，其線路或各導體的邊緣，是不是能泛起齊直而又忠于原底片之外形，稱為“邊緣齊直性”或傳神度“Definition”。14、Densitomer透光度計是一種對吵嘴底片之透光度（Dmin）或遮光度（Dmax）遏制丈量之儀器，以搜檢該底片之劣化水平若何。其常常使用的品牌如X—Rite369等于。15、Developer顯像液，顯影液，顯像機用以沖洗掉未感光聚合的膜層，而留下已感光聚合的阻劑層圖案，其所用的化學品溶液稱為顯像液,如干膜制程所用的碳酸鈉（1％）溶液等于。16、Developing顯像，顯影是指感光回憶轉移過程中，由母片翻制子片時稱為顯影。但對下一代像片或干膜圖案的出現作業(yè)，則應稱為“顯像”。既然是由底片上的“影”轉移成為板面的“像”，雖然就該當稱為“顯像”，而不宜再續(xù)稱底片階段的“顯影”，這是淺而易見的事理?？墒菢I(yè)界積非成是習用已久，一時興不茍且更正。日文則稱此為“現像”。17、DiazoFilm偶氮棕片是一種有棕色阻光膜的底片，為干膜回憶轉移時，在紫外光中公用的曝光用具（Phototool）。這類偶氮片即使在棕色的遮光區(qū),也能在“可見光”中透視現實片下的板面景象抽象，比吵嘴底片要便當的多。18、DryFilm干膜是一種做為電路板回憶轉移用的干性感光薄膜阻劑,還有PE及PET兩層皮膜將之夾心呵護。現場施工時可將PE的隔離層撕掉，讓中心的感光阻劑膜壓貼在板子的銅面上,在經由底片感光后即可再撕掉PET的表護膜，遏制沖洗顯像而構成線路圖形的部門阻劑，進而可再嘗試蝕刻（內層）或電鍍（外層）制程，Z初在蝕銅及剝膜后，即取得有裸銅線路的板面。19、EmulsionSide藥膜面吵嘴底片或Diazo棕色底片，在Mylar通明片基（常常使用者有4mil與7mil兩種）的一個概略上涂有薄的感光乳膠（Emulsion）層，做為回憶轉移的前言對象。當從已有圖案的母片要翻照出“光性”相反的子片時，必需謹遵“藥面貼藥面”（EmulsiontoEmulsion）的基來歷根抵則，以消弭因片基厚度而泛起的折光，添加更生畫面的變形走樣。20、Exposure曝光把持紫外線（UV）的能量，使干膜或印墨中的光敏物資遏制光化學反映，以抵達遴選性部門架橋軟化的成果，完成回憶轉移的手段稱為曝光。21、Foot殘足指干膜在顯像今后部份決計留下阻劑，其根部與銅面接觸的死角處，在顯像時不茍且沖洗干凈而殘留的余角（Fillet），稱為Foot或Cove。當干膜太厚或曝光能量貧乏時，常會泛起殘足，將對線寬構成影響。22、Halation環(huán)暈指曝光制程中領受光照之圖案概略，其外緣常構成明暗之間的環(huán)暈。成因是光線穿過半通明之被照體而抵達另外一面，受反射折光回到背面來，即泛起混沌不清的邊緣地帶。23、HalfAngle半角此詞的正式稱號是CollimationHalfAngle“平行光半角”。是指曝光機所射下的“斜光”，抵達底片上回憶圖案的邊緣，由此“邊緣”所發(fā)生“小孔拍照機”效應，而將“斜光”擴大成“發(fā)散光”其擴大角度的一半，謂之“平行光半角”（CHA），簡稱“半角”。24、HoldingTime停置時辰當干膜在板子銅面上完成壓膜步履后，需停置15～30分鐘，使膜層與銅面之間發(fā)生更強的附出力；而經曝光后也要再停置15～30分鐘，讓已感光的部份膜體，延續(xù)遏制的架橋聚合反映，以便耐得住顯像液的沖洗，此兩者皆謂之“停置時辰”。25、Illuminance照度指照射到物體概略的全部“光能量”而言。26、ImageTransfer回憶轉移，圖像轉移在電路板工業(yè)中是指將底片上的線路圖形，以“間接光阻”的編制或“間接印刷”的編制轉移到板面上，使板子成為零件的互連配線及拆卸的載體，而得以闡揚功用?；貞涋D移是電路板制程中要的一站。27、Laminator壓膜機當阻劑干膜或防焊干膜以熱壓編制貼附在板子銅面上時，所使用的加熱輾壓式壓膜機，稱之Laminator。28、LightIntegrator光能堆集器、光能積分器是在某一時段內，對物體概略合計其全部所取得光能量的一種儀器。此儀器中含濾光器，可用以除去淺顯待測波長之外的光線。當此儀另與計時器合營后，可合計物體概略在按時中所領遭到的總能量。淺顯干膜曝光機中都加裝有這類“積分器”，使曝光作業(yè)加倍切確。29、LightIntensity光強度單元時辰內（秒）抵達物體概略的光能量謂之“光強度”。其單元為Watt/cm2,延續(xù)一時段中所累計者即為合計光能量，其單元為Joule（Watt？Sec）。30、Luminance發(fā)光強度，耀度指由發(fā)光物體概略所發(fā)出或某些物體所反射出的光通量而言。貌似的字詞尚有“光能量”LuminousEnergy。31、Negative—ActingResist負性傳染激動之阻劑，負型阻劑是指感光后能發(fā)生聚合反映的化學物資，以其所配制的濕膜或干膜，經曝光、顯像后，可將未感光未聚合的皮膜洗掉，而只在板面上留下已聚合的阻劑圖形，的原始圖案相反，這類感光阻劑稱之為“負性傳染激動阻劑”，也稱為NegativeWorkingResist。反之，能發(fā)生感光分化反映，板面的阻劑圖案與底片不異者，則稱為PositiveActingResis。電路板因解像度（Resolution，陸地用語為“分辯率”）的要求不高，但凡接受“負性傳染激動”的阻劑即可，且也較低價。至于半導體IC、混成電路（Hybrid）、液晶線路（LCD）等則采解像度較好的“正型”阻劑，的其代價也很是貴。32、MercuryVaperLamp汞氣燈是一種不延續(xù)光譜的光源，其要的四五個強峰位置,是調集在波長365～560nm之間。其當光源強度之揭露與能量的施加,在時辰上會稍有后進。且光源熄滅后若需再時，還需求經由一段冷卻的時辰。是以這類光源一旦策動后就要延續(xù)使用，不宜開開關關。在不用時可采“光柵”的編制做為阻斷把握，避開開關次數太多而損及光源的壽命。33、NewtonRing牛頓環(huán)當光線經由過程不合密度的介質，而其間的距離（Gap，例如氣氛）又薄時，則入射光會與此薄的氣氛間隙發(fā)生傳染激動，而泛起五彩狀齊心圓的環(huán)狀現象，由因此牛頓所察覺的故稱為“牛頓環(huán)”。干膜之曝光因系在“不平行”或散射光源下遏制的，為添加母片與子片間因光線斜射而構成失真或不忠誠現象，故必需將兩者之間的間距盡可以或許予以加添，即在抽真空下密接（CloseContact），使完成藥面接藥面（ImulsionSidetoImulsionSide）之緊貼，以抵達的回憶轉移。凡當兩者之間尚有殘剩氣氛時，即暗示抽真空水平貧乏。此種未密接之回憶，必定會發(fā)生曝光不良而激發(fā)的解像劣化，乃至沒法解像的景象抽象。而此殘剩氣氛所出現的牛頓環(huán)，若用手指去壓擠時還會泛起移動現象，成為一種真空水平是