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文檔簡介
ICS75.010
CCSE11
NB
中華人民共和國能源行業(yè)標準
NB/TXXXXX—XXXX
頁巖油實驗基礎(chǔ)
第3部分:富有機質(zhì)頁巖成熟度測量與評價規(guī)范
Shaleoil:ExperimentalBasis
Part3:Specificationsofthermalmaturitymeasurementandevaluationofshalerich
inorganicmatter
(征求意見稿)
XXXX-XX-XX發(fā)布XXXX-XX-XX實施
國家能源局發(fā)布
NB/TXXXX-XXXX
前言
本標準按照GB/T1.1-2020《標準化工作導則第1部分:標準化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則》給出的規(guī)則
起草。
本標準由能源行業(yè)頁巖油標準化技術(shù)委員會提出并歸口。
本標準起草單位:中國石油化工股份有限公司石油勘探開發(fā)研究院無錫石油地質(zhì)研究所、大慶油田
有限責任公司勘探開發(fā)研究院、中國石油化工股份有限公司勝利油田分公司勘探開發(fā)研究院。
本標準主要起草人:李志明、張雋、霍秋立、李政、芮曉慶、韓冬梅、王義章、王鑫
NB/TXXXX-XXXX
引言
頁巖油已成為全球非常規(guī)石油勘探開發(fā)的重要領(lǐng)域之一。我國陸相頁巖油資源豐富,勘探開發(fā)潛
力巨大,實現(xiàn)陸相頁巖油規(guī)模、高效與經(jīng)濟開發(fā),將是保障我國能源安全的壓艙石。富有機質(zhì)頁巖的成
熟度不僅影響頁巖油的可動性,而且是頁巖油有利區(qū)和甜點區(qū)評價優(yōu)選的關(guān)鍵參數(shù),為適應(yīng)我國頁巖油
勘探開發(fā)發(fā)展需要,特制定本標準,以規(guī)范富有機質(zhì)頁巖成熟度測量與評價,為頁巖油實現(xiàn)高效勘探與
開發(fā)奠定基礎(chǔ)。
NB/TXXXX-XXXX
頁巖油實驗基礎(chǔ)
第3部分:富有機質(zhì)頁巖成熟度測量與評價規(guī)范
1范圍
本標準規(guī)定了富有機質(zhì)頁巖成熟度測量方法-顯微組分熒光分析方法的原理、儀器設(shè)備、分析條件、
檢測環(huán)境、分析流程、數(shù)據(jù)處理、質(zhì)量要求與評價規(guī)范。
本標準適用于富有機質(zhì)頁巖成熟度在0.40%~1.20%區(qū)間、且具一定程度熒光強度的烴源巖樣品的成
熟度測量,可以有效解決富有機質(zhì)頁巖缺乏鏡質(zhì)體或鏡質(zhì)體反射率抑制帶來的問題。
2規(guī)范性引用文件
下列文件對于本文件的應(yīng)用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,僅所注日期的版本適用于本文
件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改單)適用于本文件。
GB/T18602巖石熱解分析
SY/T5124沉積巖中鏡質(zhì)體反射率測定方法
SY/T5735陸相烴源巖地球化學評價方法
SY/T6414全巖光片顯微組分鑒定及統(tǒng)計方法
3術(shù)語和定義
3.1
富有機質(zhì)泥頁巖shale/mudstonerichinorganicmatter
是指TOC含量大于2.0%、粒徑小于0.0625mm的細粒沉積巖。
3.2
有機顯微組分organicmaceral
是指富有機質(zhì)泥頁巖中的腐泥組組分、殼質(zhì)組組分、鏡質(zhì)組組分、惰質(zhì)組組分、次生有機組組分、
動物有機碎屑組組分。
3.3
等效鏡質(zhì)體反射率(EqVR%)EquivalentVitriniteReflectance
由有機顯微組分熒光變異圖獲得的有機質(zhì)成熟度。
3.4
初始熒光強度(F0)initialfluorescenceintensityininstantaneous
在恒定的實驗條件下,巖樣中單個顯微組分在激光瞬時激發(fā)下的熒光強度。
NB/TXXXX-XXXX
3.5
最終熒光強度(F400)finalfluorescenceintensityat400S
在恒定的實驗條件下,巖樣中單個顯微組分在激光400s(秒)激發(fā)下的熒光強度。
3.3
熒光強度變異比(F400/F0)fluorescencealteration
在恒定的實驗條件下,巖樣中單個顯微組分的初始熒光強度與最終熒光強度的比值。
4方法原理
顯微組分的熒光變化是由兩種同時發(fā)生的光化學反應(yīng)所引起,一種光化學反應(yīng)導致熒光強度隨時間
而增強,另一種光化學反應(yīng)則導致熒光強度隨時間而減弱。在恒定的實驗條件下,兩種反應(yīng)的速率與顯
微組分的成分及成熟度有關(guān)。
5儀器和設(shè)備
5.1儀器設(shè)備
主要設(shè)備包括:
a)拉曼光譜儀:激光束斑1μm~2μm;
b)激光器:25mW、波長為488nm的氬離子激光器;
c)偏光顯微鏡:配備偏光/反射光源;
d)樣品制備設(shè)備儀:預(yù)磨機、拋光機。
5.2軟件
主要軟件包括:
a)光譜采集處理軟件:能夠進行625.0nm波長的間斷定態(tài)光譜掃描,能夠在624.5nm到625.5nm波長
范圍做疊加;
b)數(shù)據(jù)處理與分析軟件:滿足數(shù)值型數(shù)據(jù)數(shù)學運算及對應(yīng)圖表投點功能。
6儀器標定
6.1分析標樣
正常含氫組分的標準煤樣,主要包括:
a)常規(guī)鏡質(zhì)體反射率測定為Ro=0.40%的標準煤樣;
b)常規(guī)鏡質(zhì)體反射率測定為Ro=0.76%的標準煤樣;
c)常規(guī)鏡質(zhì)體反射率測定為Ro=1.15%的標準煤樣。
6.2儀器標定
NB/TXXXX-XXXX
在設(shè)定激光功率下,標準煤樣的最終熒光強度(F400)和熒光強度變異比(F400/F0)應(yīng)滿足:
a)常規(guī)鏡質(zhì)體反射率測定為Ro=0.40%的標準煤樣,F(xiàn)400在2500a.u.與4500a.u.之間,F(xiàn)400/F0為3.30;
b)常規(guī)鏡質(zhì)體反射率測定為Ro=0.76%的標準煤樣,F(xiàn)400在1800a.u.與2800a.u.之間,F(xiàn)400/F0為為1.40;
c)常規(guī)鏡質(zhì)體反射率測定為Ro=1.15%的標準煤樣,F(xiàn)400在1400a.u.與1800a.u.之間,F(xiàn)400/F0為0.70。
7分析條件與檢測環(huán)境
7.1分析條件
設(shè)定樣品表面功率為75μW±5μW,間斷定態(tài)光譜掃描波長625nm,曝光次數(shù)143次,曝光時間
1.00s/次,間隔0.5s。
7.2檢測環(huán)境
室內(nèi)應(yīng)避光、防塵、防震,室溫24℃±,相對濕度<45%。
8分析流程與數(shù)據(jù)處理
8.1制樣
將巖樣碎樣至小于1mm,與固結(jié)劑按一定比例混合固化成型,用水砂紙、剛玉粉預(yù)磨,用拋光液進
行拋光后,光片的拋光面應(yīng)無污斑、無針狀擦痕、無布紋,將合格的光片放置于通風柜或干燥器內(nèi),4
小時后進行等效鏡質(zhì)體反射率測定。樣品應(yīng)真空保存以避免氧化,表面氧化的樣品應(yīng)切除一定厚度
(0.5mm~0.1mm)后重新拋光。
8.2開機
打開主機、計算機、激光器電源,儀器應(yīng)預(yù)熱20min。
8.3儀器自檢
放置單晶硅于偏光顯微鏡載物臺,放大倍數(shù)10×50,以100%激光功率、1s曝光時間,利用激光拉曼
光譜儀靜態(tài)取譜,滿足中心為520拉曼位移的計數(shù)不低于3000counts。
8.4采集顯微組分熒光變異曲線
8.4.1熒光光譜掃描
利用光譜處理軟件對巖樣中測點進行625.0nm波長的間斷定態(tài)光譜掃描,每次采集的熒光強度不低
于100a.u.。
8.4.2熒光光譜疊加
利用光譜處理軟件對624.5nm至625.5nm波長范圍內(nèi)進行光譜疊加,獲取顯微組分熒光變異曲線。
8.4.3參數(shù)獲取
利用光譜處理軟件得到顯微組分的2個參數(shù):最終熒光強度F400、熒光強度變異比F400/F0。
NB/TXXXX-XXXX
偶然出現(xiàn)的異常峰,數(shù)據(jù)需后期處理后使用;樣品表面出現(xiàn)燒灼,需重新調(diào)整樣品表面激光功率進
行熒光光譜采集。
8.5數(shù)據(jù)處理
8.5.1計算參數(shù)的算術(shù)平均值
計算巖樣中多顯微組分中不少于10個測點的最終熒光強度F400及熒光變異比F400/F0的算術(shù)平均值(取
整)。
8.5.2投點至熒光變異圖
利用數(shù)據(jù)處理與分析軟件,將巖樣的F400與F400/F0的算數(shù)平均值,依次投點到二疊系煤樣熒光變異圖
(參見圖A.1)上。
8.5.3計算等效鏡質(zhì)體反射率(EqVR%)
根據(jù)二疊系煤樣熒光變異圖,計算巖樣的等效鏡質(zhì)體反射率(EqVR%)及抑制程度,并記錄于等效
鏡質(zhì)體反射率報告中(格式參見附錄B)。
9質(zhì)量控制
同一實驗條件及檢測環(huán)境下,Ro在0.40%~1.20%的范圍內(nèi),等效鏡質(zhì)體反射率EqVR%的絕對誤差應(yīng)
小于±0.05%。
表1試樣測定的精密度
試樣反射率:%絕對誤差:%
Ro<0.40%>±0.10
0.40%<Ro<1.20%<±0.05
Ro>1.20%>±0.10
10成熟度評價規(guī)范
10.1富有機質(zhì)頁巖有機質(zhì)類型確定
開展富有機質(zhì)頁巖樣品熱解、有機元素與有機顯微組分分析,分析方法分別按GB/T18602-2012、
GB/T19143-2017和SY/T6414-2014的規(guī)定執(zhí)行,綜合巖石熱解、有機元素與有機顯微組分分析結(jié)果,
確定富有機質(zhì)頁巖的有機質(zhì)類型。
10.2典型有機顯微組分熒光變異曲線采集
按8.4流程采集典型有機顯微組分熒光變異曲線,并獲取最終熒光強度F400、熒光強度變異比F400/F0。
10.3典型富有機質(zhì)頁巖成熟度評價
按8.5流程厘定典型富有機質(zhì)頁巖的等效鏡質(zhì)體反射率(EqVR%)及鏡質(zhì)體反射率抑制程度,分析不
同有機質(zhì)類型頁巖的鏡質(zhì)體反射率抑制程度的范圍。對于有鏡質(zhì)組組分的頁巖樣品,按SY/T5124-2012
的規(guī)定開展鏡質(zhì)體反射率(Ro%),以驗證評價富有機質(zhì)頁巖成熟度評價結(jié)果的正確性。
NB/TXXXX-XXXX
附錄A
(規(guī)范性附錄)
標煤有機顯微組分熒光變異圖版
圖A.1標煤有機顯微組分熒光變異圖版
NB/TXXXX-XXXX
AB
附錄B
(資料性附錄)
有機質(zhì)顯微組分熒光分析等效鏡質(zhì)體反射率分析報告
實驗單位:樣品編號:巖性:實驗人:
分析日期:送樣單位:送樣人:審核人:
深度等效鏡質(zhì)體反射率EqVr抑制校正
分析號來樣號巖性地質(zhì)年代備注
m%%
________________________________
NB/TXXXX-XXXX
目次
前言.......................................................................................................................................................................1
引言.......................................................................................................................................................................2
1范圍.................................................................................................................................錯誤!未定義書簽。
2規(guī)范性引用文件............................................................................................................錯誤!未定義書簽。
3術(shù)語和定義.....................................................................................................................錯誤!未定義書簽。
4方法原理...........................................................................................................................................................4
5儀器和設(shè)備.......................................................................................................................................................4
6儀器標定...........................................................................................................................................................4
7分析條件與檢測環(huán)境.......................................................................................................................................5
8分析流程與數(shù)據(jù)處理.......................................................................................................................................5
9質(zhì)量控制...........................................................................................................................................................6
10成熟度評價規(guī)范.............................................................................................................................................6
附錄A(規(guī)范性附錄)煤樣有機顯微組分熒光變異圖版....................................................................7
附錄A(規(guī)范性附錄)有機顯微組分熒光分析等效鏡質(zhì)體反射率分析報告....................................8
NB/TXXXX-XXXX
頁巖油實驗基礎(chǔ)
第3部分:富有機質(zhì)頁巖成熟度測量與評價規(guī)范
1范圍
本標準規(guī)定了富有機質(zhì)頁巖成熟度測量方法-顯微組分熒光分析方法的原理、儀器設(shè)備、分析條件、
檢測環(huán)境、分析流程、數(shù)據(jù)處理、質(zhì)量要求與評價規(guī)范。
本標準適用于富有機質(zhì)頁巖成熟度在0.40%~1.20%區(qū)間、且具一定程度熒光強度的烴源巖樣品的成
熟度測量,可以有效解決富有機質(zhì)頁巖缺乏鏡質(zhì)體或鏡質(zhì)體反射率抑制帶來的問題。
2規(guī)范性引用文件
下列文件對于本文件的應(yīng)用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,僅所注日期的版本適用于本文
件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改單)適用于本文件。
GB/T18602巖石熱解分析
SY/T5124沉積巖中鏡質(zhì)體反射率測定方法
SY/T5735陸相烴源巖地球化學評價方法
SY/T6414全巖光片顯微組分鑒定及統(tǒng)計方法
3術(shù)語和定義
3.1
富有機質(zhì)泥頁巖shale/mudstonerichinorganicmatter
是指TOC含量大于2.0%、粒徑小于0.0625mm的細粒沉積巖。
3.2
有機顯微組分organicmaceral
是指富有機質(zhì)泥頁巖中的腐泥組組分、殼質(zhì)組組分、鏡質(zhì)組組分、惰質(zhì)組組分、次生有機組組分、
動物有機碎屑組組分。
3.3
等效鏡質(zhì)體反射率(EqVR%)EquivalentVitriniteReflectance
由有機顯微組分熒光變異圖獲得的有機質(zhì)成熟度。
3.4
初始熒光強度(F0)initialfluorescenceintensityininstantaneous
在恒定的實驗條件下,巖樣中單個顯微組分在激光瞬時激發(fā)下的熒光強度。
NB/TXXXX-XXXX
3.5
最終熒光強度(F400)finalfluorescenceintensityat400S
在恒定的實驗條件下,巖樣中單個顯微組分在激光400s(秒)激發(fā)下的熒光強度。
3.3
熒光強度變異比(F400/F0)fluorescencealteration
在恒定的實驗條件下,巖樣中單個顯微組分的初始熒光強度與最終熒光強度的比值。
4方法原理
顯微組分的熒光變化是由兩種同時發(fā)生的光化學反應(yīng)所引起,一種光化學反應(yīng)導致熒光強度隨時間
而增強,另一種光化學反應(yīng)則導致熒光強度隨時間而減弱。在恒定的實驗條件下,兩種反應(yīng)的速率與顯
微組分的成分及成熟度有關(guān)。
5儀器和設(shè)備
5.1儀器設(shè)備
主要設(shè)備包括:
a)拉曼光譜儀:激光束斑1μm~2μm;
b)激光器:25mW、波長為488nm的氬離子激光器;
c)偏光顯微鏡:配備偏光/反射光源;
d)樣品制備設(shè)備儀:預(yù)磨機、拋光機。
5.2軟件
主要軟件包括:
a)光譜采集處理軟件:能夠進行625.0nm波長的間斷定態(tài)光譜掃描,能夠在624.5nm到625.5nm波長
范圍做疊加;
b)數(shù)據(jù)處理與分析軟件:滿足數(shù)值型數(shù)據(jù)數(shù)學運算及對應(yīng)圖表投點功能。
6儀器標定
6.1分析標樣
正常含氫組分的標準煤樣,主要包括:
a)常規(guī)鏡質(zhì)體反射率測定為Ro=0.40%的標準煤樣;
b)常規(guī)鏡質(zhì)體反射率測定為Ro=0.76%的標準煤樣;
c)常規(guī)鏡質(zhì)體反射率測定為Ro=1.15%的標準煤樣。
6.2儀器標定
NB/TXXXX-XXXX
在設(shè)定激光功率下,標準煤樣的最終熒光強度(F400)和熒光強度變異比(F400/F0)應(yīng)滿足:
a)常規(guī)鏡質(zhì)體反射率測定為Ro=0.40%的標準煤樣,F(xiàn)400在2500a.u.與4500a.u.之間,F(xiàn)400/F0為3.30;
b)常規(guī)鏡質(zhì)體反射率測定為Ro=0.76%的標準煤樣,F(xiàn)400在1800a.u.與2800a.u.之間,F(xiàn)400/F0為為1.40;
c)常規(guī)鏡質(zhì)體反射率測定為Ro=1.15%的標準煤樣,F(xiàn)400在1400a.u.與1800a.u.之間,F(xiàn)400/F0為0.70。
7分析條件與檢測環(huán)境
7.1分析條件
設(shè)定樣品表面功率為75μW±5μW,間斷定態(tài)光譜掃描波長625nm,曝光次數(shù)143次,曝光時間
1.00s/次,間隔0.5s。
7.2檢測環(huán)境
室內(nèi)應(yīng)避光、防塵、防震,室溫24℃±,相對濕度<45%。
8分析流程與數(shù)據(jù)處理
8.1制樣
將巖樣碎樣至小于1mm,與固結(jié)劑按一定比例混合固化成型,用水砂紙、剛玉粉預(yù)磨,用拋光液進
行拋光后,光片的拋光面應(yīng)無污斑、無針狀擦痕、無布紋,將合格的光片放置于通風柜或干燥器內(nèi),4
小時后進行等效鏡質(zhì)體反射率測定。樣品應(yīng)真空保存以避免氧化,表面氧化的樣品應(yīng)切除一定厚度
(0.5mm~0.1mm)后重新拋光。
8.2開機
打開主機、計算機、激光器電源,儀器應(yīng)預(yù)熱20min。
8.3儀器自檢
放置單晶硅于偏光顯微鏡載物臺,放大倍數(shù)10×50,以100%激光功率、1s曝光時間,利用激光拉曼
光譜儀靜態(tài)取譜,滿足中心為520拉曼位移的計數(shù)不低于3000counts。
8.4采集顯微組分熒光變異曲線
8.4.1熒光光譜掃描
利用光譜處理軟件對巖樣中測點進行625.0nm波長的間斷定態(tài)光譜掃描,每次采集的熒光強度不低
于100a.u.。
8.4.2熒光光譜疊加
利用光譜處理軟件對624.5nm至625.5nm波長范圍內(nèi)進行光譜疊加,獲取顯微組分熒光變異曲線。
8.4.3參數(shù)獲取
利用光譜處理軟件得到顯微組分的2個參數(shù):最終熒光強度F400、熒光強度變異比F400/F0。
NB/TXXXX-XXXX
偶
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