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NXCLSyntheticquartzcrucibleforsemiconductorgraI本文件按照GB/T1.1—2020《標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第1部分:標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則》的夏大學(xué)、寧夏高創(chuàng)特能源科技有限公司、寧夏旭櫻新能源科技有限1半導(dǎo)體級(jí)單晶硅生長(zhǎng)用合成石英坩堝GB/T2828.1—2012計(jì)數(shù)抽樣檢測(cè)程序第一部分:按接受質(zhì)量限(AQL)檢索的逐批檢驗(yàn)抽樣計(jì)劃JC/T2205界定的以及下列術(shù)語及定義適用于本坩堝內(nèi)壁本體的白色斑點(diǎn),是粘附于坩堝內(nèi)表面部分熔融的砂粉塊或坩堝夾層未融化的石英透明層厚度bubbledepletionlayerthick4規(guī)格尺寸25技術(shù)要求5.1原料制作合成石英坩堝的外層原料主要為純度大于99.99%的天然石英砂,內(nèi)層原料為純度大于99.999%的合成石英砂。5.2尺寸偏差石英坩堝的尺寸偏差應(yīng)符合表1的規(guī)定。圓度偏差高度偏差弧度間隙rR223石英坩堝的透明層厚度應(yīng)大于等于對(duì)應(yīng)部位壁厚的五分之一,小于等于對(duì)應(yīng)部位壁厚的百分之七石英坩堝的外觀質(zhì)量應(yīng)符合表2的規(guī)定,或由供需雙方商定提供。表2外觀質(zhì)量要求不允許有深度超過0.25mm,長(zhǎng)度超過附著物凹痕或凸起不允許有直徑超過20mm,深度超過1mm的白斑內(nèi)表面壁內(nèi)≤1個(gè)≤1個(gè)≤2個(gè)≤6個(gè)≤7個(gè)≤8個(gè)雜質(zhì)點(diǎn)內(nèi)表面內(nèi)表面上不允許有暴露雜質(zhì)點(diǎn)壁內(nèi)≤2個(gè)≤2個(gè)≤1個(gè)≤4個(gè)≤4個(gè)≤2個(gè)≤6個(gè)≤8個(gè)≤6個(gè)≤10個(gè)≤10個(gè)≤6個(gè)≤20個(gè)≤20個(gè)寬度≤1.4mm;3mm<長(zhǎng)度≤8mm的細(xì)長(zhǎng)雜質(zhì)點(diǎn)≤1個(gè);長(zhǎng)度>8mm的雜質(zhì)點(diǎn)不允許內(nèi)表面壁內(nèi)≤1個(gè)≤1個(gè)≤2個(gè)≤2個(gè)≤3個(gè)≤3個(gè)≤3個(gè)≤5個(gè)≤5個(gè)≤8個(gè)≤8個(gè)≤8個(gè)≤12個(gè)≤20個(gè)≤24個(gè)兩個(gè)或兩個(gè)以上直徑小于0.5mm的氣泡且間距小于氣泡徑向尺寸5倍的微氣泡群,氣泡群的直徑和數(shù)量按上述標(biāo)準(zhǔn)控制坩堝端口倒角與直壁交接處不允許有2mm×2mm浮砂石英坩堝的雜質(zhì)元素含量應(yīng)符合表3的規(guī)定。表3雜質(zhì)元素含量要求類別K內(nèi)層合成(≤)外層天然(≤)1200℃±5℃下恒溫1h,無析晶白點(diǎn)出現(xiàn)。4T/NXCL28—20241500℃±10℃下恒溫1h,石英坩堝形變率應(yīng)小于等于2%。6.1.3彎弧壁厚偏差弧中心點(diǎn)透明層厚度,各部位測(cè)量點(diǎn)不少于4個(gè),所得4個(gè)測(cè)量值誤差不大于0.5mm,最終確定測(cè)56.5抗析晶性從石英坩堝直壁上切取約50mm×50mm原壁厚試樣3塊,內(nèi)表面無外觀缺陷,切口處磨平。用體積分?jǐn)?shù)為10%~15%的鹽酸溶液浸泡試樣約10min后,用去離子水或無水乙醇清洗,并用脫脂棉擦凈。將試樣放入高溫爐中,于1200℃±5℃下恒溫6h,隨爐自然冷卻至室溫后取出試樣,目測(cè)觀察6.6耐熱性從石英坩堝直壁上縱向切取180mm×20mm原壁厚試樣3塊,樣品處理方法按6.5的規(guī)定。將試樣水平置于跨距為130mm的耐熱支架上,在樣品中部放置2g±0.2g(直徑為15mm~20mm,長(zhǎng)度為15mm~20mm)的石英半管,并使試樣與石英半管接觸面積最小,放入高溫爐中,于1500℃±10℃下恒溫1h,置高溫爐中自然冷卻至室溫后取出試樣,測(cè)量試樣的拱高變化值△H,并按式(1)計(jì)算高△H——拱高變化值(單位:mm)。6.7等效試驗(yàn)7檢驗(yàn)規(guī)則7.1檢驗(yàn)分類7.2出廠檢測(cè)7.2.1檢驗(yàn)項(xiàng)目采用100%檢驗(yàn)。7.2.3判定規(guī)則7.3型式檢驗(yàn)d)產(chǎn)品停產(chǎn)6個(gè)月以上,重新恢復(fù)生產(chǎn)時(shí);7.3.2檢驗(yàn)項(xiàng)目型式檢驗(yàn)的項(xiàng)目為本文件第

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