《微電子技術(shù)及應(yīng)用》實(shí)驗教學(xué)大綱_第1頁
《微電子技術(shù)及應(yīng)用》實(shí)驗教學(xué)大綱_第2頁
《微電子技術(shù)及應(yīng)用》實(shí)驗教學(xué)大綱_第3頁
免費(fèi)預(yù)覽已結(jié)束,剩余1頁可下載查看

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進(jìn)行舉報或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡介

《微電子技術(shù)及應(yīng)用》實(shí)驗教學(xué)大綱一、課程基本情況課程代碼:101145223505課程名稱(中/英文):微電子技術(shù)及應(yīng)用/MicroelectronicsTechnologyandApplications課程類別:專業(yè)選修課程學(xué)分:2總學(xué)時:32理論學(xué)時:24實(shí)驗/實(shí)踐學(xué)時:8適用專業(yè):金屬材料工程適用對象:本科先修課程:材料科學(xué)基礎(chǔ)、材料物理性能、材料近代分析測試方法教學(xué)環(huán)境:多媒體教室/實(shí)驗室開課學(xué)院:材料科學(xué)與工程學(xué)院二、課程簡介微電子技術(shù)及應(yīng)用是金屬材料工程的專業(yè)選修課程之一。微電子技術(shù)及應(yīng)用實(shí)驗課程是理論課的延伸,它的主要任務(wù)是使學(xué)生獲得實(shí)驗的基本操作和技能的訓(xùn)練,是提高學(xué)生獨(dú)立操作能力、分析問題和解決問題能力的一個重要環(huán)節(jié)。微電子技術(shù)及應(yīng)用實(shí)驗有4個實(shí)驗項目,實(shí)驗內(nèi)容包含半導(dǎo)體材料電阻率的四探針法測量、微觀結(jié)構(gòu)測試與分析、二氧化硅薄膜制備與厚度測量和集成芯片解剖觀察與封裝材料識別。三、實(shí)驗教學(xué)目標(biāo)微電子技術(shù)及應(yīng)用實(shí)驗課程是本課程的重要實(shí)踐教學(xué)環(huán)節(jié),是實(shí)現(xiàn)本專業(yè)應(yīng)用型人才培養(yǎng)的主要手段之一。通過本實(shí)驗課的實(shí)驗教學(xué)使學(xué)生們掌握微電子技術(shù)中一些重要實(shí)驗的原理、方法;熟悉常用測試儀器、設(shè)備;加深對微電子科學(xué)理論的理解。培養(yǎng)學(xué)生靈活運(yùn)用理論知識解決實(shí)際問題的能力,鍛煉學(xué)生分析、探討和總結(jié)實(shí)驗結(jié)果的能力,使學(xué)生在實(shí)驗技能和方法方面得到進(jìn)一步訓(xùn)練,提升學(xué)生在專業(yè)技術(shù)領(lǐng)域的競爭力。四、實(shí)驗項目及學(xué)時安排序號實(shí)驗項目名稱實(shí)驗學(xué)時實(shí)驗類型實(shí)驗要求每組人數(shù)備注1半導(dǎo)體材料電阻率的四探針法測量2綜合性必做2-32微觀結(jié)構(gòu)測試與分析2綜合性必做2-33二氧化硅薄膜制備與厚度測量2綜合性必做2-34集成芯片解剖觀察與封裝材料識別2綜合性必做2-3五、實(shí)驗內(nèi)容實(shí)驗一半導(dǎo)體材料電阻率的四探針法測量實(shí)驗?zāi)康模赫莆账奶结樂y量半導(dǎo)體材料電阻率和薄層材料電阻的測試原理及方法;了解熱探針判別材料導(dǎo)電類型的機(jī)理和方法。實(shí)驗設(shè)備:四探針測試儀實(shí)驗內(nèi)容及步驟:實(shí)驗前要認(rèn)真閱讀實(shí)驗指導(dǎo)書及相關(guān)理論知識,掌握本次實(shí)驗的實(shí)驗項目、內(nèi)容。在實(shí)驗過程中嚴(yán)格遵守操作規(guī)程。測試給定的不同規(guī)格半導(dǎo)體材料樣品電阻率,使用EXCEL軟件對各個樣品的測試數(shù)據(jù)進(jìn)行指定方式的計算和處理。試用熱探針判別材料導(dǎo)電類型。實(shí)驗二微觀結(jié)構(gòu)測試與分析實(shí)驗?zāi)康模赫莆战鹣囡@微測量分析系統(tǒng)的使用方法。實(shí)驗設(shè)備:金相顯微鏡,試樣,拋光機(jī),砂紙。實(shí)驗內(nèi)容及步驟:實(shí)驗前要認(rèn)真閱讀實(shí)驗指導(dǎo)書及相關(guān)理論知識,掌握本次實(shí)驗的實(shí)驗項目、內(nèi)容。在實(shí)驗過程中嚴(yán)格遵守操作規(guī)程。切割、制備金相試樣,調(diào)節(jié)金相顯微鏡觀察認(rèn)識半導(dǎo)體材料的微觀組織,對材料中可能存在的缺陷進(jìn)行分析,討論雜質(zhì)及缺陷產(chǎn)生的原因。實(shí)驗三二氧化硅薄膜制備與厚度測量實(shí)驗?zāi)康模毫私舛趸璧男再|(zhì)及在半導(dǎo)體器件中的作用;掌握二氧化硅薄膜制備與厚度測量的方法。實(shí)驗設(shè)備:氧化設(shè)備,橢圓偏振儀,干涉顯微鏡。實(shí)驗內(nèi)容及步驟:實(shí)驗前要認(rèn)真閱讀實(shí)驗指導(dǎo)書及相關(guān)理論知識,掌握本次實(shí)驗的實(shí)驗項目、內(nèi)容。在實(shí)驗過程中嚴(yán)格遵守操作規(guī)程。讓學(xué)生觀察認(rèn)識二氧化硅薄膜制備方法及工藝特點(diǎn),分析比較不同厚度測量方法的工作原理。實(shí)驗四集成芯片解剖觀察與封裝材料識別實(shí)驗?zāi)康模毫私獬S闷骷膬?nèi)部結(jié)構(gòu),分析結(jié)構(gòu)特點(diǎn)和設(shè)計思路。實(shí)驗設(shè)備:集成芯片實(shí)驗內(nèi)容及步驟:實(shí)驗前要認(rèn)真閱讀實(shí)驗指導(dǎo)書及相關(guān)理論知識,掌握本次實(shí)驗的實(shí)驗項目、內(nèi)容。在實(shí)驗過程中嚴(yán)格遵守操作規(guī)程。對已解剖的晶體管和集成電路,觀測并繪制其內(nèi)部元器件結(jié)構(gòu)圖形。六、實(shí)驗報告格式實(shí)驗名稱(一)實(shí)驗?zāi)康模ǘ?shí)驗設(shè)備(三)實(shí)驗內(nèi)容及步驟(四)結(jié)果與分析(五)問題討論七、考核方式(一)實(shí)驗成績的構(gòu)成實(shí)驗成績占課程綜合評定成績比例為20%,參考實(shí)驗考勤、實(shí)驗操作及實(shí)驗報告成績綜合給定。(二)實(shí)驗成績評分標(biāo)準(zhǔn)1.實(shí)驗成績以百分制或五級制(優(yōu)、良、中、及格、不及格)填報,然后按比例記入該課程成績中。2.多個實(shí)驗項目的要最后填報平均成績。3.按照實(shí)驗指導(dǎo)書的具體要求,根據(jù)每個學(xué)生實(shí)驗前的預(yù)習(xí)準(zhǔn)備,實(shí)驗過程的考查,實(shí)驗操作情況及實(shí)驗報告的質(zhì)量,綜合給出實(shí)驗成績。4.實(shí)驗評分應(yīng)包括三個方面:(1)實(shí)驗預(yù)習(xí)及實(shí)驗紀(jì)律占20%:(2)實(shí)驗操作占40%:(3)實(shí)驗報告占40%。評分等級:評定成績分優(yōu)、良、中、及格和不及格五個等級。優(yōu):90分以上;良:80-89分;中:70-79分;及格:60-69分;不及格:59分以下,也可通過百分制給出四個實(shí)驗的綜合成績。實(shí)驗成績評定及考核標(biāo)準(zhǔn)考核環(huán)節(jié)考核結(jié)果及標(biāo)準(zhǔn)評估項目及權(quán)重優(yōu)秀(90~100分)良好(80~90分)中等(70~80分)及格(60~70分)不及格(<60分)實(shí)驗預(yù)習(xí)及實(shí)驗紀(jì)律(20%)實(shí)驗前能夠按照實(shí)驗要求,提前預(yù)習(xí),掌握實(shí)驗內(nèi)容,掌握實(shí)驗安全操作規(guī)程,遵守實(shí)驗紀(jì)律。實(shí)驗前能夠按照實(shí)驗要求,提前預(yù)習(xí),較好的掌握實(shí)驗內(nèi)容、掌握實(shí)驗安全操作規(guī)程,遵守實(shí)驗紀(jì)律。實(shí)驗前能夠按照實(shí)驗要求,提前預(yù)習(xí),了解實(shí)驗內(nèi)容、實(shí)驗安全操作規(guī)程,較遵守實(shí)驗紀(jì)律。實(shí)驗前能夠按照實(shí)驗要求,提前預(yù)習(xí),基本了解實(shí)驗內(nèi)容、實(shí)驗安全操作規(guī)程,較遵守實(shí)驗紀(jì)律。實(shí)驗前未能按照實(shí)驗要求,未提前預(yù)習(xí),不了解實(shí)驗內(nèi)容、未能掌握實(shí)驗安全操作規(guī)程。實(shí)驗操作(40%)能夠根據(jù)實(shí)驗?zāi)康?,?dú)立設(shè)計優(yōu)化實(shí)驗步驟,獨(dú)立或合作完成實(shí)驗操作,且操作規(guī)范;準(zhǔn)確記錄實(shí)驗現(xiàn)象,并對實(shí)驗現(xiàn)象進(jìn)行綜合的分析討論,得出合理的實(shí)驗結(jié)果。能夠根據(jù)實(shí)驗?zāi)康?,?dú)立設(shè)計實(shí)驗步驟,獨(dú)立或合作完成實(shí)驗操作,操作較為規(guī)范;記錄實(shí)驗現(xiàn)象較為準(zhǔn)確,并對實(shí)驗現(xiàn)象進(jìn)行綜合的分析討論,得出較為合理的實(shí)驗結(jié)果。能夠根據(jù)實(shí)驗?zāi)康模O(shè)計實(shí)驗步驟,獨(dú)立或合作完成實(shí)驗操作,操作基本規(guī)范;記錄實(shí)驗現(xiàn)象,并對實(shí)驗現(xiàn)象進(jìn)行分析討論,得出實(shí)驗結(jié)果。能夠根據(jù)實(shí)驗?zāi)康?,設(shè)計出基本的實(shí)驗步驟,基本能完成實(shí)驗操作,操作基本規(guī)范;記錄實(shí)驗現(xiàn)象,并對實(shí)驗現(xiàn)象進(jìn)行初步分析討論,得出實(shí)驗結(jié)果。不能根據(jù)實(shí)驗?zāi)康?,設(shè)計出相應(yīng)的實(shí)驗步驟,不能完成實(shí)驗操作或操作不規(guī)范;不能記錄實(shí)驗現(xiàn)象,不能對實(shí)驗現(xiàn)象進(jìn)行分析討論,不能得出實(shí)驗結(jié)果。實(shí)驗報告(40%)實(shí)驗報告能夠獨(dú)立完成,內(nèi)容完整,數(shù)據(jù)合理,數(shù)據(jù)處理正確,圖表規(guī)范。能夠正確完成實(shí)驗報告中提出的問題,并對實(shí)驗中遇到的問題進(jìn)行深入的討論,提出自己的見解。實(shí)驗報告能夠獨(dú)立完成,內(nèi)容完整,數(shù)據(jù)較為合理,數(shù)據(jù)處理正確,圖表基本規(guī)范。能夠較好的完成實(shí)驗報告中提出的問題,并對實(shí)驗中遇到的問題進(jìn)行討論,提出意見。實(shí)驗報告能夠獨(dú)立完成,內(nèi)容完整,數(shù)據(jù)基本合理,能夠進(jìn)行數(shù)據(jù)處理,圖表基本規(guī)范。能夠基本完成實(shí)驗報告中提出的問題,能對實(shí)驗中遇到的問題進(jìn)行討論。實(shí)驗報告基本能夠獨(dú)立完成,內(nèi)容完整,數(shù)據(jù)圖表齊全,基本完成實(shí)驗報告中提出的問題。實(shí)驗報告不能獨(dú)立完成,存在抄襲現(xiàn)象,報告中提出的問題沒有或基本沒有回答。八、教學(xué)資源實(shí)驗指導(dǎo)書:微電子技術(shù)及應(yīng)用實(shí)驗指導(dǎo)書(自編)建議教材:(1)施敏等主編.半導(dǎo)體制造工藝基礎(chǔ).安徽大學(xué)出版社,2020(2)陳譯等主編.芯片制造——半導(dǎo)體工藝與設(shè)備.機(jī)械工業(yè)

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 人人文庫網(wǎng)僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論