化學(xué)橫向科研參數(shù)

化學(xué)橫向科研參數(shù)序號貨物名稱數(shù)量詳細配置1旋轉(zhuǎn)圓盤圓環(huán)電極測試系統(tǒng)1臺一、旋轉(zhuǎn)圓盤電極裝置：

*1.轉(zhuǎn)速：50-10000rpm，電機功率0.02馬力，采用銀碳刷接觸連接；2.顯示誤差為1%；3.控制：分體控制，可拆式結(jié)構(gòu)，方便置入手套箱。具有信號輸入/輸出接口，可通過輸入外部信號（來自電化學(xué)工作站）控制轉(zhuǎn)速；可將轉(zhuǎn)速信號輸出至測試設(shè)備（示波器）或用來控制其它設(shè)備；4.防爆：最新防爆設(shè)計，保證人身與設(shè)備安全；5.旋轉(zhuǎn)桿：長度>150mm適用于各種電解池，方便與其它儀器聯(lián)用，還有不同型號旋轉(zhuǎn)桿供不同研究使用；*6.旋轉(zhuǎn)玻碳盤電極：5mm的盤直徑，最高轉(zhuǎn)速為2500rpm。材質(zhì)：GC，盤電極直徑：5.0mm，電極外徑：15mm；*7.盤環(huán)電極：外螺紋設(shè)計，接觸更好，信號傳輸穩(wěn)定。有特氟龍與PEEK兩種材料，適應(yīng)不同應(yīng)用。盤環(huán)間隙≤320μm。盤環(huán)尺寸精度：0.01mm；8.雙接點參比電極：外層溶液為10%KNO3（質(zhì)量百分比），內(nèi)層溶液為飽和KCl凝膠；9.鉑對電極：鉑絲對電極：鉑絲純度99.99%；電極長度~30cm；10.電解池：玻璃電解池和若干密封塞子；11.通氣裝置：可與旋轉(zhuǎn)桿配合使用，材質(zhì)應(yīng)為PEEK；12.標準：歐盟CE認證；13.服務(wù)要求：應(yīng)提供原廠認可的安裝、培訓(xùn)服務(wù)。

雙恒電位儀要求：

1、電源要求:24.0VDC（±5％），4A（低電壓直流設(shè)備）2、電源適配器：100to240VAC,2.3A,50to60Hz3、環(huán)境溫度:10℃to40℃4、掃描速率:10μV/secto125V/sec5、電流測試范圍：100pAto1.0A6、電壓測試范圍：:±10.0V,±2.5V7、有8段電位轉(zhuǎn)換:From100nA/Vto1A/V8、輸入阻抗:>1013Ωinparallelwith<10pF9、微信號發(fā)生器帶寬:>11MHz（3dB）10、DAC輸出:16bits11、測試方法：包括循環(huán)伏安法（CV），方波循環(huán)伏安法，脈沖法，以及電池充放電測試等。

12、雙工作電極測試技術(shù)包括旋轉(zhuǎn)圓盤圓環(huán)電極法，微流體產(chǎn)生/采集實驗，交叉陣列（IDA）方法，可以在一個容器中同時控制兩個工作電極等，同時為每個工作電極提供激勵信號并同時測量電流和電位。

13、其應(yīng)用和測量電位達到±10VDT，電流從±1安培到幾個皮安，并支持IR補償。軟件：支持軟件控制旋轉(zhuǎn)圓盤電極裝置的轉(zhuǎn)速。主機有模擬電壓輸入/輸出接口和同步信號接口，可與其它儀器聯(lián)用。通過USB接口與電腦連接。

2顯微共聚焦拉曼光譜儀1臺1.1激光光源1.1.1532nm激發(fā)波長，激光器功率不低于50mW。

1.1.2632.8nm激發(fā)波長，激光器功率不低于17mW。

1.1.3785nm激發(fā)波長，激光器功率不低于280mW（需提供技術(shù)證明文件）。

1.1.4要求必須具備用戶現(xiàn)場升級紫外及深紫外激發(fā)波長功能（需提供技術(shù)證明文件）。

1.1.5不同激發(fā)波長采用獨立的，按波長獨立優(yōu)化的激光入射光路，以保證每個波長均有最優(yōu)的通光效率，避免互相影響（需提供技術(shù)證明文件）。

1.1.6要求必須配置激光擴束器，使得激光光斑尺寸連續(xù)可調(diào)，并能連續(xù)改變到樣品上的激光功率密度，以方便信號弱且怕燒樣品的檢測，并使二維直接成像功能得以實現(xiàn)（需提供技術(shù)證明文件）。

1.1.7各波長均使用兩片Edge瑞利濾光片和一片用于去除等離子線的干涉濾光片，儀器阻擋激光瑞利散射水平好于1014（需提供技術(shù)證明文件）。

檢驗標準：使用表面拋光的單晶硅做樣品，同時觀測激光線和硅拉曼峰（520cm-1），位于0cm-1的激光線強度小于硅-520強度的1/120，X50或X100倍物鏡，狹縫大小為正常實驗狀態(tài)。

1.2光譜儀1.2.1*為保證儀器的高通光效率和高靈敏度，采用先進的自動聚焦透射式光譜儀，無色差，無像差，光譜儀焦長250mm（需提供技術(shù)證明文件）。

1.2.2系統(tǒng)總通光效率大于30%。

1.2.3激光入射光路通光效率大于40%。

1.2.4光譜范圍：200nm到1100nm，全光譜范圍內(nèi)支持3種掃描模式，全光譜范圍內(nèi)可快速連續(xù)掃描，無接譜。

532nm激發(fā)波長，光譜范圍：50-9000cm-1632.8nm激發(fā)波長，光譜范圍：50-6000cm-1785nm激發(fā)波長，光譜范圍：50-3500cm-11.2.5光譜分辨率：全譜段好于1cm-1，根據(jù)需要最高可達0.5cm-1（需提供技術(shù)證明文件）。

檢驗標準：使用氖燈作為信號源，大于等于1800線高分辨光柵，測試17086ABScm-1發(fā)光線，其半高全寬小于1cm-1。

1.2.6光譜重復(fù)性：≤±0.02cm-1（需提供技術(shù)證明文件）。

檢驗標準：使用表面拋光的單晶硅做樣品，采用100×物鏡，重復(fù)不少于40次。觀測硅拉曼峰（520cm-1），520峰中心位置重復(fù)性≤±0.02cm-1。

1.2.7不同波長瑞利濾光片需自動切換，采用三點精確定位技術(shù)，轉(zhuǎn)臺需采用光柵尺反饋控制系統(tǒng)，確保精度和重復(fù)性，可調(diào)節(jié)濾光片角度，優(yōu)化低波數(shù)性能（需提供技術(shù)證明文件）。

1.2.8*高分辨率光柵，軟件控制自動轉(zhuǎn)換。采用光柵尺反饋控制系統(tǒng)控制光柵的精確定位，重復(fù)性好（需提供技術(shù)證明文件）。

1.2.9高靈敏度：在高光譜分辨率條件下，硅三階峰（約在1440cm-1）的信噪比好于25:1，并能觀察到四階峰（需提供技術(shù)證明文件）。

檢測條件：使用單晶硅片，波長532nm，激光輸出功率20mW，狹縫寬度（或針孔）<=50微米，使用大于等于1800線高分辨光柵，積分時間300秒，binning等于1，顯微鏡頭為X100倍。

1.2.10CCD探測器：應(yīng)使用紫外和近紅外同時增強型CCD探測器，在近紅外和紫外部分量子效率明顯增強，有些部分效率提高2-3倍。1024x256像元，優(yōu)質(zhì)芯片，半導(dǎo)體制冷到-70oC。量子效率：在650nm處>50%，在300nm處>30%，讀出噪音（<3-7/e-/pixel），暗噪音（<0.002e-/pixel/s）（需提供技術(shù)證明文件）。

1.3智能控制功能1.3.1切換波長時，采用計算機控制全自動切換（需提供技術(shù)證明文件）。

1.3.2自動準直激光到樣品的激發(fā)光路、樣品至探測器的拉曼信號傳遞光路（需提供技術(shù)證明文件）。

1.3.3自動定期儀器狀態(tài)校準、并自動調(diào)節(jié)準直光路，保證儀器最佳性能狀態(tài)；廠家工程師在必要時可通過互聯(lián)網(wǎng)實現(xiàn)遠程自動調(diào)整及優(yōu)化（需提供技術(shù)證明文件）。

1.3.4自動拉曼信號強度校正功能：內(nèi)置標準白光光源，軟件自動校準拉曼光強度，消除不同波長信號的響應(yīng)差異（需提供技術(shù)證明文件）。

1.3.5自動波長校準功能：內(nèi)置標準氖燈光源，自動實現(xiàn)全光譜自動校準，保證光譜峰位準確度（需提供技術(shù)證明文件）。

1.3.6拉曼信號采集模式與白光照明模式自動切換（需提供技術(shù)證明文件）。

1.4共焦技術(shù)1.4.1須采用新型共焦顯微技術(shù)（數(shù)字化控制CCD區(qū)

域），以避免儀器的不穩(wěn)定性和復(fù)雜的光路調(diào)整，且保證儀器高靈敏度（需提供技術(shù)證明文件）。

1.4.2軟件控制共焦孔徑大小，在10-1000m范圍內(nèi)連續(xù)可調(diào)。

1.4.3軟件控制自動調(diào)整狹縫大小，在10-1000m范圍內(nèi)連續(xù)可調(diào)。

1.4.4空間分辨率：在x100倍鏡頭下，橫向分辨率<0.5微米，光軸方向縱向分辨率<2微米，共焦深度連續(xù)可調(diào)（需提供技術(shù)證明文件）。

1.5共焦顯微系統(tǒng)*高穩(wěn)定性研究級徠卡顯微鏡（需提供技術(shù)證明文件）。

10X原裝目鏡，5X、20X、50X、100X和長焦50X物鏡。

反射及透射柯勒照明。

彩色攝像頭，可在計算機上顯示存儲圖像。

1.6計算機及彩色激光打印機世界著名廠家生產(chǎn)，3.1GHz，4GBRAM，500GB硬盤，DVD-RW刻錄機，100M網(wǎng)卡，27英寸液晶顯示器，Windows7操作系統(tǒng)，可觀察和存儲顯微鏡下的白光像。Windows下光譜專業(yè)軟件包－包括儀器控制、數(shù)據(jù)采集、計算和處理及曲線擬合等各項功能。

1.7數(shù)據(jù)庫（譜庫數(shù)量>5000張）可進行譜庫搜索。

可進行混合物搜索。

可建立新光譜庫。

包含無機礦物數(shù)據(jù)庫。

包含有機高分子數(shù)據(jù)庫。

1.8高精度三維拉曼掃描成像樣品臺最小步長為0.1微米。

XY自動平臺，掃描范圍：X≥100毫米，Y≥70毫米（需提供技術(shù)證明文件）。

帶手動操作鼠標球，可軟件自動控制驅(qū)動。

可對樣品測量部位自動定位并進行拉曼成像，采用光柵尺反饋控制系統(tǒng)自動控制克服反向間隙，保證原始點的重復(fù)性（需提供技術(shù)證明文件）。

用軟件可連接攝像頭采集圖像，擴展了顯微鏡的視場，也可使自動平臺的掃描區(qū)域擴大。

包括自動聚焦軟件及軟件。

1.9高空間分辨率快速拉曼掃描成像技術(shù)配合快速掃描自動樣品臺，最小步長0.1微米。

快速實時拉曼成像控制及數(shù)據(jù)處理軟件包。

多變量化學(xué)統(tǒng)計數(shù)據(jù)分析軟件包。

拉曼圖象分辨率高，可達250nm（需提供技術(shù)證

明文件）。

最短積分時間≤10ms。

1.103D快速成像技術(shù)立體地收集并顯示透明材料內(nèi)部的拉曼數(shù)據(jù)。

快速實時拉曼成像控制及數(shù)據(jù)處理軟件包。

完整的顯示樣品的3D立體拉曼圖象。

本儀器還須具備下列功能擴展能力（需提供技術(shù)白皮書）：

與原子力顯微鏡/近場光學(xué)顯微鏡聯(lián)用（RAMAN/AFM/NSOM），并無需對拉曼光譜儀做任何改造。

與掃描電鏡（電子探針，能譜，陰極熒光）聯(lián)用(SEM/RAMAN)。

與激光共焦顯微鏡聯(lián)用（RAMAN/LCSM），并無需對拉曼光譜儀做任何改造。

可升級到采用窄帶慮光片技術(shù)的拉曼光譜二維直接成像。

1.11光鑷附件由光鑷將單個活細胞或細胞器長時間固定在焦點附近，進行拉曼光譜分析。

用拉曼光鑷系統(tǒng)實時監(jiān)測單個活細胞或細胞器的生命過程。

3X射線光電子能譜儀1臺1.真空系統(tǒng)：

*1.1分析室：真空度優(yōu)于6.0×10-8Pa；1.2進樣及樣品處理室：真空度應(yīng)優(yōu)于7.0×10-7Pa1.3進樣及樣品處理室不可與分析腔共用，防止交叉污染；2.多功能樣品停放臺：

2.1可通過鼠標點擊實現(xiàn)樣品臺的移動2.2超高真空監(jiān)測裝置3.單色化X射線源：

3.1射線源類型：單色化AlKαX射線源；3.2激發(fā)X射線源電子槍為LaB6電子槍；*3.3束斑直徑至少在20μm～400μm之間連續(xù)可調(diào)，分析面積：≥1400μm×1400μm3.3功率：不高于300W，避免高功率對樣品表面帶來輻照損傷；*3.4單色化光源的陽極靶可移動，在陽極靶更換前應(yīng)可提供不少于20個工作點使用。確保儀器使用過程中，陽極靶無需更換；*3.5能量分辨率和靈敏度（正常工作條件下）：對Ag3d5/2峰，半高寬優(yōu)于0.5eV@100kcps；3.6大束斑能量分辨率和靈敏度（正常工作條件

下）：對Ag3d5/2峰能量分辨優(yōu)于0.5eV時，計數(shù)率強度高于250kcps；3.7小束斑能量分辨率和靈敏度（正常工作條件下）：Ag3d5/2分辨率優(yōu)于0.5eV時，計數(shù)率強度應(yīng)高于500cps。

3.8成像XPS：≤10μm，且在該最小分辨率下，能夠?qū)崿F(xiàn)采譜、成像和深度剖析。

4.能量分析器：

4.1采譜能量分析器：

180ο半球能量分析器4.2平均半徑：不小于150mm4.3能量掃描范圍應(yīng)不小于0～3200eV，確保多功能分析時無需切換分析器；5.探測器：同時完成采譜分析及xps成像。

6.電荷中和系統(tǒng)：對PET絕緣樣品，在O-C=O結(jié)構(gòu)中C1s峰能量分辨(FWHM)優(yōu)于0.85eV7.離子槍刻蝕套件7.1離子源：Ar+源；7.2刻蝕模式：單一槍體，單離子模式；7.3；刻蝕能量——100eV~4keV連續(xù)可調(diào)7.4刻蝕電流——最大刻蝕電流高于5μA；8.樣品觀察和調(diào)整：

8.1能清楚觀察樣品圖象，圖像可實時顯示及儲存。分析室需具備觀察視窗兩個，并裝有防X射線玻璃；觀察窗口法線方向需位于水平線以上，以方便觀察。

9.UPS紫外光電子能譜分析（UPS）11.1價帶譜，功函數(shù)測試11.2光源：He紫外光源；11.3能量分辨率：對Ag費米邊，能量分辨率應(yīng)不大于120meV.12.原位高溫高壓氣體反應(yīng)池12.1溫度范圍：恒壓靜態(tài)模式下，加熱溫度大于800℃，氣體流動動態(tài)模式下，加熱溫度大于500℃）12.2采用PID溫控方式，控溫精度優(yōu)于1攝氏度。

12.3加熱器采用陶瓷加熱器，可以耐受腐蝕性氣氛和變溫環(huán)境；12.4配備四路反應(yīng)氣路和一路吹掃氣路，每路進氣口帶質(zhì)量流量計；采用PLC觸摸屏控制流量計；12.5為防止反應(yīng)室過熱，外壁可通入冷卻水冷卻。

13.譜儀控制和數(shù)據(jù)處理：

13.1譜儀控制：譜儀參數(shù)設(shè)置，系統(tǒng)軟件應(yīng)實現(xiàn)可視化操作；分析部件均可通過系統(tǒng)軟件控制；系統(tǒng)軟件具備可視化操作界面，實現(xiàn)對真空泵、閥門、真空規(guī)、離子槍、中和槍以及加熱冷卻等的控制；所有進氣閥門均可通過軟件控制實現(xiàn)自動化開啟和

關(guān)閉；系統(tǒng)軟件內(nèi)置真空安全互鎖控制模塊，可有效禁止真空設(shè)備的誤操作；多功能樣品臺，樣品臺移動可通過鼠標操作實時的光學(xué)像而實現(xiàn)，并具有可視化操作界面。

13.2數(shù)據(jù)處理：隨系統(tǒng)計算機一臺，預(yù)裝數(shù)據(jù)采集和處理軟件包數(shù)據(jù)處理方法：定性分析、定量分析、曲線擬合等需具備SMART本底扣除方法。