《半導(dǎo)體制造真空腔體零部件表面保護(hù)涂 層》 編制說明

一、工作簡況

（一）任務(wù)來源

根據(jù)2020年全國標(biāo)準(zhǔn)化工作要點(diǎn)，大力推動(dòng)實(shí)施標(biāo)準(zhǔn)化戰(zhàn)略，

持續(xù)深化標(biāo)準(zhǔn)化工作改革，加強(qiáng)標(biāo)準(zhǔn)體系建設(shè)，提升引領(lǐng)高質(zhì)量發(fā)展

的能力。為響應(yīng)市場需求，需要制定完善的半導(dǎo)體制造真空腔體零部

件表面保護(hù)涂層標(biāo)準(zhǔn)，滿足市場產(chǎn)品質(zhì)量提升需要。依據(jù)《中華人民

共和國標(biāo)準(zhǔn)化法》，以及《團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)管理規(guī)定》相關(guān)規(guī)定，中國中小

商業(yè)企業(yè)協(xié)會(huì)決定立項(xiàng)并聯(lián)合安徽高芯眾科半導(dǎo)體有限公司等相關(guān)

單位共同制定《半導(dǎo)體制造真空腔體零部件表面保護(hù)涂層》團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)。

（二）編制背景及目的

近幾年，隨著國家政策的調(diào)整，半導(dǎo)體行業(yè)迅速發(fā)展，產(chǎn)業(yè)規(guī)模

急速增大，半導(dǎo)體制造設(shè)備持續(xù)向精密化、復(fù)雜化演變，高精密關(guān)鍵

部件的技術(shù)要求也越來越高。

刻蝕是半導(dǎo)體制造工藝的一個(gè)重要的步驟，對(duì)于晶圓制造過程中

的刻蝕機(jī)和PECVD設(shè)備，等離子體通過物理作用和化學(xué)反應(yīng)會(huì)對(duì)設(shè)備

器件表面造成嚴(yán)重腐蝕，一方面縮短部件的使用壽命，降低設(shè)備的使

用性能，另一方面腐蝕過程中產(chǎn)生的反應(yīng)產(chǎn)物會(huì)出現(xiàn)揮發(fā)和脫落的現(xiàn)

象，在工藝腔內(nèi)產(chǎn)生雜質(zhì)顆粒，影響腔室的潔凈度。隨著工藝不斷精

進(jìn)，特殊涂層成為控制反應(yīng)腔穩(wěn)定的最重要因素，精密涂層業(yè)務(wù)也成

為半導(dǎo)體行業(yè)不可或缺的工序之一。

半導(dǎo)體真空腔體核心零部件精密涂層使用高純度陶瓷材料，包括

(Al2O3、Y2O3、Si、Al、YOF、YF3等)，純度要求可達(dá)到99.999%，

金屬氧化物雜質(zhì)（如MgO、CaO、SiO2等）控制在0.05%～0.8%之

內(nèi)）。精密涂層可以使基材和晶圓等核心材料免受等離子的物理打擊，

不僅能提高產(chǎn)品良率，而且零部件的使用壽命也將大大延長。

本項(xiàng)目旨在借助標(biāo)準(zhǔn)化手段，針對(duì)項(xiàng)目所屬細(xì)分行業(yè)的特點(diǎn)，制

定相應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)，填補(bǔ)本行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)空白，促進(jìn)產(chǎn)業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化應(yīng)用水平升級(jí)，

引領(lǐng)行業(yè)高質(zhì)量發(fā)展。

（三）編制過程

1、項(xiàng)目立項(xiàng)階段

2024年02月，安徽高芯眾科半導(dǎo)體有限公司向中國中小商業(yè)企

業(yè)協(xié)會(huì)提交立項(xiàng)申請(qǐng)。按照“中國中小商業(yè)企業(yè)協(xié)會(huì)關(guān)于《半導(dǎo)體制

造真空腔體零部件表面保護(hù)涂層》團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)立項(xiàng)的公告”要求，成立

了標(biāo)準(zhǔn)起草工作組。

2、理論研究階段

工作組對(duì)國內(nèi)外半導(dǎo)體制造真空腔體零部件表面保護(hù)涂層產(chǎn)品

和技術(shù)的現(xiàn)狀與發(fā)展情況進(jìn)行了全面調(diào)研，同時(shí)廣泛搜集和檢索了半

導(dǎo)體制造真空腔體零部件表面保護(hù)涂層技術(shù)資料，并進(jìn)行了大量的研

制、試驗(yàn)及驗(yàn)證。

3、標(biāo)準(zhǔn)起草階段

標(biāo)準(zhǔn)起草工作組根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)起草的需要，進(jìn)行分工。在廣泛調(diào)研、

試驗(yàn)及驗(yàn)證的基礎(chǔ)上，編制了《半導(dǎo)體制造真空腔體零部件表面保護(hù)

涂層》標(biāo)準(zhǔn)草案。

4、標(biāo)準(zhǔn)征求意見階段

形成標(biāo)準(zhǔn)草案稿之后，起草組召開了多次專家研討會(huì)，從標(biāo)準(zhǔn)框

架、標(biāo)準(zhǔn)起草等角度廣泛征求多方意見，從理論完善和實(shí)踐應(yīng)用方

面提升標(biāo)準(zhǔn)的適用性和實(shí)用性。經(jīng)過理論研究和方法驗(yàn)證，明確和規(guī)

范半導(dǎo)體制造真空腔體零部件表面保護(hù)涂層的技術(shù)要求。于2024年

04月提交《半導(dǎo)體制造真空腔體零部件表面保護(hù)涂層》標(biāo)準(zhǔn)征求意

見稿及征求意見稿編制說明，擬定于2024年04月網(wǎng)上公示征求意見

稿，廣泛征求各方意見和建議。

5、專家審核

擬定于2024年05月召集專家審核標(biāo)準(zhǔn)，匯總專家審核意見之后，

修改標(biāo)準(zhǔn)并發(fā)布。

6、發(fā)布

擬定于2023年05月發(fā)布標(biāo)準(zhǔn)并實(shí)施。

（四）主要起草單位及起草人所做的工作

1、主要起草單位

安徽高芯眾科半導(dǎo)體有限公司、××××、××××。

2、工作內(nèi)容

標(biāo)準(zhǔn)工作的總體策劃、組織；立項(xiàng)及協(xié)調(diào)工作組工作；標(biāo)準(zhǔn)文

本及編制說明的起草和編寫；協(xié)助標(biāo)準(zhǔn)文本及編制說明的編寫；對(duì)國

內(nèi)外相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)的調(diào)研和搜集；對(duì)半導(dǎo)體制造真空腔體零部件表面保護(hù)

涂層技術(shù)要求和試驗(yàn)方法的測(cè)試及驗(yàn)證等。

二、標(biāo)準(zhǔn)編制原則和主要內(nèi)容

（一）標(biāo)準(zhǔn)制定原則

本文件的制定符合產(chǎn)業(yè)發(fā)展和市場需要原則，本著先進(jìn)性、科學(xué)

性、合理性、可操作性、適用性、一致性和規(guī)范性原則來進(jìn)行本文件

的制定。

本文件起草過程中，主要按照GB/T1.1-2020《標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則

第1部分：標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則》進(jìn)行編寫。起草過程中，

主要參考了JB/T7703-1995《熱噴涂陶瓷涂層技術(shù)條件》和GB/T

37421-2019《熱噴涂熱噴涂涂層的表征和試驗(yàn)》。

（二）標(biāo)準(zhǔn)主要技術(shù)內(nèi)容

本標(biāo)準(zhǔn)征求意見稿包括8個(gè)部分，主要內(nèi)容如下：

1、范圍

介紹本文件的主要內(nèi)容以及本文件所適用的領(lǐng)域。

2、規(guī)范性引用文件

列出了本文件引用的標(biāo)準(zhǔn)文件。

3、術(shù)語和定義

列出了本文件所界定的術(shù)語和定義。

4、基本要求

對(duì)半導(dǎo)體制造真空腔體零部件表面保護(hù)涂層加工過程中的粉末、

噴涂工藝進(jìn)行規(guī)定。

5、技術(shù)要求

從外觀、厚度、結(jié)合強(qiáng)度、金相組織等方面對(duì)半導(dǎo)體制造真空腔

體零部件表面保護(hù)涂層提出技術(shù)要求。

7、試驗(yàn)方法

針對(duì)技術(shù)要求，提供了相應(yīng)的試驗(yàn)方法。

8、涂層檢驗(yàn)

規(guī)定了半導(dǎo)體制造真空腔體零部件表面保護(hù)涂層的檢驗(yàn)規(guī)則。

9、編制文件

規(guī)定了導(dǎo)體制造真空腔體零部件表面保護(hù)涂層應(yīng)編制生產(chǎn)工藝

文件。

三、主要試驗(yàn)（或驗(yàn)證）情況分析

結(jié)合國內(nèi)外的行業(yè)測(cè)試和企業(yè)內(nèi)部管控項(xiàng)目進(jìn)行試驗(yàn)驗(yàn)證。

四、標(biāo)準(zhǔn)中涉及專利的情況

無。

五、預(yù)期達(dá)到的效益（經(jīng)濟(jì)、效益、生態(tài)等），對(duì)產(chǎn)業(yè)發(fā)展的作用

的情況

半導(dǎo)體制造真空腔體零部件表面保護(hù)涂層應(yīng)滿足市場及環(huán)境需

求。對(duì)相關(guān)企業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化生產(chǎn)水平的提升、科技成果認(rèn)定、及今后類似

產(chǎn)品的研發(fā)具有重要意義。

六、在標(biāo)準(zhǔn)體系中的位置，與現(xiàn)行相關(guān)法律、法規(guī)、規(guī)章及相關(guān)標(biāo)

準(zhǔn)，特別是強(qiáng)制性標(biāo)準(zhǔn)的協(xié)調(diào)性

符合現(xiàn)行相關(guān)法律、法規(guī)、規(guī)章及相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)，與強(qiáng)制性標(biāo)準(zhǔn)協(xié)調(diào)

一致。

七、重大分歧意見的處理經(jīng)過和依據(jù)

無重大分歧意見。

八、標(biāo)準(zhǔn)性質(zhì)的建議說明

本標(biāo)準(zhǔn)為團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)，供社會(huì)各界自愿使用。

九、貫徹標(biāo)準(zhǔn)的要求和措施建議