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文檔簡介

1、制藥設(shè)備在生產(chǎn)過程中污染的防控措施集團”文件內(nèi)部編碼:(TTT-UUTT-MMYB-URTTY-ITTLTY-制藥 設(shè)備在 生產(chǎn)過 程中污 染的防 控措施 制藥設(shè)備在生產(chǎn)過程中污染的防控措施?在制藥生產(chǎn)中影響藥品質(zhì)量的因素很多,其中很重要的因素是來自各種 污染。如何解決污染問題,是保證藥品質(zhì)量的一個重要方面。1?影響藥品質(zhì)量的要素?藥品的質(zhì)量關(guān)系到患者的用藥安全,要生產(chǎn)出優(yōu)質(zhì)合格的藥品,必 須具備3個要素:(1)合格的人員;(2)符合GMP的軟件,如合理的 劑型、處方和工藝,合格的原輔材料,各項規(guī)格和管理制度等;(3)符 合GMP的硬件,包括合格的生產(chǎn)環(huán)境與生產(chǎn)條件,符合要求的廠房、設(shè) 備等。

2、2?制藥設(shè)備對生產(chǎn)中污染的防控含義?從上可知,生產(chǎn)環(huán)境與生產(chǎn)條件、設(shè)備是影響藥品質(zhì)量要素的一個 方面。而在藥品生產(chǎn)中,生產(chǎn)環(huán)境與生產(chǎn)條件的污染一般有微生物、粉 塵、微粒、腐蝕、差錯及交叉污染等。制藥設(shè)備對生產(chǎn)中污染的防控包 含兩層意思,第一設(shè)備自身不對藥物產(chǎn)生污染,也不會對環(huán)境產(chǎn)生污 染;第二應具有有效控制污染手段。為此,GMP對直接參與藥品生產(chǎn)的制 藥設(shè)備作了若干個指導性規(guī)定,其基本點是保證藥品質(zhì)量,防止在生產(chǎn) 過程對藥物可能造成的各種污染,以及可能影響環(huán)境和對人體健康的危 害等因素。因此,制藥設(shè)備的設(shè)計要符合GMP的要求,減少污染因素, 并對污染要有很好的防控。3?制藥設(shè)備的設(shè)計符合GMP

3、的要求?制藥設(shè)備在制藥GMP這一特定條件下的產(chǎn)品設(shè)計、制造、技術(shù)、性 能等方面,應以設(shè)備GMP設(shè)計通則為綱,以推進制藥設(shè)備GMP規(guī)范的建 立和完善,其具體內(nèi)容如下:(1)設(shè)備的設(shè)計應符合藥品生產(chǎn)及工藝的要求,安全、穩(wěn)定、可 靠、易于清洗、消毒或滅菌,便于生產(chǎn)操作和維修保養(yǎng),并能防止差錯 和交叉污染;(2)應嚴格控制設(shè)備的材質(zhì)選擇。與藥物直接接觸的零部件應采用 無毒、無腐蝕、不與藥品發(fā)生化學反應、不釋放微?;蛭剿幤返牟?質(zhì);(3)與藥物直接接觸的設(shè)備內(nèi)表面及工作零件表面,盡可能不設(shè)計臺、溝、及外露的螺栓連接。表面應平整、光滑、無死角,易清洗、消毒;(4)設(shè)備應不對裝置之外的環(huán)境造成污染,鑒于每

4、類設(shè)備所產(chǎn)生的 污染的情況不同,應采取相關(guān)的防塵、防漏、隔熱、防噪聲等措施。(5)在易燃、易爆環(huán)境中使用的設(shè)備,應采用防爆電器并設(shè)有消除 靜電及安全保險裝置;(6)無菌制劑的灌或分裝設(shè)備應在相應的潔凈室內(nèi)運行,局部采用 100級層流潔凈空氣和正壓保護;(7)藥液、注射用水及凈化壓縮空氣管道的設(shè)計應避免死角、盲 管。材料應無毒、耐腐蝕。內(nèi)表面應電化拋光,易清洗;(8)當驅(qū)動磨擦而產(chǎn)生的微量異物或無法避免使用潤滑劑時,應對 其部件實施封閉并與工作室隔離,所用的潤滑劑不得對藥品、包裝容器 等造成污染;(9)無菌設(shè)備的清洗,尤其是直接接觸藥品的部位和部件的滅菌, 應標明滅菌口期,必要時進行無菌效果驗證

5、。設(shè)備清洗最好配備CIP及 SIP系統(tǒng);(10)設(shè)備設(shè)計應符合標準化、通用化、系列化和機電一體化的要 求。實現(xiàn)生產(chǎn)過程的連續(xù)密閉,自動檢測,這是全面實施設(shè)備GMP的保 證。4?制藥設(shè)備對生產(chǎn)中污染的防控手段?制藥工藝的復雜性決定了設(shè)備功能的多樣性,而制藥設(shè)備的優(yōu)劣則 反映在能否滿足使用要求、符合GMP和對環(huán)境污染的防控上。在藥品生 產(chǎn)中,制藥設(shè)備是保證藥品質(zhì)量的關(guān)鍵手段,GMP對設(shè)備的要求主要針對 減少生產(chǎn)過程中的藥品污染,達到保證藥品質(zhì)量要求這一目的,制藥設(shè) 備可在功能、外觀結(jié)構(gòu)、材料選擇、設(shè)備驗證方面對污染進行防控。4. 1?功能方面?凈化功能?潔凈是GMP的要點之一,要達到這一標準就必須

6、在藥品加工中,凡 有藥物暴露的室區(qū)潔凈度達不到要求或有人機污染可能的原則上均應設(shè) 計凈化功能。不同的設(shè)備要求的這一功能形式也不盡相同。大致如下:(1)在工藝上使用氣體的設(shè)備尤其是氣體與藥品或直接與藥包材接 觸的設(shè)備,氣體需要經(jīng)終端過濾除菌處理,如泡罩包裝機的壓縮空氣;(2)洗瓶或其它藥包材清洗設(shè)備,應考慮到工藝用水的潔凈度,一般使用注射用水或純化水,如洗瓶機、膠塞清洗等設(shè)備的用水;(3)生產(chǎn)中產(chǎn)生粉塵的設(shè)備應設(shè)置除塵機或捕塵機構(gòu),如粉碎機、 制粒機、壓片機等;(4)在潔凈室(區(qū)),通過凈化空調(diào)系統(tǒng)對各功能間凈化并保持相 對的壓差,可防止粉塵擴散,防止交叉污染。隔離功能?按照GMP要求,制劑生產(chǎn)

7、過程應盡量避免微生物或微粒熱原污染, 隔離是個好方法。由于無菌產(chǎn)品生產(chǎn)應在高質(zhì)量環(huán)境下進行配料、灌或 分裝和密封,而其工藝過程中存在許多可變的影響因素,對無菌藥品生 產(chǎn)提出了特殊要求。而這在制劑設(shè)備設(shè)計中的一個重要體現(xiàn)是實現(xiàn)生產(chǎn) 過程的密閉化,實行隔離技術(shù)。醫(yī)藥工業(yè)的隔離技術(shù)涉及到水針、粉針、輸液等無菌制品以及醫(yī)療 注射器的生產(chǎn)等諸方面。在無菌生產(chǎn)中,為避免污染,需在無菌生產(chǎn)工 序的制劑設(shè)備周圍設(shè)計并建立隔離區(qū),將操作人員隔離在灌裝區(qū)以外, 采取徹底的隔離技術(shù)和自動控制系統(tǒng),最大限度降低操作人員對環(huán)境的 影響,同時也可以大大降低無菌生產(chǎn)環(huán)境中產(chǎn)品被微生物污染的風險。在位清洗及滅菌功能?在位清洗(CIP)在藥品生產(chǎn)中,設(shè)備的清洗和滅菌是驅(qū)除微生物污染的主要手段。CIP是一種包括設(shè)備、管道、操作規(guī)程、清洗劑配方、自動控制和監(jiān)控要 求的一整套技術(shù)系統(tǒng)。其能在盡可能不拆卸、不挪動設(shè)備和管道的情況 下,利用受控的清洗液的循環(huán)流動,清洗污垢。GMP明確規(guī)定制藥設(shè)備要 易于清洗,尤其是

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