光罩版制作工藝簡(jiǎn)介

1、2017-09-18鉻版制作簡(jiǎn)介掩膜版的分類 鉻版原材結(jié)構(gòu) 掩膜制作流程 品質(zhì)特性與檢驗(yàn) 鉻版存放要求 1 1、掩膜版的分類、掩膜版的分類2 2、鉻版原材結(jié)構(gòu)、鉻版原材結(jié)構(gòu)從膜面看：表觀看起來(lái)比較暗，呈深褐色從非膜面（玻璃）看：表觀看起來(lái)銀亮色，可以清楚看清反射物體類似于鏡子一樣光阻氧化鉻鉻基板通常是高純度，低反射率，低熱膨脹系數(shù)的石英玻璃。鉻版的不透光層是通過(guò)濺射的方法鍍?cè)诓Ａ路胶窦s700a的鉻層，鉻的下方還有一層由鉻的氮化物或氧化物形成的薄膜其作用是增加鉻與玻璃的粘附力。選擇鉻膜是因?yàn)樗某练e與刻蝕相對(duì)比較容易，而且對(duì)光線完全不透明。鉻版原材玻璃，依材質(zhì)分類：蘇打玻璃、石英玻璃、硼硅玻璃

2、；1. 硼硅玻璃，優(yōu)點(diǎn)不突出，很少使用；2. 石英玻璃的硬度、膨脹系數(shù)都遠(yuǎn)優(yōu)于蘇打玻璃，一般用在對(duì)精度要求較高的產(chǎn)品上；3、掩膜制作流程、掩膜制作流程掩膜版的圖像形成流程（除曝光外，其它與一般的黃光過(guò)程類似）曝光過(guò)程：掩膜版的曝光過(guò)程與一般產(chǎn)品的的曝光差異最大的地方，就是一般的曝光，都是整版一次性完成；而掩膜版的精度要求非常高，需要使用激光束（或電子束）逐行掃描的方式來(lái)完成，因此，曝光一片掩膜版，需要相當(dāng)長(zhǎng)時(shí)間。4、品質(zhì)特性與檢驗(yàn)、品質(zhì)特性與檢驗(yàn)、cd (critical dimension)指光照?qǐng)D形線寬大小一般customer設(shè)計(jì)的圖形1倍,光罩會(huì)因廠家stepper制程不同有1x,4x,

3、5x之相對(duì)圖形。光罩廠依據(jù)customer的需求提供正確之cd大小,并合乎其要求的公差規(guī)格. 、pattern/layout(圖形與布局準(zhǔn)確性)光罩廠依據(jù)customer的需求將其所提供資料的圖形制作在光罩上需確認(rèn)圖形和布局是否準(zhǔn)確?？蛻籼峁┵Y料 光罩(圖形正確) 光罩(圖形不正確) 光罩(布局不正確) aaaaaaaaffffaa. defect (缺陷)除customer原設(shè)計(jì)圖形外，多出的部份及少的部份都成為不良。一般鉻膜光罩常有的缺陷如下：5、鉻版存放要求、鉻版存放要求鉻版為硬掩膜版，為防止其變形，盡量豎直存放。為了保證掩膜版表面的潔凈度，一般要保存在1000 級(jí)以上的無(wú)塵室內(nèi)，溫度：2026，濕度需維持在40-60%rh 以內(nèi)，靜電電壓控制在500 伏以內(nèi)。因?yàn)殂t版的基材是玻璃，如果需要對(duì)鉻版長(zhǎng)期保存，則需要保持在干燥的環(huán)境里，以防止玻璃出現(xiàn)發(fā)霉現(xiàn)象，影響光學(xué)性能。為了盡可能地避免劃、碰傷，影響壽命，使用時(shí)要輕拿輕放，曝光前必須對(duì)光檢查鉻版表面是否有硬性顆粒，在曝光過(guò)程