UG中點云處理方法和規(guī)則外形的逆向造型基本原則_第1頁
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文檔簡介

1、本文通過一個電子產(chǎn)品的外殼點云的逆向造型實例講解UG中點云處理方法和規(guī)則外形的逆向造型基本原則,了解UG在處理不同的數(shù)據(jù)源下的逆向造型方法。掌握基本的外形拆分方法和外形判斷方法。1.正向造型法對大多 CAD軟件來說,逆向造型和正向造型并沒有本質(zhì)的區(qū)別,唯一的不同是數(shù)據(jù)來源不同。所以對于一些特定類型的造型,可以考慮用正向造型的方法來實現(xiàn)的。如下圖的點云(已轉成stl),是nokia858 手機的上殼,相對來說形狀是比較規(guī)則的,并且主要的幾個面構成也是比較直觀的,所以適 合用正向造型的方法來進行。首先,我們在開始造型之前,應該進行仔細的分析,想像岀各個面的主要構成方法以及過渡的可能方式, 這樣我們

2、才能做到有的放矢。首先整體形狀是有一個圍側面(1)和頂面(7)以及一個類圓角面(2 )構成,對于側面(1),在造形之前我們可以猜測它是掃岀的或是混成的。對于類似這樣頂面(7 ),我一般強烈傾向于掃出面,對于(2),一般用圓角搞定沒問題(注意必要的時候切換成conic類型的圓角以更擬合實際情況)。然后看局部和過度,(3)的面初步猜測應該是頂面 offset 定的距離生成,至于是否有呆后面的驗證。(5 )面仔細觀查會發(fā)現(xiàn)和頂面并非一個面,所以需要另一個掃出面來擬合。(6)面比較難點,是個典型的過度,從頂部的級差過度到側面的消失,在目前來看可能的做法是作消失面,或者倒圓角(是否覺得不 可思議?這里的

3、判斷需要建立在想像和經(jīng)驗上)。后面你會看到這個看似復雜的過度居然真的就可以用圓 角搞定。(4)面什么難度,兩個軌跡的可變掃出就可以輕松搞定。下面我們就開始動手了。 不管形狀如何,我想分型輪廓線應該是我們的工作的第一步。所以我們先作分型面,對于這個實體來說,分型面比較簡單就是一個圓弧拉伸面然后用投影到分型面的方法來創(chuàng)建分型輪廓線,注意在草繪的時候利用已有的點云作參考。目測就 行啦。然后用投影到分型面的方法來創(chuàng)建分型輪廓線,注意在草繪的時候利用已有的點云作參考。目測就 行啦。接著創(chuàng)建分中的脊線。注意這時候應該刻意把類圓角面部分去掉,也就是草繪成尖角的,這樣可以 最后再作類圓角面以簡化構建工作。并且

4、草繪最好由盡量少的簡單元素構成,比如圓弧和spline通常是比較好的選擇。注意兩個側面最好是類似的構成,在這里都是用一個圓弧構成。如下圖所示對于另一個方向的脊線,因為沒有明顯的對稱性,創(chuàng)建的位置就有點考究了,通常建議在一些特殊的位置創(chuàng)建,比如最高點(這點的向量必然符合正交性的)。如下圖我們作一個通過脊線的最高點的基準面。 然后用這個基準面到restyle下和點云相交出一條線作參考。借助于上一步的參考線,我們可以方便的創(chuàng)建岀另一條脊線,同樣的這條脊線也盡量用少而簡單的元素構成并且去掉類圓角部分。側面也用一條圓弧構成。目的自然也是為了圍側面創(chuàng)建的規(guī)則性。這樣,我們就已經(jīng)創(chuàng)建岀了三條主干輪廓了。我們

5、創(chuàng)建的原則是簡單先行, 在這些面中,顯然頂面是最簡單的,我們先來試試用可變掃岀的結果如何。這個掃出面就用主脊線作軌跡,R260的圓弧作截面進行掃出,這樣就可以和上步創(chuàng)建的頂截面相吻合。然后創(chuàng)建圍側面,為了觀查方便,我先把頂面的隱藏了,后面的步驟也是這樣,就不作特別說明了。因 為側面的變化比較快,所以要適當在中間的部分添加一些控制截面。如下圖的兩個截面就是新添加的,詳 細的添加方法看part,同樣用restyle的交線作參考側面用單一圓弧構成。可以看到側面的圓弧的變化比較大并且沒有簡單的規(guī)律,所以只好放棄用可變掃出的方法改用混成,為此我們要作岀如下圖的連線。Q然后就是延伸,合并,大體外形就岀來了線作好了,面就簡單了Offset做級差面而對于底部的側面,就可以用restyle下的指令用一條軌跡和一個截面來掃出下面的圓角沒啥特殊的,注意控制的是大小這個圓角一倒,是不是覺得神似了完成這一步,實際上這模型的主要難題都解決了,剩下的工作就類似于體力勞動了,這里我也不再累述了,自己研究研究part就好。(仔細看別人的part好處多多阿)等基本外形完成后,你應該進行一下偏差分析,這一

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