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1、排放管道中一氧化碳自動(dòng)檢驗(yàn)法非分散性紅外線法NIEA A704.04C一、方法概要利用一氧化碳吸收波長(zhǎng)4.7卩m左右紅外線之特性,從排放管道中連續(xù)抽岀氣體,引入非分散性紅外光( Nondispersive Infrared NDIR )分析儀內(nèi),以測(cè)定樣品氣體所含一氧化碳的 濃度。二、適用範(fàn)圍本方法適用於固定污染源及廢棄物焚化爐之排放管道一氧化碳之自動(dòng)檢測(cè),測(cè)定範(fàn)圍依量測(cè)系統(tǒng)設(shè)定之全幅而定,全幅的選擇應(yīng)視排氣中一氧化碳之濃度而定,如在任何時(shí)候量測(cè) 之氣體濃度超過(guò)全幅時(shí),則檢測(cè)結(jié)果應(yīng)為無(wú)效。三、干擾氣體樣品中之水氣在採(cǎi)樣裝置中須預(yù)先除去水分,使無(wú)干擾之虞。氣體樣品中如含甲烷、乙烷、乙炔、乙醛、氰
2、氣(Cya no gen)、偶氮甲烷(Diazometha ne、硫化氫、亞硝醯氯( Nitrosyl chloride )、一氧化氮、烯類等氣體會(huì)造成干擾。但這些氣體即使存在,通常濃 度亦不高,不致於干擾。二氧化碳亦會(huì)干擾,故須使用可分辨CO與CO2之檢測(cè)儀器。懸浮微粒亦是干擾來(lái)源之一,在氣體進(jìn)入儀器之前,應(yīng)以玻璃纖維濾棉或多孔過(guò)濾器濾除之。四、設(shè)備及材料本量測(cè)系統(tǒng)概圖如圖一,必要之要件如下:(一)氣體採(cǎi)樣管:採(cǎi)樣管材質(zhì)可為玻璃、不銹鋼、鐵氟龍或相當(dāng)材質(zhì)。採(cǎi)樣管必須加熱以防 止冷凝。(二)粒狀物過(guò)濾器:在管道內(nèi)或可加熱(能防止水分冷凝)管道外過(guò)濾器,以防止粒狀物堆積在量測(cè)系統(tǒng)並延長(zhǎng)組件之使用
3、壽命。過(guò)濾器必須為和樣品氣體不反應(yīng)之材質(zhì)所製造,如硼矽或石英棉、玻璃纖維。(三)校正閥:三向閥或相當(dāng)之組件,此裝置在校正模式時(shí)能防止樣品氣體導(dǎo)入量測(cè)系統(tǒng),並可 從採(cǎi)樣管岀口導(dǎo)入校正氣體至量測(cè)系統(tǒng)。(四)樣品管線:可加熱(能防止水分冷凝)之不銹鋼或鐵弗龍管,從採(cǎi)樣管傳輸樣品氣體至水 分去除裝置,必要時(shí)管線可以快速接頭連接。(五)水分去除裝置:以電子冷卻原理或半透膜原理去除水分之裝置,氣體分析儀可以在溼基測(cè)定氣體濃度時(shí)可不需要水分去除裝置,對(duì)這些分析儀需(1)加熱分析儀入口前之樣品管線及所有連結(jié)組件防止冷凝(2)使用適當(dāng)方法測(cè)定含水量並校正至乾基氣體濃度。(六)樣品傳輸管線:不銹鋼或鐵弗龍管,從水
4、分去除裝置傳輸樣品氣體至採(cǎi)樣幫浦、樣品流量 控制及樣品氣體歧管。此管線不需加熱。(七)採(cǎi)樣幫浦:無(wú)漏式幫浦,將樣品氣體以足夠之流速通過(guò)系統(tǒng)使量測(cè)系統(tǒng)應(yīng)答時(shí)間減到最 小。幫浦可由任何不和樣品氣體反應(yīng)之物質(zhì)組成。(八)樣品流量控制 :含控制閥及浮子流量計(jì)或相當(dāng)之裝置,維持採(cǎi)樣流量固定在±10 %以內(nèi)(檢驗(yàn)員可選擇安裝一背壓調(diào)節(jié)閥(Back-pressure regulato)以維持樣品氣體歧管在固定壓力做為保護(hù)分析儀避免壓力過(guò)大,使需要之流量調(diào)整減至最少。)(九)樣品氣體歧管(Sample gas manifold):使一部分樣品氣體轉(zhuǎn)向流至分析儀並將其餘的由旁 路出口排出。樣品氣體歧管
5、應(yīng)可提供將校正氣體直接導(dǎo)入分析儀。 樣品氣體歧管可由任何 不和樣品氣體不反應(yīng)物質(zhì)組成。(十) 氣體分析儀:以紅外光為偵測(cè)器的自動(dòng)分析儀器,可連續(xù)測(cè)定樣品氣體之一氧化碳濃度。 分析儀性能規(guī)格必須能符合十、(二)之規(guī)範(fàn)。分析儀應(yīng)可提供控制分析儀氣體流量之工具及適合測(cè)定樣品氣體流量之裝置 (如準(zhǔn)確的浮子流量計(jì) 、在流量控制器下游之壓力錶等) 將分析儀置於乾淨(jìng)、熱穩(wěn)定、無(wú)振動(dòng)之環(huán)境可減少分析儀校正時(shí)之偏移。(十一 ) 紀(jì)錄器:選擇與分析儀可相容之紙帶紀(jì)錄器或數(shù)據(jù)擷取系統(tǒng)。(十二 ) 氣體稀釋器:可將高濃度標(biāo)準(zhǔn)氣體稀釋成所需之校正氣體(非必要之設(shè)備,如使用本設(shè)備應(yīng)定期校正)。五、試劑(一) 零點(diǎn)標(biāo)準(zhǔn)氣體
6、:不含任何可引起分析儀應(yīng)答(response或可能與一氧化碳產(chǎn)生氣相反應(yīng) 之物質(zhì)的氣體,如氮?dú)?。(二)一氧化碳?biāo)準(zhǔn)氣體:以氮?dú)饣蚩諝獬涮钪谎趸紭?biāo)準(zhǔn)氣體,其品質(zhì)須能追溯至國(guó)家或 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)。製造商必須提供氣體認(rèn)證濃度及保存期限,並在保存期限內(nèi)使用。1、高濃度校正氣體:濃度相當(dāng)於全幅80至100 %之校正氣體;亦可使用氣體稀釋器,以高濃度標(biāo)準(zhǔn)氣體配製之。2、中濃度校正氣體:濃度相當(dāng)於全幅40至60 %之校正氣體;亦可使用氣體稀釋器,以高濃度標(biāo)準(zhǔn)氣體配製之。3、其他濃度校正氣體:全幅20 %、40 %、60 %、80 %、90 % (或近似濃度) 之校正氣體;亦可使用氣體稀釋器,以高濃度標(biāo)準(zhǔn)氣體配
7、製之。4、中濃度確認(rèn)氣體:來(lái)源或批次不同於校正氣體之標(biāo)準(zhǔn)氣體,濃度相當(dāng)於全幅40至60 %;亦可使用氣體稀釋器,以高濃度標(biāo)準(zhǔn)氣體配製。六、採(cǎi)樣及保存(一 ) 使用本方法時(shí)可能會(huì)有危險(xiǎn)之氣體、動(dòng)作或設(shè)備,分析人員應(yīng)注意人員的安全,並確認(rèn) 操作環(huán)境之安全後執(zhí)行檢測(cè)。(二) 實(shí)際現(xiàn)場(chǎng)檢測(cè)時(shí)之儀器裝配,如圖一所示,校正閥A 係用來(lái)確認(rèn)量測(cè)系統(tǒng)是否洩漏或污 染,其位置應(yīng)儘可能接近採(cǎi)樣管出口端。(三) 採(cǎi)樣管插入排放管道橫截面1/3至1/2位置,如排放管道直徑 2 m以上時(shí)須插入1 m以上。(四) 採(cǎi)樣管及水分去除裝置前之樣品管線需加熱至120 C以上,以避免水分冷凝於採(cǎi)樣管路 內(nèi)。樣品氣體進(jìn)入分析儀前應(yīng)
8、過(guò)濾,以除去排氣中之粒狀物。(五)採(cǎi)樣之流量應(yīng)與採(cǎi)樣前校正儀器之流量一致,流量一般設(shè)定在0至 1 L/min 之間,一件樣品之總採(cǎi)氣時(shí)間應(yīng)在一小時(shí)以上。(六)本方法為現(xiàn)場(chǎng)直接檢測(cè),樣品無(wú)須保存及運(yùn)送。七、步驟(一 ) 準(zhǔn)備量測(cè)系統(tǒng)1、將採(cǎi)樣設(shè)備、一氧化碳自動(dòng)分析儀、紀(jì)錄器及其他組件依圖一及儀器製造公司使用說(shuō) 明裝置妥,先檢查管路系統(tǒng)等配備,確定無(wú)阻塞及洩漏,方可進(jìn)行檢測(cè)。2、暖機(jī)待儀器穩(wěn)定。3、調(diào)整系統(tǒng)組件至正確的採(cǎi)樣流量。4、暖機(jī)完成後將樣品氣體導(dǎo)入分析儀預(yù)估樣品氣體濃度或以先前經(jīng)驗(yàn)值預(yù)估樣品氣體濃 度。5、設(shè)定分析儀之全幅範(fàn)圍。(二)分析儀校正誤差檢查( Analyzer calibrat
9、ion error check) :在檢測(cè)前由氣體分析儀上游之校 正閥 B 導(dǎo)入校正氣體至氣體分析儀,執(zhí)行分析儀校正誤差檢查。1、由校正閥B導(dǎo)入零點(diǎn)、中濃度及高濃度校正氣體至分析儀。當(dāng)執(zhí)行此檢查時(shí),除分析 儀要達(dá)到正確的校正氣體流量外,量測(cè)系統(tǒng)不可執(zhí)行任何之調(diào)整。記錄每一校正氣體 在分析儀之氣體濃度顯示值。2、分析儀校正誤差檢查時(shí),如任何校正氣體在分析儀顯示之氣體濃度,依八、(三)計(jì)算公式計(jì)算之分析儀校正誤差大於±2 %全幅時(shí),分析儀校正誤差檢查應(yīng)為無(wú)效。如出現(xiàn)無(wú)效的校正,執(zhí)行修正動(dòng)作,重做分析儀校正誤差檢查至分析儀校正誤差在± 2%全幅以內(nèi)。(三)採(cǎi)樣系統(tǒng)偏差檢查(Sam
10、pling system bias check :檢測(cè)前由採(cǎi)樣管岀口之校正閥A導(dǎo)入校正氣體至氣體分析儀,必須使用零點(diǎn)氣體及中濃度或高濃度校正氣體(以較接近估計(jì)排放濃度者),依下列步驟執(zhí)行採(cǎi)樣系統(tǒng)偏差檢查。1、由校正閥 A 導(dǎo)入中濃度或高濃度校正氣體(以較接近估計(jì)排放濃度者),並記錄分析 儀之氣體濃度顯示值。接著導(dǎo)入零點(diǎn)氣體,並記錄分析儀之氣體濃度顯示值。當(dāng)執(zhí)行 採(cǎi)樣系統(tǒng)偏差檢查,系統(tǒng)在正常採(cǎi)樣流速下操作,除分析儀要達(dá)到正確的校正氣體流 量外,量測(cè)系統(tǒng)不可執(zhí)行任何之調(diào)整。輪流導(dǎo)入零點(diǎn)氣體及中濃度或高濃度校正氣體 直到得到穩(wěn)定的應(yīng)答。2、採(cǎi)樣系統(tǒng)偏差檢查時(shí),如零點(diǎn)氣體、中濃度或高濃度校正氣體在分析
11、儀校正誤差檢查及採(cǎi)樣系統(tǒng)偏差檢查時(shí)量測(cè)系統(tǒng)顯示氣體濃度之差值,依八、(四 )計(jì)算公式計(jì)算之採(cǎi)樣系統(tǒng)偏差大於 ±5 %全幅時(shí),採(cǎi)樣系統(tǒng)偏差檢查應(yīng)為無(wú)效。如岀現(xiàn)無(wú)效的校正,執(zhí) 行修正動(dòng)作,重做分析儀採(cǎi)樣系統(tǒng)偏差檢查至採(cǎi)樣系統(tǒng)偏差在±5 %全幅以內(nèi)。如必須調(diào)整分析儀,先重做分析儀校正誤差檢查(步驟七、(二),接著重做採(cǎi)樣系統(tǒng)偏差檢查。(四 ) 樣品分析:以在採(cǎi)樣系統(tǒng)偏差檢查相同之流量下導(dǎo)入樣品氣體至分析儀開(kāi)始進(jìn)行分析。當(dāng)檢測(cè)時(shí)應(yīng)維持固定之流量(在± 10% 以內(nèi))。因氣體分析儀有反應(yīng)時(shí)間,需等儀器穩(wěn)定能確實(shí)測(cè)得排放管道樣品氣體濃度時(shí),才能將測(cè)定值做為污染物濃度值。(五)
12、零點(diǎn)及校正偏移測(cè)試(Zero and calibration drift tests):檢測(cè)後立即執(zhí)行,依步驟七、(三)重做採(cǎi)樣系統(tǒng)偏差檢查 (偏移檢查完成前不能對(duì)量測(cè)系統(tǒng)做調(diào)整) ,記錄分析儀之顯示值。1、如零點(diǎn)氣體、中濃度或高濃度校正值大於採(cǎi)樣系統(tǒng)偏差規(guī)定之±5 %全幅時(shí),檢測(cè)結(jié)果應(yīng)為無(wú)效,放棄該次所測(cè)得數(shù)據(jù)。在重新檢測(cè)前重做分析儀校正誤差檢查(步驟七、(二)及採(cǎi)樣系統(tǒng)偏差檢查(步驟七、(三)。2、如零點(diǎn)氣體、中濃度或高濃度校正值在採(cǎi)樣系統(tǒng)偏差規(guī)定之±5 %全幅以內(nèi),以檢測(cè)前後採(cǎi)樣系統(tǒng)偏差檢查測(cè)得之零點(diǎn)氣體及中濃度或高濃度校正氣體濃度值,依八、 (五)計(jì)算公式計(jì)算零點(diǎn)氣
13、體及中濃度或高濃度校正偏移。如偏移大於±3 %全幅時(shí),檢測(cè)結(jié)果應(yīng)為無(wú)效,放棄該次所測(cè)得數(shù)據(jù)。在重新檢測(cè)前重做分析儀校正誤差檢查(步驟 七、(二)及採(cǎi)樣系統(tǒng)偏差檢查(步驟七、(三)。八、結(jié)果處理(一)使用者僅需將其輸出結(jié)果換算成濃度由於自動(dòng)分析儀器有微電腦處理系統(tǒng)可自行計(jì)算, 單位(ppmv)。(二)若氣體樣品經(jīng)水分去除裝置再進(jìn)入自動(dòng)分析儀,則檢測(cè)結(jié)果為乾基之結(jié)果,反之為濕基,其換算公式如下:(三)分析儀校正誤差計(jì)算公式如下:分析儀校正誤差(%_ 口和需衛(wèi)N %全幅(四)採(cǎi)樣系統(tǒng)偏差計(jì)算公式如下:採(cǎi)樣系統(tǒng)偏差(%)n川"皆7廠%全幅(五)零點(diǎn)及校正偏移計(jì)算公式如下:偏移(%)
14、,全幅(六)多點(diǎn)校正誤差計(jì)算公式如下:校正誤差(%)須戰(zhàn)正a答值校正氣體濃度値in %Cd:乾基之濃度,ppmvCw:濕基之濃度,ppmvXw:排氣之水分,%。(七 ) 分析結(jié)果的紀(jì)錄事項(xiàng)應(yīng)包括( 1)分析值( 2)分析方法之種類( 3)採(cǎi)樣日期( 4)校正 紀(jì)錄( 5)其他必要記載事項(xiàng)。九、品質(zhì)管制(一) 多點(diǎn)校正:每六個(gè)月依下列步驟執(zhí)行定期校正(長(zhǎng)期不使用時(shí),則每次採(cǎi)樣前做校正)。 新裝設(shè)的儀器或儀器主要設(shè)備經(jīng)修護(hù)後,亦應(yīng)依下列步驟執(zhí)行儀器校正。1、設(shè)定分析儀之全幅,將全幅之0 %、20 %、40 %、60 %、80 %、90 % (或近似濃度)等六個(gè)不同濃度的校正氣體,由校正閥 B 導(dǎo)入
15、分析儀。當(dāng)執(zhí)行此檢查時(shí),除分析儀要 達(dá)到正確的校正氣體流量外,量測(cè)系統(tǒng)不可執(zhí)行任何之調(diào)整。記錄每一校正氣體在分 析儀之氣體濃度顯示值。2、以多點(diǎn)校正之應(yīng)答值依八、(六)計(jì)算公式計(jì)算校正誤差,如任何校正氣體之誤差大於 ± 2% 全幅時(shí),執(zhí)行修正動(dòng)作後,重做多點(diǎn)校正至誤差在± 2% 全幅以內(nèi)。3、以中濃度確認(rèn)氣體,經(jīng)校正閥B導(dǎo)入分析儀中,記錄其讀值,比較此測(cè)定值與中濃度確認(rèn)氣體濃度值,求其相對(duì)誤差值,相對(duì)誤差值應(yīng)在± 5 %以內(nèi)。(二 ) 量測(cè)系統(tǒng)性能規(guī)格1、分析儀校正誤差:零點(diǎn)、中濃度及高濃度校正誤差須小於±2 %全幅。2、採(cǎi)樣系統(tǒng)偏差:零點(diǎn)及中濃度或高濃
16、度校正偏差須小於±5 %全幅。3、零點(diǎn)偏移:小於±3 %全幅。4、校正偏移:小於士 3 %全幅。(三 ) 檢測(cè)前應(yīng)執(zhí)行分析儀校正誤差及採(cǎi)樣系統(tǒng)偏差檢查,檢測(cè)後應(yīng)執(zhí)行採(cǎi)樣系統(tǒng)偏差檢查 。若檢測(cè)後採(cǎi)樣系統(tǒng)偏差檢查超岀九、(二)之規(guī)定時(shí),當(dāng)自動(dòng)分析儀為可攜型(Portable),則必須放棄該次所測(cè)得數(shù)據(jù),待調(diào)整儀器並校正後,再重新測(cè)定;當(dāng)自動(dòng)分析儀為固定式儀 器,則依本署公告之 固定污染源空氣污染物連續(xù)自動(dòng)監(jiān)測(cè)設(shè)施管理辦法 相關(guān)規(guī)定處理 。(四)偵測(cè)極限( Detection limit )之測(cè)定1、 於實(shí)驗(yàn)室依現(xiàn)場(chǎng)測(cè)定時(shí)量測(cè)系統(tǒng)組裝方式將採(cǎi)樣設(shè)備、一氧化碳自動(dòng)分析儀、紀(jì)錄器 及
17、其他組件裝置妥,由校正閥 A 導(dǎo)入零點(diǎn)氣體至氣體分析儀,於最短時(shí)間內(nèi)執(zhí)行完成 並且讀取至少三十個(gè)測(cè)值,要求最短時(shí)間之目的是儘量減少零點(diǎn)偏移及周?chē)鷾囟葘?duì)零 點(diǎn)造成之偏差。a碼+於X:偵測(cè)極限打:空白讀值之平均值S。:空白讀值之標(biāo)準(zhǔn)偏差十、精密度與準(zhǔn)確度(一) 儀器之精密度應(yīng)在約士 2 %全幅氣體。(二) 經(jīng)校正後,儀器之準(zhǔn)確度應(yīng)在約士 5 %全幅氣體。十一、參考文獻(xiàn)(一)U.S. EPA, Determ in ati on of Carbon Mono xide Emissi ons from Stati onary Sources, Office of the Federal Register
18、 National Archives and Records Administration, 40 CFR, Part 60, Appendix A, Method 10, 2004。(二) U.S. EPA, Determ in ati on of Nitroge n Oxides Emissi ons from Stati onary Sources (In strume ntal Analyzer Procedure) , 40 CFR, Part 60, Appendix A, Method 7E, 2006.(三)ISO, Stati onary sources emissi on Determ in ati on of the mass
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