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文檔簡(jiǎn)介

1、 1054 化 67 學(xué) 進(jìn) 展 第 22 卷 分別為 68. 97kJ / mol 和 73. 73kJ / mol 3. 4 低頻譜解析 。 根據(jù)式( 50 ) 和式( 53 ) 即可求得擴(kuò)散系數(shù) D 。 3. 5 極低頻譜解析 實(shí)用化嵌合物電極 EIS 譜極低頻區(qū)域( 0. 01Hz ) 為與活性材料晶體結(jié)構(gòu)的改變或新相的生成相關(guān)的 一個(gè)半圓以及鋰離子在活性材料中的累積和消耗相 關(guān)的一條垂線組 成, 此 過 程 可 用 一 個(gè) Rb / Cb 并 聯(lián) 電 路與 C int 組成的串聯(lián)電路表示, 其中 R b 和 C b 為表征 活性材料顆粒本體結(jié)構(gòu)改變的電阻和電容 。 如前文 EIS 測(cè)

2、 試 范 圍 一 般 為 由于受實(shí)驗(yàn)條件的 限 制, 所述, 10 5 10 2 Hz 。 此 外, 通常實(shí)用化嵌合物電極如 LiCoO 2 、 尖晶石 LiMn 2 O 4 、 石墨等在鋰離子嵌入和脫 出過程中體積變化 較 小, 體相內(nèi)部物理化學(xué)性質(zhì)變 化不大, 且一般不存在劇烈的相變過程, 新生成相和 原始相之間的物理化學(xué)性質(zhì)差別往往也不大 。 因而 在其 EIS 譜 中 很 難 觀 察 到 極 低 頻 區(qū) 域 ( 2 時(shí), 擴(kuò) 散 系 數(shù) D 可 以 通 過 ZL 1 槡 或 Z1 槡 B = Vm 的斜率 B 求得 1 ( 54 ) 式中 e 為電子電 荷; N 為 單 位 面 積 薄

3、 膜 電 極 內(nèi) 鋰 離 子的最 大 嵌 入 量; k B 是 Boltzman 常 數(shù); T 是 熱 力 學(xué) g 0 和 g 0 分別對(duì)應(yīng)嵌 溫度; g 為弗魯姆金 參 數(shù), 入薄膜電極的鋰離子之間和鋰離子與嵌鋰空位之間 的相互排斥和吸引作用 。 從 式 ( 54 ) 可 以 看 出, 當(dāng)嵌 C int 存在極大值 。 鋰度 x = 0. 5 時(shí), 當(dāng)嵌鋰度 x 很小, 即 當(dāng) x 0 時(shí), 忽略嵌入薄膜 電極的鋰離子之間和鋰離子與嵌鋰空位之間的相互 84 即假定 g = 0 , 式( 54 ) 可變?yōu)?排斥和吸引作用, dE ( 50 ) dx 2 FAD 槡 式中 V m 為 樣 品 的

4、 摩 爾 體 積; F 為 法 拉 第 常 數(shù); A 為 電極面積; dE 為庫(kù)侖滴定曲線的斜率 。 dx 2D 時(shí), 擴(kuò)散系數(shù) D 可以從極限電 L2 Vm L dE 3 FAD d x (2) 當(dāng) 阻 R L 和極限電容 C L 求得 RL = ( 51 ) ( 52 ) ( 53 ) C int = Le 2 N x kB T ( 55 ) Vm dE 1 = FA L d x C L D = L 3RL CL 2 C int 與 嵌 鋰 從式( 55 ) 可以看 出, 當(dāng) 嵌 鋰 度 x 很 小 時(shí), 度 x 呈線性變化 。 將式( 27 ) 代入式( 55 ) , 整理可得 ln C

5、 int = ln Le 2 N + f( E E 0 ) kB T ( 56 ) 第6期 莊全超等 鋰離子電池的電化學(xué)阻抗譜分析 1055 ln C int - E 呈線性變化 式( 56 ) 表明, 當(dāng)嵌鋰度很小時(shí), 關(guān)系 。 C int 的值通常用等效電 路 對(duì) EIS 譜 的 Nyquist 圖 擬合獲得, 也可從 Bode 圖上直接獲取, 當(dāng) 0 時(shí), 86 C int 可表示為85 , C int = 1 Z ( 57 ) C int 可從極低頻下的阻抗虛 從式( 57 ) 可以得出, 部直接求解 。 Aurbach 等 87 通常用頻率為 5 mHz 的 88 , 89 阻 抗

6、虛 部 直 接 求 C int 。 呂東生等 認(rèn)為, 用等效 圖7 Fig. 7 82 粗糙銅箔上 Cu 6 Sn 5 合金電極首次嵌鋰過程中的 Nyquist 圖 Nyquist plots of the Cu 6 Sn 5 alloy electrode on the rough Cu foil during the first lithiation82 電路對(duì) EIS 譜的 Nyquist 圖擬合獲得 C int 的值要優(yōu)于 從極低頻下的阻抗虛部直接求解 。 礙, 對(duì)于這一方面的問題 尚 需 繼 續(xù) 深 入 研 究;( 3 ) 相 比于對(duì)鋰離子在嵌合物電極活性材料固體內(nèi)部擴(kuò)散 行為的研究

7、, 人 們 在 運(yùn) 用 EIS 對(duì) 鋰 離 子 在 嵌 合 物 電 這 極 / 電解液界面上的相轉(zhuǎn)移過程研究的相對(duì)較少, 方面的工作 亟 待 加 強(qiáng);( 4 ) 雖 然 阻 抗 譜 測(cè) 試 儀 器 的 設(shè)計(jì)日益先進(jìn), 阻抗譜的頻率范圍也在不斷擴(kuò)大, 但 是對(duì)于高頻譜和低頻譜仍然存在一些硬件方面的技 術(shù)難題, 發(fā)展新的測(cè)試技術(shù)有效地縮短測(cè)量時(shí)間, 以 便獲得更多高頻和 低 頻 區(qū) 域 的 信 息, 對(duì)擴(kuò)大阻抗譜 的應(yīng)用范圍至關(guān) 重 要 。 此 外, 作為一種原位的研究 發(fā)展 EIS 與其他原位研究方法如 in-situ FTIR 、 方法, in-situ XRD 的聯(lián)用技術(shù), 以增強(qiáng)對(duì)阻抗譜特

8、征的解 釋, 也將會(huì)成為一個(gè)重要的研究方向 。 參 考 文 獻(xiàn) 1 Wu M S ,Chiang P C J ,Lin J C. J. Electrochem. Soc. ,2005 , 152 : A1041 A1046 2 Safari M ,Morcrette M ,Teyssot A ,et al. J. Electrochem. Soc. , 2009 ,156 : A145 A153 3 Markovsky B ,Rodkin A ,Cohen Y S ,et al. J. Power Sources , 2003 ,119 /121 : 504 510 4 Zhang D ,Ha

9、ran B S ,Durairajan A ,et al. J. Power Sources , 4 結(jié)論 目前 EIS 已經(jīng)成為鋰離子電池研究領(lǐng)域的一個(gè) 重要的分析手段, 廣泛地用于研究鋰離子在嵌合物 對(duì)闡明鋰離子 電極活性材料中的 嵌 入 和 脫 出 過 程, 電池的容量衰減機(jī)制以及改善鋰離子電池的充放電 循環(huán)性能和充放電倍率性能等起著重要作用 。 雖然 在鋰離子電池研究 中, 電化學(xué)阻抗譜方法有著其他 測(cè)試方法無可比擬 的 優(yōu) 點(diǎn), 但阻抗譜的應(yīng)用過程中 仍然存 在 很 多 技 術(shù) 問 題, 主 要 包 括: ( 1 ) 電 解 池 體 嵌合物電極的 組 成 、 活 性 材 料 的 量、

10、 活性材料顆 系、 粒的大小以及電極的厚度和制備工藝等因素均會(huì)對(duì) 阻抗譜特征產(chǎn)生重 要 的 影 響, 系統(tǒng)地闡明上述因素 對(duì)阻抗譜特征的影響是基于不同實(shí)驗(yàn)方案實(shí)驗(yàn)結(jié)果 對(duì)于這方面的內(nèi)容還有大量的 具有可比性的基礎(chǔ), 工作需要完成, 以待出臺(tái) 完 善 的 標(biāo) 準(zhǔn) 體 系;( 2 ) 鋰 離 子在嵌合物電極活性材 料 中 嵌 入 和 脫 出 過 程 的 EIS 譜中各時(shí)間常數(shù)的 歸 屬 仍 然 存 在 一 定 的 爭(zhēng) 議, 這對(duì) 阻抗譜的解釋和 EIS 的進(jìn)一步應(yīng)用造成了一定的障 1056 2000 ,91 : 122 129 化 學(xué) 進(jìn) 展 第 22 卷 30 Mossa P L , Aub G

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23、42 : 2873 2882 20 Aurbach D ,Levi M D ,Levi E ,et al. J. Electrochem. Soc. , 1998 ,145 : 3024 3034 21 Aurbach D ,Gamolsky K ,Markovsky B ,et al. J. Electrochem. Soc. ,2000 ,147 : 1322 1331 22 Levi M D ,Aurbach D. J. Phys. Chem. B ,1997 ,101 : 4630 4640 23 Levi M D ,Gamolsky K ,Aurbach D ,et al. Elec

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