光學(xué)鄰近校正改善亞微米光刻圖形質(zhì)量

1、 上 平均 線 寬偏 差 由校 正 前 的 降低 到 。 這 一 結(jié) 果表 明 ，灰 階 編 碼 掩 模 在 光 學(xué) 鄰 近 校 正 方 面 有 相 當(dāng) 的潛 力 。 效 果 。盡 管 該 方 法 最 終 也 是 對 光 場 分 布 進(jìn) 行 合 理 優(yōu) 化 ，但 基 本 上 是 利 用 經(jīng) 驗 結(jié) 果 來 預(yù) 畸 變 掩 模 ， 沒 有考 慮 光 強(qiáng) 曲線 的斜 率 對 光刻 圖形 質(zhì)量 的影響 。 因此 ，一 個 用 偏 置 法 設(shè) 計 的掩 模 ， 在 離 焦 的情況 下 其校 正 效 果 受 到限 制 。相 比之 下 ， 亞分 辨 輔 助 線 條 的設(shè) 計 思 想 更 為 合 理 ，特

2、別 是 有 助 于 改 善 離 焦 曝 光 時 成 像 的質(zhì) 量 ?；?階 掩 模 和 編 碼 灰 階掩 模 的 優(yōu) 點(diǎn)在 于 可 實 現(xiàn) 鄰 近 效 應(yīng) 的精 細(xì) 校 正 ，設(shè) 計 也 較 為 靈 活 ，并 可 具 有 輔 助 線 條和 偏 置 方 法 共 同 的優(yōu) 點(diǎn) 這 類 掩 模 的加 工 時間 相 對 要 長 一 些 ， 因 此 ，在 需精 細(xì) 鄰 近 效 應(yīng) 校 正 時 才 予 以 使 用 。 灰 階編 碼 掩模 可 通 過現(xiàn) 有 微 細(xì) 加工 手 段 制 作 ， 其 加 工 比相 移 掩 模 和 灰 階 掩 模 簡 單 ，在 校 正 畸 變 和 改 善焦 深 方 面勝 于 偏 置

3、 法 和 添 加 輔 助 線 條 的方 法 ， 是 實現(xiàn) 用 灰階 掩 模 進(jìn) 行 鄰 近 效 應(yīng) 精 細(xì) 校 正 的 一 種 有 效 途 徑 ，有 良好 的應(yīng) 用 前 景 綜 上 所 述 ，各 種 光 學(xué) 鄰 近 校 正 方 法 從 校 正 結(jié) 果 來看 各有 其 適 用 的范 圍 。偏 置 方 法 較 為 簡 單 易 用 ，當(dāng) 設(shè)計 和加 工 精度較 高 時，可 收 到較 好 的校 正 圈 （） 灰階 編 碼 掩模 ； （ ） 模 中一 部分 的放 大 掩 結(jié)束語 近 年 來 ， 作 為 高 新 科 技 的 重 要 組 成 部 分 之 一 善 光 刻 圖 形 質(zhì) 量 的 研 究 （ 括 鄰

4、 近 效 應(yīng) 校 正 的 包 研 究 ） 波 前 工 程 學(xué) 是 建 立 在 信 息 光 學(xué) 、微 電 子 學(xué) 、計 算 機(jī) 圖 形 學(xué) 等 多 學(xué) 科 交 叉 基 礎(chǔ) 上 的 新 興 學(xué) 科 ， 光 學(xué) 鄰 近 效 應(yīng) 及 其 校 正 的 研 究 是 方 興 未 艾 的波 前 工 程 學(xué) 的 重 要 內(nèi)容 ， 是 信 息 光 學(xué) 和 微 電 子 學(xué) 的 前 沿 研 究 課 題 。 光 學(xué) 鄰 近 校 正 技 術(shù) 和 軟 件 包 作 為 改 善 光 刻 圖 形 質(zhì) 量 的 重 要 手 段 和 掩 模 設(shè) 計 的 專 業(yè) 工 具 ， 其 充 分 利 用 了計 算 的 微 工程 技 術(shù) 的發(fā) 展

5、極 為 迅 速 ，其 成 為 發(fā)展 新 一 代 計算 機(jī) 、先 進(jìn) 機(jī) 器 人 及 智 能 化 系 統(tǒng) ，促 進(jìn)機(jī) 械 、 電 子及 儀 器 儀 表 工 業(yè) 實現(xiàn) 集 成化 、微 型 化 的核 心 技 術(shù) 。 它 在 工 業(yè) 生 產(chǎn) 、 尖 端 科 學(xué) 研 究 、 醫(yī)療 器 械 、太 空 和 軍 事 等 領(lǐng) 域 都 有 廣泛 的 應(yīng) 用 。微 工程 技 術(shù) 的核 心 組 成 是 微 電 子 學(xué) （ 括 大規(guī) 模 集 成 電 包 路 的加工和應(yīng) 用） 、微 機(jī) 械 學(xué) 、 微 光 學(xué) 這 三 個 相 互 關(guān) 聯(lián) 相 互 促 進(jìn) 的 交 叉 學(xué) 科 ，其 特 點(diǎn) 是它 們 的制 作 都需使用 光刻

6、及其相 關(guān)技 術(shù)。 光 學(xué) 光 刻 作 為 當(dāng) 前 微 細(xì) 加 工 技 術(shù) 的 主 流 工 具 一 直 受 到 半 導(dǎo) 體 加 工 領(lǐng) 域 的 重 視 。 世 界各 大 半 導(dǎo) 體 集 成 電路 生 產(chǎn) 公 司 和 相 關(guān) 的 科 研 院所 部 投 入 大 量 人 力 、物 力 開 展 提 高 光 刻 分 辨 力 、 改 口 機(jī) 模 擬 、掩 模 設(shè) 計 優(yōu) 化 的 優(yōu) 勢 ， 在 應(yīng) 用 中無 需 改 裝 曝 光 系 統(tǒng) 或 使 用 復(fù) 雜 的 工 藝 技 術(shù) ， 具 有 經(jīng) 濟(jì) 、 實 用 、 方 便 等 特 點(diǎn) ， 倍 受 掩 模 設(shè) 計 工 程 師 們 的青 睞 從 提 供 的， 資

7、料 中 獲 悉 ，一 套 好 的 光學(xué) 鄰 近 校 正 告 軟件 的售價竟 可高達(dá) 萬 美 元 。 光 學(xué) 鄰 近 校 正 之 所 以能 引起 人 們 的 特 別 重 視 固 然 是 因 為 它 能 有 效 地 改 善 光刻 圖形 質(zhì) 量 ，是 推 進(jìn) 光 學(xué) 光 刻 極 限 的 一 ， ； 重 要 手 段 之 一 。而 另 一 重 要 原 因是 它 可 充 分 發(fā) 掘 現(xiàn) 有 的大 量 光 刻 設(shè) 備 的應(yīng) 用 潛 力 ，并 對 以后 幾 代 的 集 成 電路 的 光 刻 產(chǎn) 生 重大 影 響 ，可 為半 導(dǎo) 體 制 造業(yè) 帶 來 很 高 的和 較 為 長久 的經(jīng) 濟(jì) 效益 ，有 良好 的應(yīng)

8、 用 前 景 及 發(fā)展 余 地 ，對 迅 速 發(fā) 展 起 來 的微 工 程 器 件 的制 作 也 有 重 要 影 響 。 參 考 文 獻(xiàn) ； ， ； 杜 驚 雷 ，粟敬 欽 ，姚 軍等 ，亮 暗 襯 線法 校 正 鄰 近 效應(yīng) 及 其 實 驗研 究 激 光技 術(shù) ， （ ） ； ： ， ， ， ； ： 杜 驚 雷 光 學(xué) 光刻 中 的鄰 近 效應(yīng)研 究 四川 大學(xué) 博士 論 文， ， 都 成 （ ） ， ； ： ， ） 杜 驚雷 ， 黃奇 忠 ， 郭永康 等 灰階掩 模 實現(xiàn) 光 學(xué)鄰近 校 正及 計 算模 擬 研 究光學(xué) 學(xué)報 ， ； 杜 驚雷 ， 粟敬 欽 黃奇忠 等 用灰 階編 碼掩模

9、實現(xiàn)鄰 近 效應(yīng) 精 細(xì)校 正 的研 究 光 學(xué)學(xué) 報 （ ） ； ， ， ， ； ： ， 一 ） ， ， ， ； ： ， ；： ， ， ） ， （ ） ， ： ， ， （ 稿 日期 收 ； ： ， （ ） ， ） 石 瑞萎 ， 女 ， 匹 大學(xué) 物 理 系副 教授 ， 審科 院微 電子 中心 博士 生 年 碩 士研 究 生畢 業(yè)于 吉林 大 學(xué)，現(xiàn) 兒 事 電子器 件 與工 藝、 光刻 等 方 面研 究 ： ： 置 剛 摩托羅拉用 。 、 致伸縮隨機(jī)奪取壺艋 微型 墅魚量堡墊幢 姻 公司 日前推 出一 款 高度 集 成 化 的數(shù) 碼 彩 色 微 型攝 像 機(jī) 模 塊 ，最 適 合 下 一 代

10、 蜂 窩 電話 、個 人 壅塹里墊塞驗室和半導(dǎo)體部 實驗 室 合 力 推 出磁 致 伸 縮 隨機(jī) 存取 存 儲 器 （ ） 技 術(shù) ，該技術(shù) 將 為 億美 元 的半 導(dǎo) 體存儲 器 市場 數(shù) 字 助理 （） 其 它 便攜 式通 信 設(shè)備 。這個 名 叫 和 的攝 像 機(jī)模 塊 體積 僅 為 ，這 個 尺寸 對 空 間緊 缺 的便 攜 式 設(shè) 備 十 分 重 要 。節(jié) 能 是 便 攜 式 操 作 的另 一 個 關(guān) 鍵 要 求 ，這個 模塊 工 作 電壓 僅 為 ， 圖像 刷 新率 在 幀 秒 時 ，功 耗為 ，捕 獲 靜止 和 運(yùn)動 圖像 使 用 中 間格 式 （ 像 素 ）和 （ ， ， 一 一 像素 ）分 辨 率 。 一 二 一 豐 三 再 帶來 巨變 ，并 為 全 球 數(shù) 字 消 費(fèi) 電子