去除磷硅玻璃_第1頁
去除磷硅玻璃_第2頁
去除磷硅玻璃_第3頁
去除磷硅玻璃_第4頁
去除磷硅玻璃_第5頁
已閱讀5頁，還剩5頁未讀， 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權說明：本文檔由用戶提供并上傳，收益歸屬內(nèi)容提供方，若內(nèi)容存在侵權，請進行舉報或認領

文檔簡介

1、去除磷硅玻璃2v在擴散過程中發(fā)生如下反應：vPOCl3分解產(chǎn)生的P2O5淀積在硅片表面， P2O5與Si反應生成SiO2和磷原子：v這樣就在硅片表面形成一層含有磷元素的SiO2，稱之為磷硅玻璃。什么是磷硅玻璃？252236ClO2P3O4PClPSiOSiOP45522523磷硅玻璃的去除v氫氟酸是無色透明的液體，具有較弱的酸性、易揮發(fā)性和很強的腐蝕性。但氫氟酸具有一個很重要的特性是它能夠溶解二氧化硅，因此不能裝在玻璃瓶中。v在半導體生產(chǎn)清洗和腐蝕工藝中，主要就利用氫氟酸的這一特性來除去硅片表面的二氧化硅層。4v氫氟酸能夠溶解二氧化硅是因為氫氟酸能與二氧化硅作用生成易揮發(fā)的四氟化硅氣體。v若氫

2、氟酸過量，反應生成的四氟化硅會進一步與氫氟酸反應生成可溶性的絡和物六氟硅酸。v總反應式為：O2HSiF4HFSiO242SiFH2HFSiF624O2HSiFH6HFSiO26225去除磷硅玻璃工藝清洗液配制裝片開機投片清洗烘干6清洗液配制v將各槽中破損硅片等雜質(zhì)清除，用去離子水將各槽壁沖洗干凈。v1號槽中注入一半深度的去離子水，加入氫氟酸，再注入去離子水至溢流口下邊緣。v向后面的槽中注滿去離子水。7裝片v經(jīng)等離子刻蝕過的硅片，經(jīng)檢驗合格后插入承片盒。v注意，經(jīng)過磷擴散處理的表面，刻蝕之后硅片在插入硅片盒時也嚴格規(guī)定了放置方向。每盒100片，扣好壓條，投入清洗設備。8注意事項v在配制氫氟酸溶液時，要穿好防護服，戴好防護手套和防毒面具。v不得用手直接接觸硅片和承載盒。v當硅片在1號槽氫氟酸溶液中時，不得打開設備照明，防止硅片被染色。v硅片在兩個槽中的停留時間不得超過設定時間，防止硅片被氧化。9檢驗標準v當硅片從1號槽氫氟酸中提起時，觀察其表面是否脫水，如果脫水，則表明磷硅玻璃已去除干凈；如果表面還沾有水珠，則表明磷硅玻璃未被去除干凈。v甩干后，抽取兩片硅片，在燈光下目測：表面干燥，無水跡及其它污點。10基本問題處理v若有水痕，應先檢查熱水槽的溫度是否合適（一般水溫要超過60）,再檢查各水槽停留時間

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明，都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等，如果需要附件，請聯(lián)系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙，網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預覽，若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 人人文庫網(wǎng)僅提供信息存儲空間，僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理，對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯，并不能對任何下載內(nèi)容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權或不適當內(nèi)容，請與我們聯(lián)系，我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

最新文檔

評論

0/150

提交評論