真空設(shè)備應(yīng)用教材(共36頁(yè)).ppt

1、報(bào)告人：報(bào)告人：Ko-Min 1內(nèi)容真空歷史背景為什麼用真空真空系統(tǒng)元件介紹真空鍍膜設(shè)備介紹真空鍍膜產(chǎn)品目前與未來2真空歷史背景1643-義大利托里切利之水銀管實(shí)驗(yàn)1654-德國(guó)葛瑞克證明大氣的巨大壓力，馬德堡半球1662-英國(guó)波以爾定律1879-瑞士白努力定律1835-化學(xué)濕式法澱積了銀鏡膜，它們是世界上最早的光學(xué)薄膜1905-德國(guó)蓋德機(jī)械幫浦1936-油擴(kuò)散幫浦3取得真空環(huán)境後可產(chǎn)生大氣中沒有的新現(xiàn)象提高電熱絕緣性能保溫瓶延長(zhǎng)粒子飛行路徑陰極射線管去除周圍氣體屏障真空冷凍乾燥減少有害氣體作用電燈泡高速佈滿物體外表鍍膜(約mm2/s 有105個(gè)分子；10-1pa只要幾百分之一秒)為什麼用真空

2、?45真空鍍膜技術(shù)應(yīng)用l手機(jī)業(yè) 手機(jī)機(jī)殼、按鍵、屏幕、EMIl電腦業(yè) EMI、裝飾l印刷電路板 BGA、軟性基板l製鞋業(yè) Clean、裝飾l被動(dòng)元件 晶片電阻l汽車業(yè) 車燈、裝飾l模具業(yè) 抗沾黏、耐磨耗l光電業(yè) LCD、OLED、Solar、Touch Panell其它 半導(dǎo)體、刀工具、光學(xué)鏡片真空鍍膜設(shè)備應(yīng)用薄膜沉積(Thin Film Deposition)物理氣相沉積PVD化學(xué)氣相沉積CVD蒸鍍離子鍍?yōu)R鍍熱反應(yīng)CVD電漿輔助CVD熱電阻蒸鍍電子束蒸鍍直流濺鍍射頻濺鍍大氣壓CVD低壓CVD67如何抽真空真空腔體高真空Pump粗抽PumpMV(主閥)RV(粗抽閥)FV(前級(jí)閥)Vent(破真

3、空閥)LVG (低真空計(jì))HVG (高真空計(jì))ATM大氣感測(cè)器BG (製程真空計(jì))n 粗抽pump - RP+BP (油式迴轉(zhuǎn)pump+魯式pump) - Dry pump+BP (乾式pump)n 高真空pump - Turbo Molecular pump (渦輪分子pump) - Cryo pump (冷凍pump) - Diffusion Pump (擴(kuò)散pump)真空系統(tǒng)元件介紹8粗抽PUMP9高真空PUMP10真空計(jì)11真空閥門12電源供應(yīng)器：DC/ RF/ MF13真空設(shè)備介紹1415批次式(batch type)濺鍍系統(tǒng)批次式(batch type)濺鍍系統(tǒng)16連續(xù)式(立式In

4、-line)濺鍍系統(tǒng)17連續(xù)式(臥式In-line)濺鍍系統(tǒng)18Cluster19Cluster20Cluster21CVD Furnace22電漿23真空鍍膜產(chǎn)品2425Thin Film in LCDTFTITOAR CoatingBM OLED26太陽(yáng)能電池ITO or TO or ZnOglassp-type a-Sia-Sin-type a-SiAlglasshvSputter/LPCVDPECVDSputter27LED28LED 製作流程原料：磷、砷、鎵單晶成長(zhǎng)單晶片磊晶膜成長(zhǎng)：液相磊晶(LPE)氣相磊晶(VPE, MOCVD)電極圖形製作鍍製電極薄膜晶片磨薄鍍製電極薄膜晶粒切割封裝成品切割、研磨、拋光上游中游下游29其它鍍膜應(yīng)用30其它鍍膜應(yīng)用31真空鍍膜未來323334 從上述中我們可以了解，真空鍍膜技術(shù)及設(shè)備在當(dāng)今和未來都擁有十 分廣闊的應(yīng)用領(lǐng)域和發(fā)展前景。 在目前大規(guī)模半導(dǎo)體之電學(xué)膜： 在數(shù)字式縱向與橫向均可磁化的數(shù)據(jù)記錄儲(chǔ)存膜： 在能充分展示和應(yīng)用各種光學(xué)特性的光學(xué)膜： 在TFT、LCD平面顯示器上的導(dǎo)電膜及増透膜： 在建築、汽車行業(yè)上應(yīng)用的玻璃膜及裝飾膜： 在包裝領(lǐng)域用防護(hù)膜、阻隔膜： 在工具、模具上應(yīng)用的耐磨超