全口義齒單項選擇試題

1、全口義齒單項選擇試題B 1.制作全口義齒修復的印模要求到達：中 A.解剖式印模； B.功能性印模； C.加壓式印模；D.減壓式印模； E.組織受壓均勻的印模。C 2.按照無牙頜組織的結(jié)構(gòu)特點，顴突屬于：易 A.主承托區(qū)； B.副承托區(qū)； C.緩沖區(qū)；D.后堤區(qū)； E.邊緣封閉區(qū)。E 3.全口義齒的he力主要集中在：中 A.尖牙和雙尖牙區(qū)； B. 雙尖牙區(qū)； C. 磨牙區(qū)；D.第一磨牙區(qū)； E.第二雙尖牙區(qū)和第一磨牙區(qū)。D 4.上頜全口義齒后堤區(qū)應在：中 A.前顫抖線之前； B.腭小凹前 2mm； C.腭小凹與翼上頜切跡連線上；D.前后顫抖線之間； E.前顫抖線之上。 B 5.全口義齒基托磨光面

2、的處理要求有一定的斜度和外形，是為了：難 A.不使食物附著在義齒基托上； B.借助其斜面增加義齒的固位和穩(wěn)定； C.使口腔周圍肌肉運動不受影響； D.減少對軟組織的磨擦； E.便于食物排溢。 A 6.全口義齒修復后出現(xiàn)咬腮現(xiàn)象，其主要原因是：？ A.后牙覆蓋關(guān)系過小； B.后牙人工牙過大； C.上頜結(jié)節(jié)區(qū)基托邊緣過長；D.后牙基托邊緣過厚； E.下后牙人工牙過小。 E 7.影響全口義齒固位的因素哪項是錯誤的：？ A.基托面積的大?。?B. 基托與粘膜的適合度； C. 唾液的粘稠度；D.基托邊緣的封閉性； E. 基托厚度和強度。 C 8.全口義齒修復制作托的目的是：中 A.便于排牙；B.確定垂直

3、距離； C.頜位記錄；D.確定平面； E.恢復面部外形。 A 9.定位平面斜度是指：難 A.上中切牙近中切角到 左右下頜7近中頰尖所連的平面與水平面的交角； B.上中切牙近中切角到左右下頜7 遠中頰尖所連的平面與平面的交角； C.上中切牙近中切角到左右下頜7遠中頰尖所連的平面與水平面的交角； D.上中切牙近中切角到左右下頜7近中頰尖所連的平面與平面的交角； E.上中切牙近中切角到左右下頜6近中頰尖所連的平面與水平面的交角。 B 10.牙列缺失患者,上下牙槽嵴頂之間的距離稱為：中 A.垂直距離； B.頜間距離； C.頜間高度； D.間隙； E.以上都不是。C 11.全口義齒修復，印模完成后，在灌

4、模時，在將石膏包過印模邊緣，其目的是：中 A.防止印模損壞； B.保護印模邊緣有一定的形狀； C.使基托邊緣有一定形狀； D.防止模型斷裂； E.保持印模邊緣的清晰度。E 12.全口義齒初戴后，說話時上下人工牙有撞擊聲，其原因是：中 A.患者沿還未適應該義齒； B. 關(guān)系前伸； C.因全部用瓷牙； D.義齒因位不良； E.垂直距離過高。E 13.使用面弓的目的是：中 A.固定和轉(zhuǎn)移上頜牙托到架上；B.將下頜對上頜的關(guān)系轉(zhuǎn)移到架上； C.將的髁道斜度轉(zhuǎn)移以架上； D.記錄上下 托的關(guān)系； E.轉(zhuǎn)移上頜對顳下頜關(guān)系的三維位置關(guān)系D 14.全口義齒修復在肌力閉合道終點建確定水平頜位關(guān)系的方法中以下哪

5、一項不是的？難 A.反復做自然開閉動作，在肌力閉合道終點建； B.利用吞咽法建； C.利用卷舌法建； D.用哥特式弓法建； E.用肌電圖儀建。B 15.下頜人工尖牙的排列位置，以下哪一項為哪一項錯誤的？：中 A.左右下頜3近中鄰面與左右下頜2遠中鄰面接觸； B.牙尖與平面接觸； C.牙頸部向遠中傾斜； D.牙頸部向唇側(cè)微突； E.與 左右上頜2、3建立的覆蓋為 3cm。D 16.前伸平衡中,牙尖斜度是指牙尖平衡斜面與：中 A.平面的交角； B.眶耳平面的交角； C.定位平面的交角； D.各自牙尖底的交角； E.髁導斜度的交角。B 17.無牙頜患者的垂直距離確定,主要應用：中 A.面部外形觀察法

6、； B.息止頜位法； C.面部三等分法； D.拔牙前記錄法； E.吞咽咬法。C 18.以下哪種情況上頜全口義齒有向前移動的可能？中 A.平面距上頜牙槽嵴近； B.平面左右不平，左高右低； C.前低后高； D.平面前高后低；E.平面平分頜間距離。D 19.全口義齒的平面應平分頜間距離主要是為？ A. 增加基托的吸附力； B. 防止人工牙折斷； C. 防止位前伸； D. 增加義齒的平穩(wěn)和固位；F.獲得正確的垂直距離。E 20.有利于全口義齒固位的條件，哪一項為哪一項錯誤的：中 A.牙槽脊高而寬； B.腭高拱； C.系帶離牙槽脊頂較遠； D.粘膜厚且彈性大； E.頜間距離大小適中E 21. 頜間距離

7、是指：中A.上下正中he位時，鼻底至頦底的距離； B.下頜息止位時，鼻底至頦底的距離； C.無牙患者，上下牙槽脊頂之間的距離； D.下頜息止位時，上下牙槽脊頂之間的距離； E.無牙患者，下頜于正中 位時，上下牙槽脊頂之間的距離。D 22.確定垂直距離是為了：中A.使病人恢復年青時的面部形態(tài)；B.排牙方便； C.選擇人工牙； D.較好發(fā)揮咀嚼肌的力量； E到達 平衡。 B 23.基托組織面不應作緩沖的是：易A.上頜隆突； B.磨牙后墊； C.尖牙唇側(cè)；D.上頜結(jié)節(jié)；E.下頜隆突。B 24.取無牙下頜舌側(cè)翼緣區(qū)印模時應注意：中A.邊緣充分伸展越深越長越好； B.邊緣適當伸展不影響該區(qū)肌肉活動； C

8、.模型應局部加壓；D.印模應緩沖；E.增加邊緣厚度。D25.牙列缺失患者，同一頜弓內(nèi)常見牙槽骨呈不對稱吸收，其原因是：中A.與 力大小有關(guān)； B.與咀嚼部位有關(guān)； C.與咀嚼習慣有關(guān)；D.與失牙原因和時間有關(guān)；E.與患者健康狀況有關(guān)。C26.全口取模托盤的選擇要求：易A.托盤應與牙槽骨緊密貼；B.托盤邊緣應到達移行皺裂； C.托盤寬于無牙he 2-3mm ；D.托盤寬于無牙he 5-6mm ；E.托盤邊緣越短越好。E27.確定全口義齒中線標志，哪項是錯誤的？中A.眉間點B.鼻尖點； C.人中溝D.唇系帶；E.舌系帶。A28.全口義齒選磨時，正中he一側(cè)上頜舌牙尖早期接觸，側(cè)向he平側(cè)也有早期接

9、觸， 應選磨？難A.上頜舌牙尖；B.下頜舌牙尖； C.上頜頰牙尖；D.下頜頰牙尖；E.下頜中央窩。D29.全口義齒初戴時，基托不密合的主要原因為？難A.患者牙槽嵴低平；B.人工牙接觸不良； C.基托邊緣封閉不良；D.基托聚合收縮；E.基托厚度不夠。B 30. 全口義齒he平面如果前低后高或前高后低可能引起：中 A. 義齒左右擺動； B. 義齒前后移動； C. 咬關(guān)系紊亂； D.咀嚼肌疲勞； E. 顳頜關(guān)節(jié)病。C 31. 排列上頜人工前牙時牙體長軸近遠中傾斜度一般是：中 A. 左右上頜1 >左右上頜 2 >左右上頜3； B. 左右上頜1>左右上頜3 >左右上頜 2； C.

10、 左右上頜 2>左右上頜3>左右上頜1； D. 左右上頜 2 >左右上頜1 >左右上頜3； E. 左右上頜3>左右上頜 2 >左右上頜1；B 32. 全口義齒下頜基托后緣應在：中 A. 磨牙后墊的前緣； B. 磨牙后墊的中1/2； C. 頰咽肌縫處； D. 磨牙后墊后緣； E. 翼下頜韌帶中點。A 33. 上頜第一磨牙近中舌尖與he平面的關(guān)系是：易 A. 在平面上； B. 離開平面0.5mm； C. 離開平面1mm； D. 離開平面1.5mm； E. 離開平面2mm。B 34. 全口義齒固位原理：唾液本身有：易 A. 大氣壓力； B. 粘著力； C. 附著力

11、； D. 摩擦力； E. 內(nèi)阻力。E 35. 牙列缺失患者由于牙槽骨進行性吸收，臨床常見：易 A. 頜間距離不斷增大； B. 面下1/3高度逐漸變短； C. 唇、頰、舌溝變淺； D. 皺紋逐漸增多； E. 以上都是。C 36. 全口義齒制作中，使用he托最主要目的是：易 A. 排牙； B. 恢復垂直距離； C. 頜位記錄； D. 確定平面； E. 恢復面部外形。C 37. 頜間距離是指：中 A. 正中位時，鼻底到頦底的距離； B. 息止位時，鼻底到頦底的距離； C. 正中位時，上下牙槽嵴頂之間的距離； D. 息止位時，上下牙槽嵴頂之間的距離； E. 以上都不是。C 38. 面弓主要用于測定：中

12、 A. 下頜髁狀突側(cè)向旋轉(zhuǎn)度； B. 下頜髁狀突滑動度； C. 上頜骨與兩側(cè)髁狀突的位置關(guān)系； D. 曲線曲度； E. 正中關(guān)系位置。C 39. 全口義齒印模托盤要求：中 A. 應與牙槽骨密合； B. 應達粘膜移行皺襞； C. 寬于無牙頜23mm； D. 寬于無牙頜56mm； E. 邊緣越短越好。D 40. 定位平面斜度是指定位平面與：難 A. 平面相交所成之角； B. 水平面相交所成之角； C. 牙尖底相交所成之角； D. 眶耳平面相交所成之角； E. 與鼻翼耳屏連線所成之角。E 41. 下頜舌骨區(qū)屬于：中 A. 主承托區(qū)； B. 副承托區(qū)； C. 邊緣封閉區(qū)； D. 后堤區(qū)； E. 緩沖區(qū)

13、。E 42. 上頜全口義齒印模，后緣應：中 A. 在腭小凹前面； B. 蓋過腭小凹； C. 與前顫抖線一致； D. 與后顫抖線一致； E. 在硬軟腭交界處。C 43. 全口義齒的he平面要求以下哪項是錯誤的：難 A. 與瞳孔連線平行； B. 與鼻翼耳屏連線平行； C. 與下頜二側(cè)牙槽嵴平行； D. 平分頜間距離； E. 在上唇下緣2mm。D 44. 髁導斜度小于切導斜度，旋轉(zhuǎn)中心在架的：難 A. 正上方； B. 前上方； C. 后上方； D. 后下方； E. 前下方。D 45. 下頜人工牙尖牙排列的位置，下面哪一項為哪一項錯誤的：中 A. 牙頸部向唇側(cè)傾斜； B. 牙頸部向遠中傾斜； C. 牙

14、尖略向舌側(cè)傾斜； D. 牙尖在平面上； E. 遠中唇面向舌側(cè)旋轉(zhuǎn)。D 46. 全口義齒初戴時發(fā)現(xiàn)下牙弓明顯后退其原因可能是：中 A. 人工牙排列不當； B. 病員下頜骨過于后退； C. 架前后移動； D. 位前伸； E. 垂直距離過低。C 47. 面弓主要用于測定：中 A. 下頜髁狀突側(cè)向旋轉(zhuǎn)度； B. 下頜髁狀突側(cè)向滑動度； C. 上頜骨與兩側(cè)髁狀突的位置關(guān)系； D. 曲線曲度； E. 正中關(guān)系位置。D 48. 調(diào)節(jié)全口義齒前伸he平衡如果髁道斜度增加，下面哪項是錯誤的：難 A. 增加定位平面斜度； B. 增加矢狀曲線曲度； C. 增加牙尖工作斜面斜度； D. 增加切道斜度； E. 增加牙尖

15、斜度。C 49. 全口義齒印模托盤的選擇要求：中 A. 應與牙槽骨緊密帖合； B. 應達粘膜移行皺襞； C. 寬于無牙23mm； D. 寬于無牙頜56mm； E. 邊緣越短越好。C 50. 全口義齒的基托范圍哪一項為哪一項錯誤的：中 A. 唇頰側(cè)止于粘膜反折線； B. 舌側(cè)讓開舌系帶； C. 上頜后緣止于腭小凹前2mm； D. 下頜后緣止于磨牙后墊； E. 頰側(cè)讓開頰系帶。B 51. 主承托區(qū)哪項是錯誤的：中 A. 上下頜牙槽嵴頂區(qū)； B. 有疏松的粘膜下組織； C. 能承受較大咀嚼壓力； D. 外表有高度角化的復層鱗狀上皮； E. 人工牙應排列在此區(qū)基托上。B 52. 以下哪項是緩沖區(qū)：易 A.