AMS-QQ-C-320B-V2鍍鉻

1、航空航天材料規(guī)范SAE AMS -QQ-C-320B發(fā)布時間 2000年7月取消時間 2007年7月撤銷更新 2008年1月被AMS 2460代替 鉻鍍層（電沉積）說明AMS -QQ-C-320B已被取消并由AMS2460代替，但仍適合以下零部件。取消說明該規(guī)范于2007年7月19日由航空航天材料分會宣布取消被AMS2460取代。除以下情況外，以AMS2460為準。QQ-C-320或AMS- QQ-C-320規(guī)定的零部件，其設(shè)備、操作方法及試驗方法遵照AMS-QQ-C-320B（不變，于2000年7月頒布），購貨商也參照該標準。該標準規(guī)范仍在掛在航空航天材料規(guī)范下，但已注明被AMS 2460取

2、代。已被取消的規(guī)范可向SAE購買。相關(guān)說明該規(guī)范直接源自美軍標QQ-C-320B的第4版，便于SAE出版僅對格式進行了修改。該規(guī)范的首次頒布意在取代QQ-C-320B的第4版，首版的內(nèi)容序號未作變更。為了快速采用政府的規(guī)范標準，在SAE技術(shù)標準委員會規(guī)章制度的要求下，SAE采用了最初的軍用標準。TSB規(guī)章提供：（a）在SAE委員會上未經(jīng)一致通過的、未修改的政府規(guī)范標準的部分出版物；（b）現(xiàn)有政府的規(guī)范或標準格式的使用權(quán)。1. 適用范圍與分類1.1 適用范圍該規(guī)范涵蓋了電沉積鍍鉻層的所有要求。1.2 分類1.2.1 類別：電沉積的鍍鉻層應為以下幾類情況（見6.2）試驗類型1：防腐鍍層（見3.3.

3、1）試驗類型2：工程用鍍層（見3.3.2）1.2.2 表面光潔度：類型1的鍍層應為以下兩種處理類型，（見6.2）試驗類型1：鏡面拋光試驗類型2：緞面加工 2. 引用文件以下文件中的條款通過本標準的引用而成為本標準的條款。2.1美國政府出版物可購于國防部標準化資料管理中心（DODSSP），4D大樓，訂閱服務中心，羅賓斯大道，700號，費城，PA 19111-5094。QQ-N-290 鍍鎳（電沉積）MIL-S-5000 鉻鎳鉬合金鋼，（E4340），棒材和再鑄原料MIL-S-5002 武器系統(tǒng)的金屬表面的熱處理和無機涂層MIL-S-13165 含鐵零部件的噴丸硬化MIL-R-81841 金屬零部

4、件旋轉(zhuǎn)擋板的表面硬化MIL-STD-105 檢測屬性的取樣程序與附錄MIL-STD-105 緊固件試驗方法2.2 ASTM出版物購買：美國賓夕法尼亞洲，郵編19428-2959，西康雪哈根100信箱，巴爾海港大道100號，美國材料與試驗協(xié)會。ASTM B-487 金屬和氧化物敷層厚度的橫截面顯微鏡檢查測量方法ASTM B-499 涂層厚度的磁測法：磁性金屬的非磁性涂層ASTM B-504 金屬涂層厚度的電量測定方法ASTM B-556 薄鉻涂層的點測法，ASTM B-578 電鍍層的微硬度測量法ASTM E-8 金屬材料的應力試驗方法3. 要求3.1 材料用以電鍍的材料須滿足本規(guī)范的要求。3.

5、2 一般要求3.2.1 高強度鋼的零部件：除有特定說明（見6.2），極限抗拉強度大于1655Mpa的鋼部件沒有獲得采購人員的同意不得鍍層。3.2.2 消除應力：經(jīng)過機加工、研磨、冷成型或冷拉直而成的、極限抗拉強度為1034Mpa及以上的鋼部件，在表面清理與鍍層前均應在191±14溫度下進行3小時以上時間的烤制，以釋放破壞殘余應力。如需噴射（見3.3.2.3和3.3.2.5），需在噴丸硬化或旋轉(zhuǎn)敲打強化釋放熱應力。3.2.3 清洗：具體說明除外（見6.2），所有鋼部件均應參照MIL-S-5002進行清洗處理。其它心材清洗處理時不得損壞基材也不能與沉淀物粘連。3.2.4 鍍層應用說明：具

6、體說明除外（見6.2），鍍層應在所有基材熱處理和機械操作（如機加工、釬焊、焊接、成型、打孔等）完成之后進行。3.2.5 鍍層：具體說明除外（見6.2），類型1的鍍層應快速地用QQ-N-290規(guī)定的鋼鐵、鋅及鋅基合金或銅及銅基合金。具體說明除外（見6.2），類型2的鍍層應直接沉積金屬基的鍍層，而無需用其他金屬做預鍍層。任何基礎(chǔ)鍍層無需換成具體的鉻鍍層。3.2.6 脆化處理：所有鍍層的鋼件，極限拉伸強度為160ksi及以上的均應在191±14的高溫下進行少于4個小時的燒制，相關(guān)烤制時間如下：最少燒制時間拉伸強度（ksi） 時間（191±14）160-180 3180-220 8

7、大于221 123.2.7 覆蓋度：具體說明除外（見6.2），鍍層應全部覆蓋上（包括螺紋的根部、拐角和凹槽）。3.2.8 邊界：類型2鍍層的邊界僅包括表面的一部分，消除玻璃粉、結(jié)節(jié)、鋸齒邊緣和其它不規(guī)則形狀。3.2.9 表面精加工：類型1的鍍層的光潔度參照1.2.3和6.2。類型1中的應用1應全部鏡面拋光，磨光，表面整體一致。類型1中的應用2應全部緞面加工，磨光，表面整體一致。具體說明除外（見6.2），鏡面加工或暗拋光也適用于應用2中的鍍層精加工。3.3 鍍層處理3.3.1 類型1的鍍層處理：類型1零部件的沉積的鍍層尺寸見3.4.1.1。6.2規(guī)定零部件的處理應參照6.5所述的電鍍鉻的流程說明

8、。3.3.2 類型2的鍍層處理：類型1零部件的沉積的鍍層尺寸見3.4.2.1。除具體說明外（見6.2），鋼部件的鍍層處理應參照下述流程：3.3.2.1 錘擊：類型2的設(shè)計為動態(tài)載荷下無限壽命的所有零部件，在鍍層前均應參照MIL-S-13165或MIL-R-81841進行錘擊。在實際拉伸中特別說明除外，需要鍍層的所有表面上或凹槽、倒角或其他應力集中的截面發(fā)生突變的地方均需錘擊處理。合同、訂購或其它圖紙中有具體說明除外，靜載下或動載下的有限壽命的鍍層零件無需鍍層前的錘擊處理。3.4 詳細要求3.4.1 類型1：3.4.1.1 厚度：具體說明除外（見6.2），類型1鉻鍍層所有可見表面的最小厚度應為0

9、.25微米。具體說明除外（見6.2），孔、深凹槽和其它開口，不與外界接觸的角基和內(nèi)線的物品，無法防止沉積物的地方不應根據(jù)參考標準鍍層，但應給出實際鍍層厚度的證據(jù)。總之，應全部鍍層。3.4.1.2鍍層：類型1的鍍層一般采用鎳或銅的板底鍍層系統(tǒng)，這些要求見3.2.5，鍍層厚度參照QQ-N-290。鍍層厚度不用于具體的鉻鍍層厚度的確定。3.4.1.3 附著強度：試驗參考4.5.2，鍍層和其它底座的附著強度應滿足以下要求：對其4倍的直徑進行檢驗，鉻鍍層和其它任何電沉積板底鍍層與金屬基應能較好地分開。鍍層與金屬基間的接觸面為鍍層前金屬基的表面。鍍層或金屬基上的裂紋只要不造成鍍層的脫落、脫皮和起泡就可接受

10、。3.4.2 類型2：3.4.2.1 厚度：類型2鍍層的最值及范圍應在相關(guān)文檔中說明，（見6.2）。如果沒有說明厚度，精加工的零部件的最小厚度應為0.002英寸或51m。類型2鍍層的厚度要求應在所有金屬精加工和鍍層后處理、研磨等操作完成后確定。3.4.2.2 附著強度：試驗參考4.5.2，鍍層和其它底座的附著強度應滿足以下要求：對其4倍的直徑進行檢驗，鉻鍍層和其它任何電沉積板底鍍層與金屬基應能較好地分開。鍍層與金屬基間的接觸面為鍍層前金屬基的表面。鍍層或金屬基上的裂紋只要不造成鍍層的脫落、脫皮和起泡就可接受。3.4.2.3 硬度：參照4.5.3進行顯微硬度測驗，類型2的鍍層的橫截面最小硬度應達

11、到600VHN，或同等的具有半光制或無光光澤表面的鍍層（見3.2.9）。如果鍍層表面光潔度達到鏡面光潔度或礫石光潔度的話，其最小硬度應為850VHN，或同等硬度。3.4.2.4 孔隙率：類型2的鍍層應盡可能無孔，以保護金屬基免受因凹陷、氣孔或裂紋引起的腐蝕。參照4.5.4進行實驗，試樣的斑點和凹陷的直徑不得大于0.79mm，在5個或更多的試樣上檢測，總面積為967.8cm2中，斑點和凹陷的總數(shù)不得超過15。試樣的斑點和凹陷的直徑不得大于0.79mm，在1個或更多的試樣上檢測，總面積為193.6cm2中，斑點和凹陷的總數(shù)不得超過5。經(jīng)過處理后標記過的區(qū)域（1.59mm）除外。3.5 工藝：3.5

12、.1 金屬基材：金屬基材應避免會造成鍍層表面的損傷的缺陷。當需要產(chǎn)生沉積時，金屬基材應按照該規(guī)范清理和鍍層流程進行處理。3.5.2 外觀：外觀均勻、顏色一致，鍍層主要表面上不應有明顯的缺陷，如鼓泡、孔隙、粗糙、裂紋及其它缺陷。鍍層不能有雜物或其它因設(shè)備操作不當造成的堆積物，如多余的粉末或變色的鍍層，堆積物及其它缺陷。接觸點直徑應最小，其位置在零部件功能區(qū)的最小范圍內(nèi)。表層因沖洗留下的污點或為減輕脆化進行燒制遺而留下的輕微色斑（見3.2.6）是允許的。所有的工藝應參照制作高質(zhì)量鍍層的實踐與經(jīng)驗。4. 質(zhì)量保證規(guī)范4.1 檢測責任 除特別說明外，供貨商對所有檢測要求負責。除特別說明外，供貨商可以使

13、用已有的設(shè)備對其性能進行檢測，政府不同意除外。對于有必要確保雙方均需遵守的檢測要求，政府有檢測優(yōu)先權(quán)。4.2 檢測分類檢測要求分類如下：a. 生產(chǎn)控制檢測（見4.3）；b. 質(zhì)量合格檢測（見4.4）。4.3 生產(chǎn)控制檢測4.3.1 控制記錄：如合同或訂單有規(guī)定（見6.2），供應商應留存每步工藝處理的記錄，包括額外添加的化學劑或處理方法，所有化學分析結(jié)果和已鍍層零部件的質(zhì)量。應購方要求，這些記錄以及實驗結(jié)果報告均可購買，在簽訂購買合同后至少保持1年以上。4.3.2 生產(chǎn)控制：供貨商提供的設(shè)備、程序及操作需保證能產(chǎn)品本規(guī)范規(guī)定的高質(zhì)量的電沉積鍍層。如購買中有規(guī)定（見6.2），供應商在生產(chǎn)前應展示其

14、可以避免氫脆造成的危害（見6.2.2），并參照4.3.2.1進行實驗以滿足MIL-S-5002對生產(chǎn)過程質(zhì)量的要求。4.3.2.1 試制性生產(chǎn)控制：對于試制性生產(chǎn)控制，應參照4.4.4.3需準備4個圓形凹槽的鋼試樣采用特定的鋼合金為16個試樣分別進行加熱處理。試樣在熱處理后的拉伸強度最大，所有的試樣均應進行同樣的預處理和熱處理，并參照4.5.5進行實驗。如果試樣完好無損，我們認為生產(chǎn)過程是令人滿意的。實驗結(jié)果和生產(chǎn)控制信息需向采購部申請，獲批前不得鍍層。4.3.3 試驗頻率：MIL-S-5002要求對生產(chǎn)過程進行連續(xù)控制，同時，為避免生產(chǎn)過程中的有害的氫脆，應參照表1對試樣的性能進行每月一次試

15、驗，如采購部有要求可以提高其試驗頻率。用以確定電沉積鍍層的一致性用到的試驗結(jié)果也可用同等方法獲得。4.3.4 生產(chǎn)控制試驗：生產(chǎn)控制的試樣應參照4.4.4,4.4.4.1和4.4.4.2，其厚度、粘附強度、硬度及孔隙率試驗詳見表1。用以控制脆化的試樣應是具有4個圓形凹槽的4340合金鋼，參考MIL-S-5000標通過一次或多次熱處理，使其強度最大，準備過程與4.4.4.3一致。4.4 質(zhì)量合格檢查：4.4.1 批次：批次應包括由同樣金屬基材組成的鍍件、類別、沉積形式以及同等條件下精加、鍍層和熱處理工方式。4.4.2 外觀檢查及非破壞性試驗取樣：該取樣應在采購部的指導下操作（見6.2），參照MI

16、L-STD-105標準或表。涂層零部件的抽取是參照MIL-STD-105標準，從可接受質(zhì)量級（1.5%的缺陷率）的試樣中隨機抽取，如表所示。參照4.4.2.1的流程進行外觀檢查并根據(jù)4.4.2.2進行鍍層（非破壞性試驗）決定是否接受該批次。表1 生產(chǎn)控制試驗與試樣試驗涂件類要求章節(jié)試樣準備參考章節(jié) 1 /試驗參考章節(jié)厚度硬度1/生產(chǎn)控制樣本采用標準的合金鋼。由供應商選擇；但像AISI或SAE 4340號規(guī)定的合金鋼應參照MIL-S-5000。表2 外觀檢查及非破壞性試驗取樣批次檢測條目樣本中條目（隨機選取）合格數(shù)<=157 1/01/如果所檢批次的條目少于7，樣本的條目應等于檢測批次的條

17、目。4.4.2.1 外觀檢查：參照4.4.2提取的樣品應在鍍層后根據(jù)3.2.7,3.2.8,3.2.9和3.5.2的要求進行檢驗。如果不一致條目據(jù)多數(shù)，拒絕該批次試樣。4.4.2.2 鍍層厚度（非破壞性試驗）：參照4.4.2選取的試樣需檢查并跟據(jù)4.5.1的要求在不同位置按照3.4.1.1和3.4.1.2或3.4.2.1的每項條款進行鍍層厚度測量。對緊固件五金的測量，其位置應參照MIL-STD-1312，試驗12。如有一個測量方法不滿足厚度最小的要求，該零件或條款就認為不一致。任何試樣的缺陷數(shù)超過可接受值，拒絕該批次的抽樣。除非有額外說明，已被分開的試樣（見4.4.4.1）不能作為厚度測量方法

18、的樣本。4.4.3 破壞性試驗取樣：每批次需抽出5個鍍層或鍍件體進行破壞性試驗，或根據(jù)4.4.4，4.4.4.1，4.4.4.2和4.4.4.3分別選取試樣進行試驗。如果一批次的鍍件數(shù)量不多于5個，試樣中鍍件的數(shù)目需由采購部決定，見6.2。4.4.3.1 鍍層厚度（破壞性試驗）：如果鍍層非破壞性試驗的取樣和試驗非供應商選擇，為與要求保持一致，采用4.5.1的試驗方法按照3.4.1.1和3.4.1.2或3.4.2.1選取的不同位置進行鍍層厚度測量。對緊固件五金的測量，其試驗位置應參照MIL-STD-1312，試驗12。如有一個測量方法不滿足厚度最小的要求，該零件或條款就認為不一致。任何試樣的缺陷

19、數(shù)超過可接受值，拒絕該批次的抽樣。除非有額外說明，已被分開的試樣（見4.4.4.1）不能作為厚度測量方法的樣本。4.4.3.2 附著強度：參考4.4.3.1對試樣進行破壞性厚度試驗，如果試樣本身的規(guī)模和形式合適，也可作為附著強度試驗的樣本，其要求與3.4.1.3或3.4.2.1一致。試樣的失效構(gòu)成該批次的失效。4.4.3.3 硬度（破壞性試驗）：如合同或訂單有說明（見6.2），根據(jù)相關(guān)要求確定其硬度。如果用以厚度破壞性試驗的試樣或鍍件本身的規(guī)模和形式合適，也可作為試驗的樣本確定是否滿足3.4.2.3的要求。試樣的失效構(gòu)成該批次的失效。4.4.3.4 孔隙率（破壞性試驗）：除非有特別規(guī)定（見6.

20、2），孔隙率的一致性要求需要確定。根據(jù)4.4.4和4.4.4.2選取的替代已被處理過的鍍層本身的5個獨立樣本需參照3.4.2.4進行孔隙率試驗。只要有不合格的即拒絕該批次試樣。4.4.3.5氫脆處理（破壞性試驗）：除非有特別規(guī)定（見6.2），根據(jù)3.2.6要求，最大抗拉強度為1241MPa或以上的鋼件和表面硬化過的鋼件，應按需方貴的工藝和類型消除氫脆。參照4.4.4和4.4.4.3隨機從每批次中抽出5個鍍件體或試樣表征該批次。按4.5.5進行實驗，由斷裂引起的裂紋或失效均可做拒絕的理由。試樣的失效構(gòu)成該批次的失效。4.4.4 質(zhì)量合格試樣的制備：如果鍍層體的形式、形狀、大小被限制不能用于質(zhì)量檢

21、驗，或不適合做試驗時，或需要小批量的破壞性試驗時，試驗只能采用單獨的試樣-鍍層體并行進行實驗。單獨的試樣應為具有同等金屬基的鍍層體。“同等”的金屬基包括化學組成、等級、條件以及電鍍前的精加工處理等。如，冷軋鋼的表面不能代替熱軋鋼的表面。單獨試樣不適應鍛造或鑄造，熱軋試樣可替代鍛造鋼和鑄造鋼試樣。若為鐵合金鍍件，其獨立試樣也可從廢棄的鑄件中抽取。獨立試樣在清理或鍍層前從該批次中有規(guī)律地抽樣獲得。影響試樣鍍層的情況有：電鍍間距、電鍍介質(zhì)、爐浴攪動、溫度等，至于其它電鍍體更應注意這些因素對其主平面的鍍層的影響。除非有特定要求，獨立的試樣不能作為厚度測量試驗的樣本。4.4.4.1厚度、附著強度和硬度檢

22、測用試樣：如需檢測單獨試樣的厚度、附著強度和硬度，試樣應為條形，且尺寸應為25mm寬、102mm長、1mm厚。4.4.4.2 孔隙率檢測用試樣：如需檢測單獨試樣的孔隙率，試樣應為板，且長大于等于254mm、76mm寬、近1mm厚。4.4.4.3 氫脆試驗用的試樣：該類試樣是具有圓形凹槽的，且受力方向與短端面的晶粒流動方向垂直。圓形試樣的外形參照ASTM E-8的圖8。試樣在標距長度中心線的位置上具有60°的V槽。V槽根部的橫截面面積為試樣簡化后的橫截面的一半。V槽底部的曲率半徑為0.254±0.0127mm（見6.2.2）。4.5 檢驗4.5.1 厚度：對于鍍層厚度的非破壞

23、性測量，具體流程參照ASTM B-499（磁性測試法）。對于鍍層厚度的破壞性測量，具體流程參照ASTM B-487（顯微鏡法），或ASTM B-504（庫倫法）。此外，鍍層緊固件五金的厚度測試法可參照MIL-STD-1312，測試法12。類型1中鍍層的厚度測量可參照ASTM B-556（點測法），但只適用于破壞性檢測。4.5.2 附著粘度：可通過用勺舀鍍層表面或用鋒利刀刃、刀片或剃刀從鍍層切到金屬基材進行附著粘度檢測。也可將鍍層體或試樣用臺鉗加緊使其前后彎曲直至破壞的方法檢測其附著粘度，如果破裂鍍層的邊緣能剝落或能看到鍍層和基材間破裂的點（4倍放大鏡），就認為附著粘度不滿足要求。類型2的鍍層應

24、具有更好的附著粘度以承受因確定最終的尺寸而進行的研磨操作。 4.5.3 硬度：類型2的鍍層的硬度應參照ASTM B-578的微硬度橫切法檢測，除外還需維氏硬度計壓頭和100克的載荷。鍍層基材的硬度為由三次測量硬度最小值，試樣在外表面向里大于3.175mm的面積內(nèi)進行，或在橫截面的中心進行測量（硬度往往最小）。硬度值的讀數(shù)是從基材外表面向里0.025mm的地方開始，每隔0.013mm等距測量，直至滿足預設(shè)硬度值為止。硬度讀數(shù)可根據(jù)距離基材外表面的距離畫出曲線。曲線急劇下降點處的值可作為鉻電鍍層的硬度極值。4.5.4 孔隙率：用孔隙度試劑試驗確定孔隙率之前，需處理掉試樣表面的油或油脂。去污溶劑的選

25、擇應參照MIL-S-5002。鐵銹測試法中，浸蘸后的濾紙需加熱至82-94，并放置在試樣或基體平坦的表面進行實驗。該法組成如下：鐵氰化鉀（K3Fe(CN)6） 1gm氯化鈉 10gms瓊脂 10gms水（蒸餾或去離子的） 1升十分鐘之后，濾紙可拿去。鍍層表面和濾紙均需檢測，金屬基在氣孔或其它缺陷處因鍍層而腐蝕，嚴重時會產(chǎn)生深藍色斑點?？捎迷噭┓ɡ锏能涀姿⒆鲞M一步確認。濾紙烘干后可作為長久保留記錄。4.5.5 脆化處理：4.4.3.5規(guī)定的鍍件試樣應參照3.2.6的要求進行確定，像安裝在孔或桿上的彈簧銷、密封圈等應根據(jù)相關(guān)鍍件的規(guī)范、公差及最大抗拉強度進行組裝。試樣的抗拉強度應為設(shè)計最大屈服載荷

26、的1.15倍。需要夾具的鍍件，極限載荷應滿足上述要求，當最大設(shè)計屈服載荷未知時，應參照4.4.4.3對單獨的試樣進行試驗。有凹槽的試樣持續(xù)抗拉強度等于該材料的0.75倍的極限抗拉強度。鍍件、零部件及試樣均應進行200小時以上加載試驗，觀察破壞情況。5. 備貨5.1包裝供貨商提供的電沉積鍍鉻件或基材的儲存、集裝與裝箱應保證在運輸和裝卸中不會造成磨損。6. 說明6.1 預期用途：6.1.1 類型1的鍍層：類型1的鍍層用于裝飾性修整，一般用鎳、銅鎳合金鍍在像鋼鐵、銅及銅合金，鋅及鋅基壓鑄件上鍍層，保護金屬基免受腐蝕和磨損。底層鎳為外層的鉻提供無孔的連續(xù)的基材。通常，鎳層越厚，抗腐蝕性越好。根據(jù)使用情

27、況和金屬基，鎳銅基的鉻鍍層的厚度為0.0001到0.002（2.5-51m）英寸。6.1.1.1 0.0005英寸（13m）或更厚的鉻鍍層會使黃銅基材上的鎳鍍層破裂，鉻的最小厚度應在13m以下取值。6.1.2類型2的鍍層：類型2的鍍層，亦稱工業(yè)用鉻或鍍硬鉻，常用以耐磨損和抗腐蝕。工程用鉻通常直接鍍到金屬基上并研磨、精加工直到符合尺寸要求，其光潔度不如類型1。在亞鐵零部件上鍍25-51m厚（最小厚度根據(jù)使用情況而定）的電沉積鎳層可獲得更強的抗腐蝕性。嚴重沉積的類型2的鍍層可用于磨損的或更小尺寸的電鍍，并防止化學腐蝕。鉻電鍍層最后的研磨會增加沉積物的破裂程度。同樣的厚度，選用未研磨過的沉積物可以獲

28、得更大的抗腐蝕性能。6.2 訂單數(shù)據(jù)購貨商可任選下述文件，采購文件中需包含以下信息。a. 本規(guī)范的題目，數(shù)量和日期；b. 鍍層類型（見1.2.1，3.3.1，3.3.2，3.3.2.1，3.3.2.2，3.3.2.3，3.3.2.4，3.3.2.5）；c. 沉積物與精加工（見1.2.2，3.2.9及3.3.1）；d. 如需鍍層，其它規(guī)定除外（見3.2.1， 3.2.4，3.3.1，3.3.2， 3.3.2.1， 3.3.2.2， 3.3.2.3，3.3.2.4和3.3.2.5）；e. 鋼鐵的去污處理，其它規(guī)定除外（見3.2.3）；f. 底浸作用，其它規(guī)定和要求（見3.2.5）；g. 涂層，其它

29、規(guī)定除外（見3.2.7）；h. 表面光潔度，其它規(guī)定和要求（見3.2.9）；i. 鍍層厚度，見（3.3.1，3.3.2，3.3.2.1，3.4.1.1，3.4.1.2，及3.4.2.1）；j. 質(zhì)量控制需求（見4.3.1）；k. 試驗性生產(chǎn)控制檢測（見4.3.2）；l. 取樣方案（見4.4.2）；m. 破壞性試驗的樣本數(shù)（見4.4.3）；n. 硬度，孔隙率和氫脆處理，質(zhì)量合格檢查（見4.4.3.3，4.4.3.4和4.4.3.5）。6.2.1 金屬基零部件的生產(chǎn)商提供以下相關(guān)鍍層的數(shù)據(jù)a. 鋼部件的硬度（見3.2.1，3.2.2，3.2.6和3.3.2）；b. 熱處理-應力釋放（見3.3.2）

30、；c. 消除脆化試驗所需拉伸載荷（見3.2.6和4.5.5）。6.2.2金屬基零部件的生產(chǎn)商提供具有凹槽的相關(guān)鍍件試樣（見4.4.4.3），參照3.2.6對鍍層的質(zhì)量進行控制（見4.3.2.1和4.3.4），批次可否接受（見4.4.3和4.4.3.5）。6.3 應力釋放冷加工調(diào)制剛或冷矯直鋼部件在去污和鍍層過程中可能發(fā)生破裂，所以這些剛部件在去污和鍍層前應進行熱處理，釋放應力（見3.2.2）。6.4烤制溫度：對于高強度的材料（洛氏硬度40RC以上），為保證徹底地消除氫脆情況，其焙烤時間需延至23個小時（見3.2.2）。6.5 類型1的加工處理：類型1的鉻鍍層通過下述幾種沉積形式進行處理：R- 通常MP- 多微孔的MC- 微裂紋的一般情況下，所有形式的鉻沉積物的公稱涂層厚度為0.00001英寸（0.25m）。對應上述R的厚度不能超過0.00002英寸（0.51m），否則容易破裂。MP類型的沉積應每平方英寸至少包含64500氣孔（100個氣孔/mm2），肉眼看不到。MC類型的沉積物任意方向上的主要平面上包含750個裂紋/英寸（80個裂紋/mm）。6.5.1 相關(guān)性：鉻鍍層形式、鎳沉積物度和形式間的相關(guān)性詳見QQ-N-290，