真空磁控鍍膜設(shè)備構(gòu)造講義培訓(xùn)

1、真空磁控濺射鍍膜設(shè)備構(gòu)造講義 專注于真空鍍膜技術(shù)郵箱：鍍膜設(shè)備系統(tǒng)簡(jiǎn)述TFT系統(tǒng)需要實(shí)現(xiàn)玻璃在真空環(huán)境下自動(dòng)化的連續(xù)鍍膜，生產(chǎn)線布置為“長(zhǎng)口”字型矩形結(jié)構(gòu)，共11個(gè)腔體，24臺(tái)傳動(dòng)電機(jī)。鍍膜生產(chǎn)線主要?jiǎng)澐譃?個(gè)區(qū)，位于生產(chǎn)線左右側(cè)的上片區(qū)和下片區(qū)，位于上下片平臺(tái)間的工藝區(qū)和回傳區(qū)。TFT控制系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)對(duì)生產(chǎn)過(guò)程中的真空、傳動(dòng)、加熱、冷卻水、工藝氣體、濺射電源在鍍膜過(guò)程中的連續(xù)控制。真空磁控濺射鍍膜設(shè)備系統(tǒng)的組成真空磁控濺射鍍膜設(shè)備系統(tǒng)的組成真空磁控磁控鍍膜設(shè)備真空系統(tǒng)加熱系統(tǒng)工藝布?xì)庀到y(tǒng)傳動(dòng)系統(tǒng)濺射鍍膜系統(tǒng)冷卻系統(tǒng)真空系統(tǒng)真空系統(tǒng)設(shè)備集中于真空室區(qū)域，由抽氣設(shè)備（機(jī)械泵、羅茨泵、分子泵）、檢測(cè)設(shè)

2、備（電阻規(guī)、電離規(guī)、薄膜規(guī)）、安全閥（腔體門閥、分子泵擋板閥、旋片泵羅茨泵間自吸閥、管道閥和破空閥）；通過(guò)旋片泵 -羅茨泵-分子泵接力抽氣，將腔室內(nèi)壓力由大氣變?yōu)檎婵?，并在生產(chǎn)過(guò)程中保持適合生產(chǎn)的真空環(huán)境。真空系統(tǒng)腔體排氣管道真空泵真空計(jì)破空閥閥門硬連接軟連接旋片泵羅茨泵分子泵電阻規(guī)電離規(guī)薄膜規(guī)分子泵高閥粗抽閥門閥 旋式真空泵的工作原理 如下圖為旋片泵的工作原理示意圖，旋片泵主要由定子、轉(zhuǎn)子、旋片、定蓋、彈簧等零件組成。其結(jié)構(gòu)是利用裝在定子腔內(nèi)偏心轉(zhuǎn)子（轉(zhuǎn)子的外圓與定子的內(nèi)表面相切兩者之間的間隙非常?。┖娃D(zhuǎn)子槽內(nèi)滑動(dòng)的借助彈簧張力和離心力緊貼在定子內(nèi)壁的兩塊旋片，當(dāng)轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)時(shí)，始終沿定子的內(nèi)壁

3、滑動(dòng)。1-泵體；2-旋片；3-轉(zhuǎn)子；4-彈簧；5-排氣閥圖1 旋片泵工作原理圖兩個(gè)旋片把轉(zhuǎn)子、定子內(nèi)腔和定蓋所圍成的月牙型空間分隔成A、B、C三個(gè)部分，當(dāng)轉(zhuǎn)子按圖示方向旋轉(zhuǎn)時(shí)，與吸氣口相通的空間A的容積不斷地增大，A空間的壓強(qiáng)不斷的降低，當(dāng)A空間內(nèi)的壓強(qiáng)低于被抽容器內(nèi)的壓強(qiáng)，根據(jù)氣體壓強(qiáng)平衡的原理，被抽的氣體不斷地被抽進(jìn)吸氣腔A，此時(shí)正處于吸氣過(guò)程。B腔的空間的容積正逐漸減小，壓力不斷地增大，此時(shí)正處于壓縮過(guò)程。而與排氣口相通的空間C的容積進(jìn)一步地減小，C空間的壓強(qiáng)進(jìn)一步的升高，當(dāng)氣體的壓強(qiáng)大于排氣壓強(qiáng)時(shí)，被壓縮的氣體推開排氣閥，被抽的氣體不斷地穿過(guò)油箱內(nèi)的油層而排至大氣中，在泵的連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)過(guò)程

4、中，不斷地進(jìn)行著吸氣、壓縮、排氣過(guò)程，從而達(dá)到連續(xù)抽氣的目的。 排氣閥浸在油里以防止大氣流入泵中，油通過(guò)泵體上的間隙、油孔及排氣閥進(jìn)入泵腔，使泵腔內(nèi)所有運(yùn)動(dòng)的表面被油覆蓋，形成了吸氣腔與排氣腔的密封，同時(shí)油還充滿了一切有害空間，以消除它們對(duì)極限真空的影響。1-高級(jí)排氣閥；2-通道；3-低級(jí)排氣閥圖2 雙級(jí)旋片式真空泵工作原理圖 雙級(jí)旋片式真空泵由兩個(gè)工作室組成，兩室前后串聯(lián)，同向等速旋轉(zhuǎn)，室是低真空級(jí)，室是高真空級(jí)，被抽氣體由進(jìn)氣口進(jìn)入室，當(dāng)進(jìn)入的氣體壓力較高時(shí)，氣體經(jīng)室壓縮，壓強(qiáng)急速增大，被壓縮的氣體不僅從高級(jí)排氣閥排出，而且經(jīng)過(guò)中壁通道，進(jìn)入室，在室被壓縮，從低級(jí)排氣閥排出；當(dāng)進(jìn)入室的氣體

5、壓力較低時(shí)，雖經(jīng)室的壓縮，也推不開高級(jí)排氣閥排出，氣體全部經(jīng)中壁通道進(jìn)入室，經(jīng)室的繼續(xù)壓縮，由低級(jí)排氣閥排出，因此雙級(jí)旋片式真空泵比單級(jí)旋片式真空泵的極限真空高。羅茨泵的工作原理及其結(jié)構(gòu)特點(diǎn)羅茨泵的工作原理及其結(jié)構(gòu)特點(diǎn)羅茨泵具有以下特點(diǎn)：羅茨泵具有以下特點(diǎn)：1前端端蓋；2油標(biāo)；3壓力傳感器；4注油塞；5放油塞；6齒輪側(cè)軸承端蓋；7泵體；8入口法蘭9出口法蘭；10轉(zhuǎn)子；11馬達(dá)側(cè)軸承蓋；12中間法蘭；13油封處注油塞；14油封處放油塞；15籠形支架；16電動(dòng)機(jī)；17泵底座分子泵結(jié)構(gòu)分子泵結(jié)構(gòu) 按制造結(jié)構(gòu)分類按制造結(jié)構(gòu)分類 油潤(rùn)滑油潤(rùn)滑 脂潤(rùn)滑脂潤(rùn)滑 磁懸浮磁懸浮 連續(xù)抽除氣體節(jié)省能源可獲得清潔的

6、真空對(duì)被抽氣體無(wú)選擇性，對(duì)各種類氣體，抽速變化不大起停機(jī)時(shí)間短振動(dòng)小，噪音低操作維護(hù)方便，免維護(hù)周期長(zhǎng) 分子泵特點(diǎn)分子泵特點(diǎn)真空泵的主要參數(shù)真空泵的主要參數(shù)真空計(jì)l熱偶真空規(guī)熱偶真空規(guī)l皮拉尼真空規(guī)皮拉尼真空規(guī)l電離真空規(guī)電離真空規(guī)l薄膜真空規(guī)薄膜真空規(guī)熱偶規(guī)和皮拉尼規(guī)都是以氣體的熱導(dǎo)率隨氣體壓力的變化熱偶規(guī)和皮拉尼規(guī)都是以氣體的熱導(dǎo)率隨氣體壓力的變化為基礎(chǔ)而設(shè)計(jì)的，它們是低真空時(shí)最常用的測(cè)量手段。為基礎(chǔ)而設(shè)計(jì)的，它們是低真空時(shí)最常用的測(cè)量手段。工作原理：工作原理：在熱偶真空規(guī)中，在作為在熱偶真空規(guī)中，在作為熱絲的熱絲的PtPt絲中通過(guò)恒定強(qiáng)絲中通過(guò)恒定強(qiáng)度的電流。在達(dá)到熱平衡度的電流。在達(dá)到

7、熱平衡以后，電流提供的加熱功以后，電流提供的加熱功率與通過(guò)空間熱輻射、金率與通過(guò)空間熱輻射、金屬絲熱傳導(dǎo)以及氣體分子屬絲熱傳導(dǎo)以及氣體分子熱傳導(dǎo)而損失的功率相等，熱傳導(dǎo)而損失的功率相等，因而熱絲的溫度將隨著真因而熱絲的溫度將隨著真空度的不同而呈現(xiàn)有規(guī)律空度的不同而呈現(xiàn)有規(guī)律的變化。的變化。熱偶真空規(guī)熱偶真空規(guī)在在0.1-100Pa0.1-100Pa的壓力范圍內(nèi)，氣體的熱導(dǎo)率將隨著氣的壓力范圍內(nèi)，氣體的熱導(dǎo)率將隨著氣體壓力的增加而上升，因而熱絲的溫度會(huì)隨著氣體壓體壓力的增加而上升，因而熱絲的溫度會(huì)隨著氣體壓力的上升而降低。這時(shí)，用熱電偶的方法測(cè)出熱絲本力的上升而降低。這時(shí)，用熱電偶的方法測(cè)出熱絲

8、本身的溫度，也就相應(yīng)測(cè)出的環(huán)境的壓力。身的溫度，也就相應(yīng)測(cè)出的環(huán)境的壓力。熱偶真空規(guī)不能用于較低或較高真空度的測(cè)量。熱偶真空規(guī)不能用于較低或較高真空度的測(cè)量。在氣體壓力高于在氣體壓力高于100Pa100Pa的情況下，氣體的熱導(dǎo)率將不的情況下，氣體的熱導(dǎo)率將不再隨氣體壓力而顯著變化。這時(shí)，用熱絲溫度測(cè)量氣再隨氣體壓力而顯著變化。這時(shí)，用熱絲溫度測(cè)量氣體壓力方法的靈敏程度將迅速下降。體壓力方法的靈敏程度將迅速下降。當(dāng)氣體壓力低于當(dāng)氣體壓力低于0.1Pa0.1Pa以后，由于氣體分子傳導(dǎo)走的以后，由于氣體分子傳導(dǎo)走的熱量的總加熱功率中的比例過(guò)小，測(cè)量的靈敏度也將熱量的總加熱功率中的比例過(guò)小，測(cè)量的靈敏

9、度也將呈下降趨勢(shì)。呈下降趨勢(shì)。皮拉尼規(guī)皮拉尼規(guī)皮拉尼規(guī)有稱為熱阻式皮拉尼規(guī)有稱為熱阻式真空規(guī)，其工作原理與真空規(guī)，其工作原理與熱偶真空規(guī)相似，皮拉熱偶真空規(guī)相似，皮拉尼規(guī)以電橋的方式，通尼規(guī)以電橋的方式，通過(guò)測(cè)量熱絲的電阻隨溫過(guò)測(cè)量熱絲的電阻隨溫度的變化來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)真空度的變化來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)真空度的測(cè)量。度的測(cè)量。經(jīng)常與熱偶真空規(guī)結(jié)合經(jīng)常與熱偶真空規(guī)結(jié)合使用的高真空規(guī)稱為電使用的高真空規(guī)稱為電離真空規(guī)，它是在高真離真空規(guī)，它是在高真空范圍內(nèi)最常使用的測(cè)空范圍內(nèi)最常使用的測(cè)量工具。量工具。電離真空規(guī)電離真空規(guī)由熱陰極發(fā)射出的電子將在飛向陽(yáng)極的過(guò)程中碰撞氣體分子，由熱陰極發(fā)射出的電子將在飛向陽(yáng)極的過(guò)程中碰撞

10、氣體分子，并使后者發(fā)生電離。由離子收集極接收電離的離子，并根據(jù)離并使后者發(fā)生電離。由離子收集極接收電離的離子，并根據(jù)離子電流強(qiáng)度的大小就可以測(cè)量出環(huán)境的真空度。由于離子電流子電流強(qiáng)度的大小就可以測(cè)量出環(huán)境的真空度。由于離子電流強(qiáng)度的大小將取決于陰極發(fā)射的電子電流強(qiáng)度、氣體分子的碰強(qiáng)度的大小將取決于陰極發(fā)射的電子電流強(qiáng)度、氣體分子的碰撞截面以及氣體分子的密度等三個(gè)因素，因而在固定陰極發(fā)射撞截面以及氣體分子的密度等三個(gè)因素，因而在固定陰極發(fā)射電流和固定氣體種類的情況下，離子電流強(qiáng)度將直接取決于電電流和固定氣體種類的情況下，離子電流強(qiáng)度將直接取決于電離氣體的壓力。離氣體的壓力。電離真空規(guī)可檢測(cè)的壓力

11、下限受陰極發(fā)射的電離真空規(guī)可檢測(cè)的壓力下限受陰極發(fā)射的高能光子在離子收集極上產(chǎn)生的光電效應(yīng)所高能光子在離子收集極上產(chǎn)生的光電效應(yīng)所限制。這種效應(yīng)產(chǎn)生的光電流相當(dāng)于限制。這種效應(yīng)產(chǎn)生的光電流相當(dāng)于10-7Pa10-7Pa的真空度下的離子電流。的真空度下的離子電流。薄膜式真空規(guī)薄膜式真空規(guī)薄膜式真空規(guī)是一種依靠金屬薄膜在氣體壓力差作用下產(chǎn)生機(jī)械位移，薄膜式真空規(guī)是一種依靠金屬薄膜在氣體壓力差作用下產(chǎn)生機(jī)械位移，從而可用于氣體絕對(duì)壓力測(cè)量，測(cè)量結(jié)果與氣體種類無(wú)關(guān)的真空規(guī)。從而可用于氣體絕對(duì)壓力測(cè)量，測(cè)量結(jié)果與氣體種類無(wú)關(guān)的真空規(guī)。薄膜真空規(guī)有兩個(gè)被隔離的真空腔。當(dāng)一個(gè)真空腔內(nèi)的壓力為已知，另薄膜真空

12、規(guī)有兩個(gè)被隔離的真空腔。當(dāng)一個(gè)真空腔內(nèi)的壓力為已知，另一個(gè)真空腔的壓力為未知的情況下，薄膜的位移量將與兩個(gè)腔內(nèi)的壓力一個(gè)真空腔的壓力為未知的情況下，薄膜的位移量將與兩個(gè)腔內(nèi)的壓力差成正比。為提高測(cè)量的準(zhǔn)確度，薄膜位移是靠測(cè)量薄膜與另一個(gè)金屬差成正比。為提高測(cè)量的準(zhǔn)確度，薄膜位移是靠測(cè)量薄膜與另一個(gè)金屬電極間的電容的變化來(lái)實(shí)現(xiàn)的。電極間的電容的變化來(lái)實(shí)現(xiàn)的。在很大的量程范圍內(nèi)，薄膜真空規(guī)都具有很好在很大的量程范圍內(nèi)，薄膜真空規(guī)都具有很好的線性度，其探測(cè)下限約為的線性度，其探測(cè)下限約為1010-3-3PaPa，這相當(dāng)于，這相當(dāng)于探測(cè)到的薄膜位移只有一個(gè)原子尺度大小。探測(cè)到的薄膜位移只有一個(gè)原子尺度

13、大小。傳動(dòng)系統(tǒng)傳傳動(dòng)動(dòng)系統(tǒng)共系統(tǒng)共24臺(tái)臺(tái)驅(qū)動(dòng)驅(qū)動(dòng)電機(jī)，上下片平臺(tái)各電機(jī)，上下片平臺(tái)各4臺(tái)，工臺(tái)，工藝區(qū)藝區(qū)11臺(tái)，回傳區(qū)臺(tái)，回傳區(qū)5臺(tái)傳動(dòng)電機(jī)，除上下片平臺(tái)各臺(tái)傳動(dòng)電機(jī)，除上下片平臺(tái)各有有2臺(tái)電機(jī)可實(shí)現(xiàn)雙向傳動(dòng)外，其余電機(jī)均為單向臺(tái)電機(jī)可實(shí)現(xiàn)雙向傳動(dòng)外，其余電機(jī)均為單向傳動(dòng)；其中除傳動(dòng)；其中除M3 M9 M9 可以通過(guò)端子通斷和模擬量可以通過(guò)端子通斷和模擬量信號(hào)協(xié)同控制電機(jī)轉(zhuǎn)速外，其余電機(jī)的傳動(dòng)速度由信號(hào)協(xié)同控制電機(jī)轉(zhuǎn)速外，其余電機(jī)的傳動(dòng)速度由端子通斷直接控制；端子通斷直接控制；傳動(dòng)系統(tǒng)變頻器驅(qū)動(dòng)電機(jī)同步傳送光電感應(yīng)磁導(dǎo)向同步皮帶U型導(dǎo)輪平移臺(tái)加熱系統(tǒng)我司我司1 1線鍍膜設(shè)備線鍍膜設(shè)備加熱系

14、統(tǒng)共加熱系統(tǒng)共66臺(tái)，在連續(xù)生產(chǎn)過(guò)程中，臺(tái)，在連續(xù)生產(chǎn)過(guò)程中，逐段加熱工藝區(qū)腔室內(nèi)的溫度，以確保在玻璃在鍍膜過(guò)程逐段加熱工藝區(qū)腔室內(nèi)的溫度，以確保在玻璃在鍍膜過(guò)程中的環(huán)境溫度，加熱系統(tǒng)進(jìn)行中的環(huán)境溫度，加熱系統(tǒng)進(jìn)行PID運(yùn)算，通過(guò)固態(tài)繼電器運(yùn)算，通過(guò)固態(tài)繼電器的電壓脈沖控制加熱器的加熱頻率的電壓脈沖控制加熱器的加熱頻率。加熱系統(tǒng)溫控模塊加熱器溫度傳感器冷卻系統(tǒng)鍍膜設(shè)備系統(tǒng)冷卻選用冷凍機(jī)恒溫冷卻，為了防止水鍍膜設(shè)備系統(tǒng)冷卻選用冷凍機(jī)恒溫冷卻，為了防止水道結(jié)垢、臟污，道結(jié)垢、臟污，冷卻媒介為去離子水；冷卻媒介為去離子水；機(jī)械泵、分子機(jī)械泵、分子泵、濺射電源泵、濺射電源等等冷卻管路安裝有壓力檢測(cè)設(shè)備，通過(guò)冷卻