后清洗生產(chǎn)培訓

1、1會計學后清洗生產(chǎn)培訓后清洗生產(chǎn)培訓第1頁/共32頁1532674第2頁/共32頁4第3頁/共32頁89101112131415第4頁/共32頁6第5頁/共32頁1234567第6頁/共32頁 1. 1.上料臺放片上料臺放片 2. 2.刻蝕槽刻刻蝕槽刻邊邊 3. 3.洗槽去殘液洗槽去殘液 6.HF6.HF槽去磷硅玻槽去磷硅玻璃璃 5.洗槽去殘洗槽去殘液液 4.KOH噴淋去多孔噴淋去多孔硅硅 7.洗槽去殘液洗槽去殘液 8.風刀吹干風刀吹干 9.下料臺插片下料臺插片第7頁/共32頁槽槽名名主要功能主要功能實現(xiàn)情實現(xiàn)情況況Etch-bath刻蝕硅片邊緣及背面的PN結，刻蝕線不超過硅片邊緣1.5mm，

2、無刻不通現(xiàn)象。此槽需循環(huán)流量，刻蝕液溫度，氣體流動穩(wěn)定?？涛g速率下降越慢越好。風刀吹去硅片上面的刻蝕槽殘液。良好Rinse 1循環(huán)噴淋水洗去刻蝕后吸附在硅片上的刻蝕液，并風刀吹去積在硅片上的洗槽槽液。良好Alkaline-rinseKOH噴淋去除硅片表面的多孔硅及其雜質，去除擴散形成的染色.并風刀吹去積在硅片上面的KOH殘液。KOH溶液依靠冷卻水降溫保持在20左右。良好Rinse 2循環(huán)噴淋水洗去去多孔硅后吸附在硅片上的堿液，并風刀吹去積在硅片上的洗槽槽液。良好Hf-bathHF循環(huán)沖刷噴淋去除硅片表面的磷硅玻璃，并風刀吹去積在硅片上的HF殘液良好Rinse 3循環(huán)噴淋水洗去去磷硅玻璃后吸附在

3、硅片上的HF酸液，并純水噴霧洗去循環(huán)水殘液。良好第8頁/共32頁第9頁/共32頁流回儲液槽，溶液溫度較高儲液槽泵液至冷卻器冷卻器泵液至刻蝕槽內(nèi)槽刻蝕槽內(nèi)槽溫度較低液面與硅片吸附反應后流入外槽內(nèi)槽槽壁可調(diào)節(jié)高度，刻蝕槽液不斷循環(huán)降溫，且循環(huán)流量（一定范圍內(nèi)）越大，液面越高泵第10頁/共32頁硅片完全懸空硅片尾部吸附刻蝕液第11頁/共32頁2052934橡膠圈較小2051141橡膠圈正?？涛g液完全吸附第12頁/共32頁硅片剛進入刻蝕槽硅片刻蝕后，邊緣水印為反應生成的水第13頁/共32頁n四、滾軸水平：滾軸水平，四、滾軸水平：滾軸水平，5 5道軌道內(nèi)運行道軌道內(nèi)運行的硅片才能與刻蝕液水平面平行，只有

4、平的硅片才能與刻蝕液水平面平行，只有平行于水平面，硅片吸附刻蝕液才均勻，也行于水平面，硅片吸附刻蝕液才均勻，也即刻蝕均勻，無過刻或刻不通現(xiàn)象；即刻蝕均勻，無過刻或刻不通現(xiàn)象；n五、硅片覆蓋率：硅片覆蓋率也就是硅片五、硅片覆蓋率：硅片覆蓋率也就是硅片之間的間距，它決定硅片間液面形狀?？讨g的間距，它決定硅片間液面形狀?？涛g槽是通過液體的張力將刻蝕液吸附于硅蝕槽是通過液體的張力將刻蝕液吸附于硅片上，但硅片間間隙過小，液體就會浸漫片上，但硅片間間隙過小，液體就會浸漫到硅片上面，破壞擴散面。同時，過高的到硅片上面，破壞擴散面。同時，過高的覆蓋率還會使刻蝕槽液面升高。覆蓋率還會使刻蝕槽液面升高。第14頁

5、/共32頁水）。水）。上水刀下水刀風刀第15頁/共32頁17上水刀上水刀風刀第16頁/共32頁泵過濾器硅片運行平面堿液流動方向冷卻水流動方向槽壁噴淋頭槽內(nèi)液面高于溢流口的溶液從溢流管排掉F第17頁/共32頁上水刀下水刀風刀第18頁/共32頁氫氟酸循環(huán)噴淋使反應充分HF bath去PSG 硅片完全浸泡在溶液里第19頁/共32頁過濾器泵硅片運行平面氫氟酸液流動方向內(nèi)槽液面外槽液面F噴淋頭第20頁/共32頁兩道水刀沖洗硅片兩面兩道水刀沖洗硅片兩面后，上下各一道純水噴后，上下各一道純水噴霧器清洗硅片兩面（流霧器清洗硅片兩面（流量量400l400lh h）循環(huán)水沖洗DI-Water噴霧器最后沖洗，水落進

6、槽底，重復利用。第21頁/共32頁吹干風刀第22頁/共32頁第23頁/共32頁第24頁/共32頁THANKS第25頁/共32頁第26頁/共32頁1532674第27頁/共32頁29第28頁/共32頁槽槽名名主要功能主要功能實現(xiàn)情實現(xiàn)情況況Etch-bath刻蝕硅片邊緣及背面的PN結，刻蝕線不超過硅片邊緣1.5mm，無刻不通現(xiàn)象。此槽需循環(huán)流量，刻蝕液溫度，氣體流動穩(wěn)定。刻蝕速率下降越慢越好。風刀吹去硅片上面的刻蝕槽殘液。良好Rinse 1循環(huán)噴淋水洗去刻蝕后吸附在硅片上的刻蝕液，并風刀吹去積在硅片上的洗槽槽液。良好Alkaline-rinseKOH噴淋去除硅片表面的多孔硅及其雜質，去除擴散形成的染色.并風刀吹去積在硅片上面的KOH殘液。KOH溶液依靠冷卻水降溫保持在20左右。良好Rinse 2循環(huán)噴淋水洗去去多孔硅后吸附在硅片上的堿液，并風刀吹去積在硅片上的洗槽槽液。良好Hf-bathHF循環(huán)沖刷噴淋去除硅片表面的磷硅玻璃，并風刀吹去積在硅片上的HF殘液良好Rinse 3循環(huán)噴淋水洗去去磷硅玻璃后吸附在硅片上的HF酸液，并純水噴霧洗去循環(huán)水殘液。良好第29頁/共32頁流回儲液槽，溶液溫度較高儲液槽泵液至冷