島津GCMS-TQ8040教材

1、島津島津GCMS-TQ8040GCMS-TQ8040基礎(chǔ)知識基礎(chǔ)知識島津企業(yè)管理（中國）有限公司 分析中心 1第一部分第一部分 儀器結(jié)構(gòu)儀器結(jié)構(gòu)2GCMS-TQ8040: :氣相色譜氣相色譜/ /三重四級桿質(zhì)譜聯(lián)用儀三重四級桿質(zhì)譜聯(lián)用儀GC: :氣相色譜氣相色譜（Gas Chromatograph）MS: :質(zhì)質(zhì) 譜譜 （Mass Spectrometer）3目的：分離樣品組分目的：分離樣品組分GC組成組成進(jìn)樣口 ( 樣品氣化)色譜柱 ( 分離 )檢測器 (FID, MS,)樣品載氣4檢測器碰撞氣 真空泵GCMS-TQ8040 GCMS-TQ8040 三重四極桿質(zhì)譜儀三重四極桿質(zhì)譜儀Q1Q3碰

2、撞池RF Only： ThroughCID gas ON: CIDCID gas OFF: ThroughRF+DC: Mass filterorRF Only：ThroughRF+DC: Mass filterorRF Only：Through 離子源CID (碰撞誘導(dǎo)解離 )5第二部分第二部分 氣相部分氣相部分GC基礎(chǔ)基礎(chǔ)6載氣載氣v 氦氣：高純，氦氣：高純，99.999%v 10%的鋼瓶氣保有量的鋼瓶氣保有量v 減壓閥壓力：減壓閥壓力：700-800Kpa700-800Kpa7載氣純度的重要性載氣純度的重要性 載氣不純帶來的問題：載氣不純帶來的問題：v載氣中氧的存在導(dǎo)致固定相氧化，損壞色

3、譜柱，改變樣品的保留值。v載氣中水的存在導(dǎo)致部分固定相或硅烷化擔(dān)體發(fā)生水解，甚至損壞柱子。v氣體中有機(jī)化合物或其它雜質(zhì)的存在產(chǎn)生基線噪音和拖尾現(xiàn)象。v氣體中夾帶的粒狀雜質(zhì)可能使氣路控制系統(tǒng)失靈。8v分流分流/ /不分流進(jìn)樣不分流進(jìn)樣v填充柱進(jìn)樣填充柱進(jìn)樣v冷柱頭進(jìn)樣冷柱頭進(jìn)樣v程序升溫進(jìn)樣程序升溫進(jìn)樣分流分流/ /不分流進(jìn)樣是不分流進(jìn)樣是GCMS最為常用的進(jìn)樣方式最為常用的進(jìn)樣方式GC進(jìn)樣方式進(jìn)樣方式9 分流分流/ /不分流進(jìn)樣口結(jié)構(gòu)不分流進(jìn)樣口結(jié)構(gòu)F1F2 進(jìn)樣方式：進(jìn)樣方式：v 分流進(jìn)樣（Split）v 不分流進(jìn)樣（Splitless）導(dǎo)針器導(dǎo)針器載氣載氣O型圈型圈石墨墊圈石墨墊圈螺母螺母

4、玻璃襯管玻璃襯管色譜柱色譜柱隔墊隔墊隔墊吹掃隔墊吹掃分流出口分流出口10什么是什么是分流進(jìn)樣分流進(jìn)樣? ?46mL/min0.25mmI.D.x30m , df=0.25m1mL/min50mL/min47mL/minP分流3mL/min隔墊吹掃F分流比分流比 分流流量和色譜柱流量之比 當(dāng)柱流量為 1mL/min、分流流量為 46mL/min-分流比46:1載氣11為什么要分流進(jìn)樣為什么要分流進(jìn)樣? ?( () )v 防止色譜柱過載防止色譜柱過載前沿峰12v 減小色譜峰展寬減小色譜峰展寬為什么要分流進(jìn)樣為什么要分流進(jìn)樣? ?( () )0.25mmI.D.x 30m , df=0.25m1mL

5、/min4mL/min載氣 分流1mL/min3mL/min隔墊吹掃13e.gSPL-2010(Split)25mm石英棉5-10mm(10mg)34mm分流進(jìn)樣注意點(diǎn)分流進(jìn)樣注意點(diǎn)_ _石英棉的裝填石英棉的裝填v避免分流歧視，提高重現(xiàn)性避免分流歧視，提高重現(xiàn)性14v 不適合微量組分的分析（g/mL以下）v 未知樣品分析時(shí)，初始分流比采用50:1或者100:1v 使用分流襯管v 正確裝填石英棉v 定期更換分流出口的捕集阱分流進(jìn)樣操作要點(diǎn)分流進(jìn)樣操作要點(diǎn)15什么是不分流進(jìn)樣？什么是不分流進(jìn)樣？（I）0.25mmI.D.x 30m , df=0.25m1mL/min50mL/min47mL/min

6、載氣 46mL/min 分流初始柱溫：溶劑沸點(diǎn)-10度待機(jī)狀態(tài)和進(jìn)待機(jī)狀態(tài)和進(jìn)樣后樣后1min內(nèi)內(nèi)1mL/min0mL/min分流流路關(guān)閉后總流量變?yōu)?mL/min3mL/min（進(jìn)樣時(shí)間設(shè)為1min時(shí)）隔墊吹掃160.25mmI.D.x30m , df=0.25m1mL/min進(jìn)樣時(shí)的4mL/min1mL/minCarrier GasP0mL/min分流 50mL/min47mL/min46mL/min什么是不分流進(jìn)樣？（什么是不分流進(jìn)樣？（IIII）進(jìn)樣進(jìn)樣1min后打后打開分流流路開分流流路3mL/min隔墊吹掃17分流流路分流流路1min后打開電磁閥的作用后打開電磁閥的作用n-C11n

7、-C13n-C15n-C17n-C18n-C11n-C13n-C15n-C17n-C18進(jìn)樣后進(jìn)樣后1min打開電磁閥打開電磁閥未打開電磁閥未打開電磁閥18進(jìn)樣時(shí)間內(nèi)色譜峰展寬的影響進(jìn)樣時(shí)間內(nèi)色譜峰展寬的影響0.25mmI.D.x 30m , df=0.25m1mL/min4mL/min載氣載氣 初始柱溫：溶劑沸點(diǎn)-10度1mL/min0mL/min3mL/min隔墊吹掃隔墊吹掃如何減小色譜峰展寬：如何減小色譜峰展寬：1）溶劑聚焦效應(yīng)2）高壓進(jìn)樣分流19溶劑聚焦效應(yīng)溶劑聚焦效應(yīng)進(jìn)樣口初始柱溫：溶劑沸點(diǎn)初始柱溫：溶劑沸點(diǎn)-10度度溶劑在柱頭重新冷凝20溶劑聚焦對峰形的影響溶劑聚焦對峰形的影響色譜

8、柱：Rtx-5 30m0.25mm0.25um進(jìn)樣量：1.0L樣品：5g/mL農(nóng)藥混標(biāo) （溶劑為正己烷）柱溫程序：150 to 275 4 /min.色譜柱：Rtx-5 30m0.25mm0.25um進(jìn)樣量：1.0L樣品：5g/mL農(nóng)藥混標(biāo) （溶劑為正己烷）柱溫程序：40 to 150 25 /min. 然后 275 4 /min.210.25mmI.D.x 30m , df=0.25m1mL/min9mL/min載氣分流初始柱溫：溶劑沸點(diǎn)-10度6mL/min0mL/min3mL/min隔墊吹掃高壓進(jìn)樣高壓進(jìn)樣待機(jī)狀態(tài)和進(jìn)待機(jī)狀態(tài)和進(jìn)樣后樣后1min內(nèi)內(nèi)（高壓時(shí)間設(shè)為1min時(shí)）1mL/mi

9、n6mL/min100Kpa250Kpa 進(jìn)樣進(jìn)樣1min后，柱壓回到后，柱壓回到100Kpa，柱流量恢復(fù)為柱流量恢復(fù)為1mL/min22v主要用于分析微量組分（數(shù)十 g/mL或更低）v使用不分流襯管或去活性不分流襯管v襯管中可裝填少量石英棉以提高重現(xiàn)性v如樣品有強(qiáng)吸附性，最好不加石英棉v必須使用程序升溫方式，初始溫度低于溶劑沸點(diǎn)1020v建議使用高壓進(jìn)樣方式v不適合氣體樣品和低沸點(diǎn)溶劑類樣品的分析v不適合分析在溶劑峰之前出峰的組分不分流進(jìn)樣操作要點(diǎn)不分流進(jìn)樣操作要點(diǎn)23寬口徑進(jìn)樣口（寬口徑進(jìn)樣口（WBI）用于：用于：寬口徑毛細(xì)管柱寬口徑毛細(xì)管柱填充柱填充柱石墨墊圈石墨墊圈玻璃襯管玻璃襯管螺母

10、螺母寬口徑毛細(xì)管柱寬口徑毛細(xì)管柱載氣載氣O型圈型圈導(dǎo)針器導(dǎo)針器隔墊隔墊隔墊吹掃隔墊吹掃24 載氣 加熱塊（250 /min) 毛細(xì)柱隔墊吹掃出口分流出口1.Column Sleeve/Guide (OCI-mode)2. 玻璃襯管玻璃襯管 （Glass Insert)(PTV-mode)冷柱頭冷柱頭/程序升溫進(jìn)樣口（程序升溫進(jìn)樣口（OCI/PTV）25注意事項(xiàng)注意事項(xiàng)- -樣品氣化不完全樣品氣化不完全v 進(jìn)樣口溫度過低，將導(dǎo)致高分子量化合物氣化不完全，并且進(jìn)樣口溫度過低，將導(dǎo)致高分子量化合物氣化不完全，并且不能有效轉(zhuǎn)移到色譜柱中。不能有效轉(zhuǎn)移到色譜柱中。進(jìn)樣口溫度：進(jìn)樣口溫度：200進(jìn)樣口溫度

11、：進(jìn)樣口溫度：30026注意事項(xiàng)注意事項(xiàng)- -樣品分解樣品分解v 進(jìn)樣口溫度過高，導(dǎo)致熱穩(wěn)定性差的化合物分解。進(jìn)樣口溫度過高，導(dǎo)致熱穩(wěn)定性差的化合物分解。進(jìn)樣口溫度：280進(jìn)樣口溫度：20027注意事項(xiàng)樣品歧視注意事項(xiàng)樣品歧視v高沸點(diǎn)化合物的響應(yīng)值相對同樣量的低沸點(diǎn)化合物，響應(yīng)值偏低。v熱進(jìn)樣口（溫度恒定進(jìn)樣口）的常見問題，尤其是對寬沸程樣品的時(shí)候最為明顯。v在分析條件固定的情況下，歧視是重現(xiàn)的，一般不會對定量結(jié)果準(zhǔn)確度產(chǎn)生影響。v可以選擇冷進(jìn)樣方式或者更改襯管類型改善樣品歧視效應(yīng)。分流無分流進(jìn)樣口進(jìn)樣口溫度：340冷柱頭進(jìn)樣口初始進(jìn)樣口溫度：4028注意事項(xiàng)注意事項(xiàng)- -其他其他v謹(jǐn)慎選擇進(jìn)

12、樣量（小于2L)，避免樣品溢出v采用大分流比分流進(jìn)樣時(shí)，建議開啟載氣節(jié)省功能v進(jìn)水樣時(shí)，因水的氣化體積非常大，為避免水汽從襯管溢出，建議減少進(jìn)樣量（0.5L進(jìn)樣)v注意襯管中石英棉的用量和位置，以及和進(jìn)樣針的配合情況v分析高活性樣品時(shí)，注意襯管和石英棉去活v分析較臟樣品時(shí)，要增強(qiáng)襯管和石英棉檢查的頻度29毛細(xì)管柱主要類型毛細(xì)管柱主要類型Porous Layer Open TubularWall Coated Open Tubular多孔層開口柱多孔層開口柱管壁涂漬開口柱管壁涂漬開口柱30毛細(xì)管柱管材毛細(xì)管柱管材v 熔融石英熔融石英合成高純石英合成高純石英v外表面涂覆聚酰亞胺v內(nèi)表面經(jīng)化學(xué)處理v

13、 不銹鋼不銹鋼v用于高溫分析v最不易斷裂v內(nèi)表面經(jīng)特殊處理31固定相固定相v 大多數(shù)固定相為聚合物大多數(shù)固定相為聚合物v WCOT 毛細(xì)管柱毛細(xì)管柱:v聚甲基硅氧烷（Polysiloxanes, silicones）v聚乙二醇（Polyethylene glycols, PEG）32固定相聚甲基硅氧烷固定相聚甲基硅氧烷CH3CH2CH2CH2CNCH2CH2CF3R =methylcyanopropyltrifluoropropylphenylsiloxanebackboneO Si O Si ORRRR33固定相固定相“ms” or low bleed version苯基基團(tuán)鍵合入硅氧烷聚合

14、物主鏈苯基基團(tuán)鍵合入硅氧烷聚合物主鏈Rtx-5msDB-5msBPX-5e.g.Si O SiRRRRSi O SiRRRR 溫度穩(wěn)定性更好溫度穩(wěn)定性更好34固定液流失固定液流失021868101214164202224100 C270 C300 C300 C for 12 minBleed35固定相聚乙二醇固定相聚乙二醇HO CH2CH2O Hnv “WAX” or “FFAP” 類固定液類固定液ve.g. Rtx-WAX, Stabilwax-DA，DB-FFAPv 溫度穩(wěn)定性比聚硅氧烷類差，最高使用溫度低于聚硅溫度穩(wěn)定性比聚硅氧烷類差，最高使用溫度低于聚硅氧烷類固定液氧烷類固定液36常用

15、商品化毛細(xì)柱對照表常用商品化毛細(xì)柱對照表固定液固定液類類型型RestekJ&WSGEAlltechMachereyNagel100% dimethyl polysiloxaneRtx-1Rtx-1msDB-1DB-1MSBP1AT-1AT-1MSOptima 195% dimethyl/5% diphenyl polysiloxaneRtx-5Rtx-5msDB-5DB-5MSBP5BPX5AT-5AT-5MSOptima 5 65% dimethyl/ 35% diphenyl polysiloxane Rtx-35Rtx-35msDB-35DB-35MSBPX35BPX608AT-

16、35-50% dimethyl/ 50% diphenyl polysiloxaneRxi-17Rtx-50DB-17DB-608BPX50AT-50Optima 176% cyanopropylphenyl/94% dimethyl polysiloxaneRtx-1301Rtx-624DB-1301DB-624BP624AT-1301AT-624Optima 1301Optima 62414% cyanopropylphenyl/86% dimethyl polysiloxaneRtx-1701DB-1701BP10AT-1701Optima 1701trifluoropropylmeth

17、yl polysiloxaneRtx-200DB-200DB-210AT-210Optima 21050% cyanopropylmethyl/50% phenylmethyl polysiloxaneRtx-225DB-225BP225AT-225Optima 225polyethylene glycol (PEG)Rtx-WAXDB-WaxBP20AT-WAXCarbonWAXOptima WAXpolyethylene glycol 2-nitroterephthalateStabiwax-DADB-FFAPBP21AT-1000Optima FFAP37固定相選擇固定相選擇v 選擇與目

18、標(biāo)化合物極性相近的固定相選擇與目標(biāo)化合物極性相近的固定相(“相似相溶相似相溶”原則）原則）v - 峰形和分離變好峰形和分離變好.分析非極性化合物非極性柱(e.g.Rtx-1)分析極性化合物極性柱(e.g. StabilWAX） v 按照分析目的選擇固定相按照分析目的選擇固定相當(dāng)組分沸點(diǎn)差異大時(shí)： - 非極性柱(e.g.Rtx-1) 當(dāng)組分沸點(diǎn)差異不大時(shí)，如異構(gòu)體： - 極性柱(e.g. StabilWAX）38v 按所需分離狀況選擇按所需分離狀況選擇需要高分離時(shí)： -內(nèi)徑: 細(xì)、長度: 長柱分離已足夠，要縮短分析時(shí)間時(shí)： -內(nèi)徑: 粗、長度: 短、膜厚：薄柱v 按分析目的選擇按分析目的選擇分析

19、低沸點(diǎn)化合物時(shí)： - 長度: 長、膜厚：厚 柱 分析高沸點(diǎn)化合物時(shí)： - 長度: 短、 膜厚: 薄 柱柱內(nèi)徑、長度、膜厚選擇柱內(nèi)徑、長度、膜厚選擇 39色譜柱固定相典型應(yīng)用色譜柱固定相典型應(yīng)用序號序號名稱名稱固定液名稱固定液名稱應(yīng)應(yīng)用用領(lǐng)領(lǐng)域（域（Restek GC 應(yīng)應(yīng)用數(shù)據(jù)集）用數(shù)據(jù)集）1Rtx-1100% dimethyl polysiloxane空氣樣品、芳香族化合物、氯氟烴類化合物、香精油類、脂肪酸、香味揮發(fā)物、香味化合物、烴類、有機(jī)磷農(nóng)藥、氧化物（醚、醇等）、臭氧前體、溶劑、含硫化物、揮發(fā)物2Rtx-595% dimethyl/ 5% diphenyl polysiloxane 醇

20、類、聯(lián)苯胺類、丁基錫類、消毒副產(chǎn)物、氯代烴類、有機(jī)氯農(nóng)藥、柴油中有機(jī)物、成癮藥物、香精油類、汽油中有機(jī)物、鹵代乙酸、鹵代醚類、烴類（易燃物）、亞硝胺類、硝基芳香烴類、PCBs、基本藥物、酚類、多環(huán)芳烴、鄰苯二甲酸酯類、硅氧烷、溶劑、類固醇類3Rtx-6246% cyanopropylphenyl/94% dimethyl polysiloxane揮發(fā)性化合物4Rtx-170114% cyanopropylphenyl/ 86% dimethyl polysiloxane丙烯酸酯、甲醛、有機(jī)氯農(nóng)藥、香味化合物、有機(jī)磷農(nóng)藥、藥物（酸性/中性）、基本藥物、溶劑5Rtx-WAXpolyethylene

21、 glycol (PEG)醛類、芳香族化合物BTEX、香精油、FAMEs（酸酯順反化合物）、二醇類、溶劑6Stabiwax-DACarboWAX polyethylene glycol 脂肪酸（游離）、香味揮發(fā)物、有機(jī)酸、溶劑40毛細(xì)管柱流量設(shè)定內(nèi)徑載氣流入 MS大流量 真空度差柱內(nèi)徑柱內(nèi)徑 流量流量 0.25mm 1-2ml/min 0.32mm 2-4ml/min 0.53mm 10-15ml/min GCMS-TQ8040:允許最大流量：15 mL/min (EI方式）41v 恒流控制恒流控制（使用填充柱和寬口徑毛細(xì)管柱時(shí)使用填充柱和寬口徑毛細(xì)管柱時(shí)) ) 不管色譜柱溫度如何變化，載氣流

22、量始終恒定 (柱溫上升時(shí)柱頭壓力自動調(diào)整)v 恒壓控制恒壓控制( (通常用于毛細(xì)管柱通常用于毛細(xì)管柱) ) 載氣柱頭壓力始終恒定 (柱溫變化時(shí)柱內(nèi)流速同時(shí)改變) v 恒線速度方式恒線速度方式（用于毛細(xì)管柱用于毛細(xì)管柱） 柱內(nèi)平均線速度維持不變 (色譜柱溫度變化時(shí)柱壓自動調(diào)整) 載氣控制方式載氣控制方式42HETP曲線 （Rtx-1，30m，0.25mmi.d.，0.25m）線速度（cm/sec）柱箱 130，樣品 n-C15H320.00.0200.0200.0400.0400.0600.0600.0800.0800.01000.01000.01200.01200.01400.01400.00

23、 01010202030304040505060607070柱箱柱箱 130 130，樣品，樣品 n-Cn-C1515H H32 32 ，k =7.6k =7.6GCMS 使用 He N2HeH2載氣載氣線速度線速度與理論塔板高度關(guān)系與理論塔板高度關(guān)系理論塔板高度 (m)43優(yōu)點(diǎn)優(yōu)點(diǎn)1：采用：采用恒線速度方式恒線速度方式，通常能得到，通常能得到最高最高的的柱柱分離效率分離效率。 0.25mmID x 30m , df=0.25mHe: 150 kPa, 2.32 mL/min, 45.1 cm/sec柱溫柱溫平均線速度平均線速度載氣不同控制方式比較載氣不同控制方式比較恒流恒流恒恒壓壓恒恒線線速

24、度速度44恒線速度恒線速度控制方式控制方式0.00.51.01.52.02.53.03.54.04.5min02500050000750002.4652.9803.8334.0544.3344.5815.1140.51.01.52.02.53.03.54.04.5min02500050000750001.8672.3053.1173.3333.5943.8444.3310.51.01.52.02.53.03.54.04.5min02500050000750001.2651.6002.3322.4892.5382.7723.0333.512線速度線速度: 15cm/s線速度線速度: 20cm/s

25、線速度線速度: 30cm/s45不同不同載氣控制方式載氣控制方式分離的區(qū)別分離的區(qū)別恒恒壓壓控制方式控制方式恒線速度控制方式恒線速度控制方式46優(yōu)點(diǎn)優(yōu)點(diǎn)2：GC 和和 GC/MS 的保留時(shí)間的保留時(shí)間保持保持一致一致毛細(xì)管柱t0P進(jìn)P出毛細(xì)管柱P進(jìn)P出t1MSFID大氣壓真空柱入口壓力相同，線速度在 MS 檢測器側(cè)快組分保留時(shí)間短。恒線速度控制方式恒線速度控制方式47恒線速度控制方式恒線速度控制方式FIDMS采用采用恒線速度方式恒線速度方式 FID 和和 MS 檢測器的檢測器的 RT 相同相同！48第三部分第三部分 質(zhì)譜部分質(zhì)譜部分MS基礎(chǔ)基礎(chǔ)49Interface（接口）接口）v接口接口:G

26、C to MS的連接部件的連接部件接口色譜柱 質(zhì)譜高真空使用石墨墊圈使用石墨墊圈 密封（密封（85%Vespel+15%石墨）石墨）加熱塊50真空真空- - 另一重要因素另一重要因素 真空系統(tǒng)確保離子由離子源轉(zhuǎn)移至檢測器真空系統(tǒng)確保離子由離子源轉(zhuǎn)移至檢測器+離子空氣、水等.高真空高真空低真空低真空51排氣系統(tǒng)排氣系統(tǒng)離子源檢測器主泵主泵副泵副泵透鏡系統(tǒng)四極桿52真空泵真空泵 ( (主泵主泵) ) Turbo molecular pump （渦輪分子泵渦輪分子泵）v旋轉(zhuǎn)葉片使氣體分子向下移動并由出口排出v干凈真空v啟動和關(guān)機(jī)時(shí)間短v價(jià)格昂貴53 單泵排氣系統(tǒng)和差動排氣系統(tǒng)單泵排氣系統(tǒng)和差動排氣系

27、統(tǒng) v差動排氣系統(tǒng)更有利于高流量分析差動排氣系統(tǒng)更有利于高流量分析單泵排氣系統(tǒng)差動排氣系統(tǒng)高真空RPGCGCMS-TQ804054Ionization（離子化）離子化）v樣品分子在離子源中離子化樣品分子在離子源中離子化v根據(jù)樣品條件不同根據(jù)樣品條件不同 (如氣體或液體如氣體或液體)，離子化方法也不同，離子化方法也不同v對氣體樣品來說有三種離子化方法對氣體樣品來說有三種離子化方法vEI (Electron Impact，電子轟擊電離)vCI (Chemical Ionization，正化學(xué)電離PCI)vNCI (Negative Chemical Ionization，負(fù)化學(xué)電離) 55e-e-

28、e-e-e-樣品燈絲+碎片離子四極桿四極桿EI(電子轟擊電離電子轟擊電離)分子離子產(chǎn)生：分子離子產(chǎn)生：MeM+2e56v 最常用的離子化方法 v 開放式離子源v 產(chǎn)生大量碎片離子EI概述概述57 碎片和質(zhì)譜圖碎片和質(zhì)譜圖v分子受到電子分子受到電子（70eV）轟擊，在較低能量的化學(xué)鍵處發(fā)生斷裂轟擊，在較低能量的化學(xué)鍵處發(fā)生斷裂A-B-C-D e ABCD(molecular ion)2e-ABC+、D+ AB+、CD+A+、BCD+每一化合物具有特定的質(zhì)譜圖：用于化合物識別（定性）(譜庫檢索)ADABCDABCBCDABCD基峰基峰分子離子fragment ions（碎片離子）俵e- M m1m

29、3m258EI 譜圖示例譜圖示例m.w.78m.w.7259燈絲燈絲e-e-e-e-e-QPCH4 CH5+C2H5+樣品樣品H+-CH4M+1-C2H4CI (正化學(xué)電離正化學(xué)電離)60v需要反應(yīng)氣（Reagent gas ） v封閉式離子源 ( 離子源內(nèi)壓力約 10Pa )v碎片少 ( 軟電離) v產(chǎn)生準(zhǔn)分子離子（ pseudo-molecular ions,M+1）v有利于測定分子量CI概述概述61 EI和和CI譜圖比較譜圖比較v毒死蜱毒死蜱（Chlorpyrifos） M.W. 349EICI50100150200250300350400050100150%35032215355198

30、3809712529483182260228278402501001502002503003500.025.050.075.0100.0125.0%9719731425828612520865109169472448114429235122432562NCI (負(fù)化學(xué)電離負(fù)化學(xué)電離)v需要反應(yīng)氣（Reagent gas ） v半封閉式離子源 ( 離子源內(nèi)壓力約 1Pa )v碎片少 ( 軟電離)v帶電負(fù)性基團(tuán)的化合物有高靈敏度 (如鹵素化合物)eCH4CH3HCH4CH4CH4e電子捕獲反應(yīng)-（：高電負(fù)性原子或離子，如鹵素) 6350100150200250m/z0.000.250.500.75

31、1.00Inten. (x10,000)2843537292248NCI 質(zhì)譜圖質(zhì)譜圖v六氯苯六氯苯 M.W. 28464三種離子源對比圖三種離子源對比圖離子源離子源離子源內(nèi)墊片離子源內(nèi)墊片EI源CI源NCI源EI用墊片CI、NCI用墊片DI進(jìn)樣時(shí)，CI、NCI用墊片65 GCMS質(zhì)量分析器質(zhì)量分析器v 磁質(zhì)量分析器磁質(zhì)量分析器v 四極桿質(zhì)量分析器四極桿質(zhì)量分析器v 離子阱質(zhì)量分析器離子阱質(zhì)量分析器v飛行時(shí)間質(zhì)量分析器飛行時(shí)間質(zhì)量分析器66四極桿質(zhì)量分析器四極桿質(zhì)量分析器離子源四極桿檢測器X光透鏡67四極桿質(zhì)量分析器四極桿質(zhì)量分析器Ion Transmission Device： Just R

32、F applied Mass Filter： DC and RF applied u兩組四極桿分別加上 +(U+Vcont) 和 (U+Vcont)，水平和垂直相差180度相位, 其中u直流電壓部分，Vcont為射頻電壓部分 = 2f, f為頻率。u理想的四極場為雙曲線型，但加工的困難，用四根桿代替。68m1+m2+m3+m1+m1/z=kV1m2/z=kV2m3/z=KV3m2+m3+11m/zVm：質(zhì)量z ：電荷 ( =1 in GCMS)k ：常數(shù) V ：四極桿上的電壓四極桿質(zhì)量分析器四極桿質(zhì)量分析器69數(shù)據(jù)采集模式數(shù)據(jù)采集模式v 當(dāng)電壓掃描時(shí)，離子依次進(jìn)入檢測器。測定間隔默認(rèn)為 0.5

33、 secSCAN mode（掃描模式掃描模式）imeVm/z0.5sec0.5secV35V350SCAN質(zhì)譜圖70SIM (Selected Ion Monitoring) mode - 選擇離子模式選擇離子模式v SIM主要用于定量分析v 只有特定質(zhì)量數(shù)的離子被檢測v根據(jù)目標(biāo)化合物選擇合適的檢測離子相當(dāng)重要。v靈敏度取決于所選擇的檢測離子。TimeVm/z0.2secV85V97SIM數(shù)據(jù)采集模式數(shù)據(jù)采集模式80.085.090.095.0100.050100%9785質(zhì)譜圖71SIM ModeRetention timem/z=72 m/z=152 m/z=54靈敏度高于靈敏度高于 Sc

34、an 方式方式72檢測器碰撞氣 真空泵GCMS-TQ8040 GCMS-TQ8040 三重四極桿質(zhì)譜儀三重四極桿質(zhì)譜儀Q1Q3碰撞池RF Only： ThroughCID gas ON: CIDCID gas OFF: ThroughRF+DC: Mass filterorRF Only：ThroughRF+DC: Mass filterorRF Only：Through 離子源CID (碰撞誘導(dǎo)解離 )73串級質(zhì)譜法串級質(zhì)譜法串級質(zhì)譜法，縮寫為串級質(zhì)譜法，縮寫為MS/MS，涉及兩級的質(zhì)譜分析，包括引起離涉及兩級的質(zhì)譜分析，包括引起離子質(zhì)量或電荷改變的解離過程或化學(xué)變化。子質(zhì)量或電荷改變的解離

35、過程或化學(xué)變化。最常用的最常用的MS/MS實(shí)驗(yàn)中，第一級質(zhì)量分析器用于選擇一個(gè)前體離實(shí)驗(yàn)中，第一級質(zhì)量分析器用于選擇一個(gè)前體離子（子（precursor ion），），或稱為母離子（或稱為母離子（parent ion）, 然后，用適當(dāng)然后，用適當(dāng)?shù)幕罨椒?，常用碰撞誘導(dǎo)解離（的活化方法，常用碰撞誘導(dǎo)解離（collision-induced dissociation, CID）使這一離子裂解生成產(chǎn)物離子（使這一離子裂解生成產(chǎn)物離子（product ions）或稱為子離或稱為子離子（子（daughter ions）及中性碎片：及中性碎片： mp+ mf + + mn 式中，式中，mp+ 為前體離子

36、，為前體離子，mf + 為產(chǎn)物離子，為產(chǎn)物離子，mn為中性碎片，第二級為中性碎片，第二級質(zhì)譜用于分析產(chǎn)物離子。質(zhì)譜用于分析產(chǎn)物離子。74 碰撞誘導(dǎo)解離碰撞誘導(dǎo)解離 （collision-induced dissociation, CID） 串級質(zhì)譜儀的碰撞池可用四極、六極或八極，工作于射頻（RF-only）模式。這樣，可以聚焦因碰撞而離散的離子。激發(fā)能通常為振動態(tài)，如m/z 200，能量為30eV的離子與靶相互作用時(shí)間約10-14s，相當(dāng)于鍵的振動周期。常用的碰撞氣為氬氣。碰撞產(chǎn)率較高，一方面因?yàn)槭荝F-only有良好的聚焦特性，另一方面是碰撞池較長可產(chǎn)生多次碰撞。 碰撞氣要求：Ar ，純度

37、99.99% 鋼瓶減壓閥壓力： 350450kpa75第四部分第四部分 三重四極桿質(zhì)譜儀工作模式三重四極桿質(zhì)譜儀工作模式76FASST 同時(shí)采集 MRM and Q3SCAN ，既可以得到 MRM定量結(jié)果 ，也可以得到Q3Scan定性信息.在 GC-MS/MS中, Q1 和 Q3有不同的采集模式的組合 Q1 Q3Q3SCAN Through ScanQ3SIM Through SIMProduct Ion Scan SIM ScanPrecursor Ion Scan Scan SIMMRM SIM SIMNeutral Loss Scan Scan ScanGCGC- -MS/MSMS/MS

38、采集模式采集模式與單四極氣質(zhì)全掃描模式一致定性定量定性+定量與單四極氣質(zhì)SIM模式一致碰撞氣開啟- 所有采集模式都可使用.碰撞氣關(guān)閉- 只有 Q3Scan and Q3SIM 可用.77單四極質(zhì)譜采集模式單四極質(zhì)譜采集模式SIMScanRF OnlyRF OnlyRF OnlyRF OnlyScanRF OnlySIMRF OnlyRF Only*超快速掃描 (with ASSP)*與QP2010系列有很好匹配度RF OnlyQ1ScanQ3ScanQ1SIMQ3SIM推薦Q1Q3Collision Cell推薦78MRM (MS/MS MRM (MS/MS 采集模式采集模式) ) 用來進(jìn)行復(fù)

39、雜基質(zhì)中痕量化合物定量79MRMCIDSIMSIMSelectionInterferingchemicalTargetdetectionSelectionSelectionTargetCID Interferingchemicaldetection干擾化學(xué)噪音: 檢出MRM (MS/MS MRM (MS/MS 采集模式采集模式) )Q1Q3Collision Cell干擾化學(xué)噪音: 未檢出響應(yīng)值高. 但是背景噪音同樣較高.背景噪音降低. S/N 變高.SIMMRM（MS/MS)80產(chǎn)物離子掃描產(chǎn)物離子掃描 (MS/MS (MS/MS 采集模式采集模式) )81M+m1+m2+m3+m/zDet

40、ectorMS1SIMMS2ScanM+CIDm1+m2+m3+Collision CellRF only + Ar 用于確定MRM的Q3離子前體離子掃描前體離子掃描 (MS/MS (MS/MS 采集模式采集模式) )82 尋找產(chǎn)生特定碎片離子的化合物Ma+m+m/zMc+DetectorMS1ScanMS2SIMCIDCollision CellRF only + ArMa+Mb+Mc+m+83中性丟失掃描中性丟失掃描(MS/MS (MS/MS 采集模式采集模式) )Q1和 Q3 均采用掃描模式，Q3采集的m/z為Q1 采集的m/z減去特定的中性丟失質(zhì)量 可以篩查能產(chǎn)生特殊中性丟失的化合物M

41、a+m/zmMa-m+Mc-m+Mc+mDetectorMS1ScanMS2ScanCIDmMa-m+Collision CellRF only + ArMc-m+mnMb-m+84軟件中的設(shè)置軟件中的設(shè)置8485GC-GC-MS/MSMS/MS的基本術(shù)語的基本術(shù)語85n Dwell time（駐留時(shí)間）是測定目標(biāo)成分的數(shù)據(jù)采集時(shí)間。多組分同時(shí)分析等同時(shí)測定多個(gè)化合物時(shí)，隨著目標(biāo)成分?jǐn)?shù)的增加，分配到每1成分的Dwell time變短。于是成分可采集的離子數(shù)變少、數(shù)據(jù)的重現(xiàn)性、色譜圖形狀變差。通常原則是保證足夠的點(diǎn)數(shù)(15點(diǎn)以上）的前提下盡可能使用大的Dwell time。n Pause tim

42、e（延遲時(shí)間，Adjust Time）多組分同時(shí)分析等同時(shí)測定多個(gè)化合物時(shí)，需要邊切換測定條件邊進(jìn)行分析，此切換所使用的時(shí)間稱為Pause time。在Pause time中不采集數(shù)據(jù)，因此越短越好。n Event time一個(gè)Event中的各個(gè)通道的檢測時(shí)間之和。通常一個(gè)Event對應(yīng)一個(gè)化合物，一個(gè)Event至少包含2個(gè)通道，1個(gè)定量離子對和1個(gè)定性離子對通道。每個(gè)通道的時(shí)間等于Dwell time與Pause time之和。n Loop time循環(huán)時(shí)間，即一個(gè)Group中所有Event時(shí)間之和。86幾個(gè)時(shí)間關(guān)系幾個(gè)時(shí)間關(guān)系MRM測定一個(gè)Group中化合物BD 3個(gè)組分化合物B B B

43、C化合物C C D化合物D D B化合物B測定中切換中Pause TimePause TimePause TimePause TimeDwell TimeDwell TimeDwell TimeDwell TimeEvent TimeLoop TimeGroup 1Group 2Group 3Group 4Event 1Event 1Event 2Event 3Event 1Event 2Event 1Group 1Group 2Group 3 Group 4Group 1Group 2Event 1 (Compound A)Group 3Group 4Event 1 (Compound B)

44、Event 2 (Compound C)Event 3 (Compound D)Event 1 (Compound E)Event 2 (Compound F)Event 1 (Compound G)Event 1Event 2Event 3ABCDEFG方法數(shù)據(jù)87 Group：時(shí)間 Event :事件（最小3ms，每增加一個(gè)離子最小增加1ms 最大16ch/Event）* Max 64 events in one group.* Max 2048 events in one method.* Max 32768 MRM in one run.GCGC- -MS/MSMS/MS方法設(shè)定方法設(shè)

45、定Group 1Group 2Group 3Group 4Event 1Event 1Event 2Event 3Event 1Event 2Event 188圖譜認(rèn)識圖譜認(rèn)識TIC: Total Ion Chromatogram 總離子流圖總離子流圖MS: Mass Spectrum 質(zhì)譜圖質(zhì)譜圖MC: Mass Chromatogram 質(zhì)量色譜圖質(zhì)量色譜圖MIC: Mixed Ion Chromatogram 加和離子流圖加和離子流圖 （指定質(zhì)量數(shù)范圍內(nèi)的（指定質(zhì)量數(shù)范圍內(nèi)的“總總”離子流圖）離子流圖） MS（-六六六）TIC&MC501001502000.025.050.075

46、.0100.0%1812191112215177147121156619613318716920789色譜圖和質(zhì)譜圖色譜圖和質(zhì)譜圖m/zRetention time90第五部分 調(diào)諧91MS的調(diào)整（調(diào)諧，的調(diào)整（調(diào)諧，Tuning） 所有調(diào)整都可利用工作站軟件完成所有調(diào)整都可利用工作站軟件完成v靈敏度調(diào)整v分辨率調(diào)整v質(zhì)量數(shù)校正v相對強(qiáng)度校正92調(diào)諧用標(biāo)樣（調(diào)諧用標(biāo)樣（PFTBA）m/z 相對強(qiáng)度 69 100.0131 26.0219 32.0414 2.0502 2.0614 0.4CF3 -CF2 -CF2 -CF2 -N -C4F9 C4F993調(diào)諧設(shè)置調(diào)諧設(shè)置l基本與QP2010系列

47、配置一致l首先，選擇選擇 “使用 CID 氣” ( 當(dāng)三重四極桿GC-MS/MS使用時(shí)) 不選擇“使用 CID 氣” ( 當(dāng)單四極桿GCMS使用時(shí))94CIDCID氣體開閉設(shè)置氣體開閉設(shè)置l只使用Q3 Scan或Q3 SIM時(shí)，建議關(guān)閉CID氣體。lQ3 Scan分析時(shí)CID氣體打開相對于CID氣體關(guān)閉時(shí)靈敏度略有下降95黑線 : Gas ON紅線: Gas OFFCIDCID氣體開閉設(shè)置氣體開閉設(shè)置lQ3 Scan分析，CID氣體打開和CID氣體關(guān)閉質(zhì)譜圖稍有不同l高質(zhì)量數(shù)在CID氣體打開時(shí)靈敏度略低96501001502002503003504004500.000.250.500.751.

48、00(x10,000)1057717713051159313285208239328405373429460501001502002503003504004500.000.250.500.751.00(x10,000)1057717751313130159285208240270341415357452395379Gas ONGas OFFCIDCID氣體自動開閉氣體自動開閉971.自動調(diào)諧2.Q3Scan 數(shù)據(jù)采集3.MRM 數(shù)據(jù)采集GCMSsolution Ver.4.20Gas OFFGas OFFGas ONGas ONCID gas ON 和CID gas OFF 兩個(gè)狀態(tài)依次調(diào)諧，

49、調(diào)諧結(jié)果保存在一個(gè)文件中。不需要改變系統(tǒng)配置根據(jù)數(shù)據(jù)采集模式自動打開或關(guān)閉CID gasQ3Scan 和 Q3SIM : Gas OFFMRM 及其它采集模式: Gas ONCID gas 狀態(tài)&自動調(diào)諧結(jié)果(CID gas ON)lm/z 40 (m/z 40 (氬氣氬氣) ) 是基峰。是基峰。l下圖顯示的是以下圖顯示的是以m/z 131 (PFTBA) m/z 131 (PFTBA) 進(jìn)行歸一化后的譜圖。進(jìn)行歸一化后的譜圖。98m/z 40自動調(diào)諧結(jié)果Q3Q1CID氣體打開時(shí)，輸出Q1和Q3調(diào)諧結(jié)果。CID氣體關(guān)閉時(shí)，只輸出Q3調(diào)諧結(jié)果。一般情況，只需確認(rèn)Q3調(diào)諧結(jié)果。99峰值檢測

50、（真空泄露檢查）l進(jìn)行真空泄露檢查（進(jìn)入峰監(jiān)測窗口）時(shí)，即使系統(tǒng)配置中選擇了使用CID氣，CID gas 也將自動關(guān)閉。CID gas 自動關(guān)閉后進(jìn)行峰監(jiān)測100第六部分第六部分 儀器參數(shù)設(shè)置儀器參數(shù)設(shè)置分析方法的建立分析方法的建立101分析方法分析方法v 儀器參數(shù)儀器參數(shù)v GC參數(shù): 色譜柱、流量、溫度等v MS參數(shù): 溫度、檢測器電壓、掃描范圍等v 數(shù)據(jù)處理參數(shù)數(shù)據(jù)處理參數(shù)v 積分參數(shù)：峰寬、斜率等v 定性參數(shù)：相似性檢索譜庫等v 定量參數(shù)：計(jì)算方法、校正級別、組分表等102積分參數(shù)積分參數(shù)積分參數(shù)積分參數(shù) 峰寬：WIDTH 斜率：SLOPE 漂移：DRIFT 變參時(shí)間：T.DBL注：G

51、CMS中主要采用質(zhì)量色譜圖定量，基本不用考慮漂移和變參時(shí)間。103v 去除高頻噪聲(電磁干擾）WH/2定量結(jié)果最為準(zhǔn)確v內(nèi)標(biāo)物必須準(zhǔn)確添加入所有未知樣品中。未知樣+IS:100ppm1L組分 A1濃度比1.2面積比0.70.58標(biāo)樣 1L組分A:100ppm內(nèi)標(biāo):100ppm組分 A峰面積12001000面積比1.2內(nèi)標(biāo)：IS內(nèi)標(biāo)：IS峰面積7001000面積比 0.7組分 A 的濃度為： 未知樣中的內(nèi)標(biāo)濃度:100ppmX濃度比:0.58=58ppm內(nèi)標(biāo)法內(nèi)標(biāo)法115內(nèi)標(biāo)物的選擇內(nèi)標(biāo)物的選擇v內(nèi)標(biāo)物峰與試樣中所有成分的峰完全分離。v內(nèi)標(biāo)物峰與目標(biāo)成分峰保留時(shí)間不應(yīng)差太遠(yuǎn)。v內(nèi)標(biāo)物具有與分析目

52、標(biāo)成分類似的化學(xué)性質(zhì)。116GCMS分析步驟（分析步驟（I）一、開機(jī)順序一、開機(jī)順序 1、打開氦氣瓶，將分壓表調(diào)到0.7-0.8Mpa之間；打開氬氣瓶，將分壓表調(diào)至0.35-0.45Mpa之間。2、打開氣譜電源開關(guān)。 3、打開質(zhì)譜儀電源開關(guān)。 4、打開計(jì)算機(jī)。 二、進(jìn)入系統(tǒng)及檢查系統(tǒng)配置二、進(jìn)入系統(tǒng)及檢查系統(tǒng)配置 1、雙擊GCMS real time analysis 圖標(biāo)，進(jìn)入實(shí)時(shí)分析窗口。 2、如需修改系統(tǒng)配置，單擊助手欄中system configuration，設(shè)定系統(tǒng)配置（CID gas狀態(tài)） ，退出。 三、系統(tǒng)啟動三、系統(tǒng)啟動1、單擊助手欄中vacuum control圖標(biāo) 2、單

53、擊 Auto startup 按鈕 四、方法編輯四、方法編輯 1、單擊助手欄中的Date Acquisition圖標(biāo)后進(jìn)入了方法編輯中，設(shè)定自動進(jìn)樣器、 GC和MS的參數(shù)，保存方法。2、選擇 Acquisition菜單下的Dowmload Initial Parameter下傳參數(shù) 117五、調(diào)諧五、調(diào)諧1、單擊助手欄中的Tuning圖標(biāo)，進(jìn)入調(diào)諧窗口2、系統(tǒng)檢漏：單擊Peak monitor view圖標(biāo)，在Monitor選項(xiàng)中選擇Water,air組， 打開燈絲，檢查水峰、氮峰和氧峰。3、調(diào)協(xié)：新建調(diào)諧文件，點(diǎn)擊Start Auto Tuning圖標(biāo)進(jìn)行調(diào)諧，完成后保存調(diào)協(xié)文件六、樣品測定

54、操作六、樣品測定操作 1、單擊助手欄中Data Acquisition 中的 Sample login ，登錄樣品信息。2、單擊Standby按鈕，待GC、MS均Ready后，按Start按鈕，進(jìn)樣分析。 七、后處理操作七、后處理操作 1、雙擊GCMS Postrun Analysis 圖標(biāo)打開后處理窗口2、在Data explorer 窗口中雙擊要處理的數(shù)據(jù)文件名稱3、打開數(shù)據(jù)后進(jìn)行定性或定量處理 八、關(guān)機(jī)八、關(guān)機(jī) 1、日常關(guān)機(jī)（節(jié)能模式）： 選擇實(shí)時(shí)分析窗口中的Ecology Mode。2、完全關(guān)機(jī)： 單擊助手欄中的Vacuum control，單擊Auto shutdown。GCMS分析

55、步驟（分析步驟（IIII）118第七部分第七部分 常見問題常見問題GCMSGCMS常見問題與解決方案常見問題與解決方案119不分流襯管只可用于不分流進(jìn)樣嗎？不分流襯管只可用于不分流進(jìn)樣嗎？v 不分流襯管是不分流襯管是GCMS分析中最常用的一種襯管，不僅可以分析中最常用的一種襯管，不僅可以用于不分流進(jìn)樣方式，也可用于分流進(jìn)樣方式，但當(dāng)使用用于不分流進(jìn)樣方式，也可用于分流進(jìn)樣方式，但當(dāng)使用大分流比（大于大分流比（大于50:1）進(jìn)樣時(shí)，建議使用分流襯管。）進(jìn)樣時(shí)，建議使用分流襯管。120影響燈絲使用壽命的因素？影響燈絲使用壽命的因素？v 真空度是否良好。一般情況下真空啟動半小時(shí)后才能打開燈絲，如真空

56、度不好時(shí)打開燈絲，會加快燈絲消耗。v 真空是否存在漏氣，如果真空漏氣會加快燈絲的氧化和消耗。v 樣品濃度會影響燈絲的壽命，如果長期分析高濃度樣品會加快燈絲消耗。v 燈絲與離子源應(yīng)安裝在正確位置，如果位置有偏差，會導(dǎo)致燈絲變形而縮短壽命。v 如果溶劑切除時(shí)間設(shè)置不合適，在出溶劑時(shí)打開燈絲，會加快燈絲消耗。v 如果清洗離子源時(shí)離子源上下兩個(gè)電子導(dǎo)入孔清洗不干凈，會導(dǎo)致電子導(dǎo)入效率降低，從而加快燈絲消耗。121怎樣將怎樣將Vespel壓環(huán)從色譜柱螺母中取出壓環(huán)從色譜柱螺母中取出v Vespel壓環(huán)經(jīng)過柱溫箱長期高溫烘烤后被燒結(jié)在柱螺母中而無法重復(fù)使用，將Vespel壓環(huán)從柱螺母中取出的辦法是：利用隨

57、機(jī)附件中的標(biāo)準(zhǔn)工具沖頭以及錘子等工具，按下圖方法取出。122調(diào)諧無法通過如何解決？調(diào)諧無法通過如何解決？v 確認(rèn)真空啟動的時(shí)間和真空度，真空一般啟動兩小時(shí)后才達(dá)到比較穩(wěn)定的狀態(tài)。使用常規(guī)色譜柱時(shí)，真空度應(yīng)小于3*10E-3Pa后才能達(dá)到比較穩(wěn)定的調(diào)諧結(jié)果。v 進(jìn)行自動調(diào)諧前，需在峰監(jiān)測窗口中確認(rèn)系統(tǒng)是否漏氣。v 調(diào)諧無法通過時(shí)，是否顯示“燈絲已經(jīng)耗盡”的錯(cuò)誤信息。若有則需更換新的燈絲后再調(diào)諧。v 檢查離子源、燈絲的安裝位置是否正確。v 檢查離子源是否污染，如果長時(shí)間未進(jìn)行離子源清洗，先清洗離子源后再調(diào)諧。v 儀器使用年限較長的情況下，檢查PFTBA剩余量是否過少。少于20%時(shí)需要添加PFTBA

58、，添加后調(diào)諧液量不要超過70%。v 檢查色譜柱伸入MS接口的長度是否與標(biāo)尺一致。v 如果通過上述檢查依然無法解決問題，請聯(lián)系島津公司維修站。123GCMS通常可以檢測樣品的濃度范圍是多少？通常可以檢測樣品的濃度范圍是多少？v Scan方式一般測定樣品濃度范圍是1100 g/mL (ppm)。通過濃縮、稀釋樣品或更改分流比使樣品在上述濃度范圍內(nèi)檢測。v SIM方式的靈敏度比Scan方式靈敏度高一個(gè)數(shù)量級以上，可以分析濃度更低的樣品，比如ppb級別的樣品。v MRM方式靈敏度比SIM方式信噪比更高、抗干擾能力更強(qiáng)，適用于復(fù)雜基質(zhì)中痕量化合物的定量分析。124分析重現(xiàn)性不良的原因有哪些？分析重現(xiàn)性不

59、良的原因有哪些？v 確認(rèn)樣品是否完全溶解，在常溫下是否穩(wěn)定，玻璃襯管和石英棉對樣品是否有吸附。v 檢查自動進(jìn)樣器進(jìn)樣針是否正確安裝，進(jìn)樣針是否堵塞，進(jìn)樣桿推動是否順暢，進(jìn)樣時(shí)針內(nèi)是否有微小氣泡。v 檢查進(jìn)樣口是否泄漏，進(jìn)樣隔墊是否已經(jīng)超過使用次數(shù)，襯管O形圈是否已經(jīng)破損，進(jìn)樣口螺母是否擰緊。v 檢查玻璃襯管是否破損或嚴(yán)重污染，及時(shí)更換或清洗。v 進(jìn)樣口溫度設(shè)定是否合適，保證樣品可以完全氣化且無分解。v 檢查色譜柱兩端的伸入長度是否與標(biāo)尺一致，色譜柱的接頭是否擰緊。v 質(zhì)譜部分確認(rèn)真空啟動的時(shí)間及真空度，真空一般在啟動兩小時(shí)后達(dá)到穩(wěn)定的狀態(tài)。v 離子源存在污染會造成重現(xiàn)性不良，應(yīng)及時(shí)清洗離子源。

60、v 在峰監(jiān)測窗口檢查是否存在漏氣。v CI、NCI模式下進(jìn)行樣品分析時(shí)要保證反應(yīng)氣穩(wěn)定，才能得到良好的重現(xiàn)性。125如何確定一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)曲線是否可以正常使用？如何確定一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)曲線是否可以正常使用？v 如何確定以前建立的標(biāo)準(zhǔn)曲線是否還可以正常使用？ 方法很簡單，同樣分析建立標(biāo)準(zhǔn)曲線時(shí)的標(biāo)準(zhǔn)樣品（確保此標(biāo)準(zhǔn)樣品沒有分解或被濃縮、稀釋等），用標(biāo)準(zhǔn)曲線對其定量分析，看定量結(jié)果與標(biāo)準(zhǔn)含量是否偏差過大，如偏差不大（在允許偏差范圍內(nèi),一般建議為小于10%）標(biāo)準(zhǔn)曲線可以繼續(xù)使用，如偏差過大，建議重新建立標(biāo)準(zhǔn)曲線。126第八部分第八部分 儀器維護(hù)儀器維護(hù)GCMSGCMS日常維護(hù)日常維護(hù)127v載氣載氣v進(jìn)樣口進(jìn)樣口 進(jìn)樣墊 玻璃襯管v流