22 電池制造工藝 硅片的化學(xué)腐蝕

1、硅片的化學(xué)腐蝕.為什么要進(jìn)展化學(xué)腐蝕？硅片在切片和研磨等機(jī)械加工之后，其外表因加工應(yīng)力構(gòu)成一層損傷層及污染對硅片進(jìn)展化學(xué)腐蝕有哪些手段？酸性腐蝕堿性腐蝕.酸性腐蝕的原理是什么？常用的酸性腐蝕液，通常由不同比率的硝酸HNO3,氫氟酸HF及緩沖液等組成，其腐蝕的機(jī)理為：1.利用硝酸HNO3氧化硅片外表 Si+2HNO3SiO2+2HNO2 2HNO2NO+NO2+H2O2.利用氫氟酸HF與氧化硅生成可溶于水的絡(luò)合物 SiO2+6HFH2SiF6+2H2O.HF/HNO3體系化學(xué)品濃度與其腐蝕速率關(guān)系？假設(shè)HF含量多，那么腐蝕速率受氧化反響控制.氧化對硅片晶向，攙和濃度和晶體缺陷較敏感假設(shè)HNO3含

2、量多，那么腐蝕速率受反響生成物溶解速率的限制溶解過程是一種分散過程，會(huì)遭到液體對流速度的影響.HF/HNO3體系腐蝕設(shè)計(jì)的原那么？腐蝕速率的可控性某種外表構(gòu)造特殊工藝需求，如多晶絨面制造尋求添加劑，使腐蝕速率更可控，可滿足高產(chǎn)能的需求.HF/HNO3體系中的添加劑有什么作用？緩沖腐蝕速率改善外表濕化Wetting程度加速腐蝕速率目的可采用化學(xué)藥品原因緩沖腐蝕速率水（H2O）,醋酸（CH3COOH）,磷酸（H3PO4）濃度稀釋加速腐蝕速率亞硝酸鈉（Na2NO2）,氟硅酸（H2SiF6）反應(yīng)中間產(chǎn)物.HF/HNO3體系的緩沖添加劑選擇條件？在HF/HNO3中化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定在腐蝕過程中，不會(huì)與反響產(chǎn)物

3、發(fā)生進(jìn)一步反響可溶解在HF/HNO3之中可以濕化晶片外表不會(huì)產(chǎn)生化學(xué)泡沫.堿性腐蝕的原理是什么？常用的堿性腐蝕化學(xué)藥品為KOH或NaOH，其腐蝕的機(jī)理為： Si+2KOH+H2O K2SiO3+2H2.堿腐蝕速率影響要素？外表懸掛鍵密度，與晶向有關(guān)化學(xué)濃度溫度外表機(jī)械損傷.硅片在化學(xué)腐蝕后的外表特性？TTVTotal Thickness VariationTIRTotal Indicator Reading粗糙度Roughness反射度Reflectivity波度Waviness金屬含量.太陽能電池中的硅片化學(xué)腐蝕硅外表制絨和邊緣刻蝕.為什么要制造絨面？光在非垂直入射至硅外表，會(huì)發(fā)生反射景象，

4、為了降低光反射，加強(qiáng)光吸收，需求在硅外表構(gòu)成絨面為什么降低反射會(huì)添加光的吸收由于需求滿足能量守恒定律光反射光吸收光透射光總能量.堿腐蝕在絨面制造上的運(yùn)用？利用KOH或NaOH在腐蝕單晶硅片時(shí)在不同晶向腐蝕速率的差別性不同晶向的刻蝕速率為 不同晶向腐蝕速率的差別各向異性腐蝕與什么有關(guān)？溶液濃度，有關(guān)系，但關(guān)系不大，由于腐蝕過程受外表過程控制溫度,溫度越低，腐蝕速率差別越大添加劑，如異丙醇IPA，通常用來減緩刻蝕速率.酸腐蝕在絨面制造上的運(yùn)用？利用HF/HNO3在較高化學(xué)濃度比時(shí)的缺陷腐蝕特性，使損傷層區(qū)域優(yōu)先腐蝕，構(gòu)成不同于單晶金字塔構(gòu)造的坑洞構(gòu)造.化學(xué)腐蝕在外表拋光處置上的運(yùn)用什么是拋光？拋光指構(gòu)成完全反射的外表，即鏡面化學(xué)拋光的原理？對硅片外表的均勻刻蝕拋光化學(xué)藥液的配置通?？梢赃\(yùn)用HF/HNO3或KOH溶液.化學(xué)腐蝕在邊緣刻蝕上的運(yùn)用？通常運(yùn)用HF/HNO3體系，利用其各向同性腐蝕特性，可以在特定設(shè)備條件下完成對硅片邊緣的