光刻膠-國(guó)產(chǎn)化重大機(jī)遇開(kāi)啟

1、 光刻膠：國(guó)產(chǎn)化重大機(jī)遇開(kāi)啟 ? 歡迎探索:行行查（行業(yè)數(shù)據(jù)庫(kù)）：樂(lè)晴智庫(kù)（深度研報(bào)精選）：據(jù)財(cái)政部網(wǎng)站信息，財(cái)政部等四部委于16日發(fā)布關(guān)于促進(jìn)集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展企業(yè)所得稅政策的公告，明確對(duì)有關(guān)企業(yè)所得稅進(jìn)行減免。國(guó)產(chǎn)芯片和軟件行業(yè)重磅利好落地，最高可享10年免所得稅，追溯至今年1月1日起施行。此外，南大光電官宣公司研發(fā)的ArF光刻膠已獲得客戶使用通過(guò)認(rèn)證，機(jī)構(gòu)稱國(guó)產(chǎn)替代迎來(lái)前所未有的發(fā)展機(jī)遇。光刻膠成本約占整個(gè)芯片制造工藝的30%，耗費(fèi)時(shí)間約占整個(gè)芯片制造工藝的40%-60%，是半導(dǎo)體制造中最核心的工藝，決定了半導(dǎo)體圖形工藝的精密程度和良率。在光刻工藝中，光刻膠被涂抹在襯底上，

2、光照或輻射通過(guò)掩膜板照射到襯底后，光刻膠在顯影溶液中的溶解度便發(fā)生變化，經(jīng)溶液溶解可溶部分后，光刻膠層形成與掩膜版上完全相同的圖形，再通過(guò)刻蝕在襯底上完成圖形轉(zhuǎn)移。光刻膠下游應(yīng)用主要為PCB、顯示面板、LED和半導(dǎo)體，集成電路光刻對(duì)線寬、設(shè)備和材料要求最高，PCB要求最低。從全球光刻膠的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)格局來(lái)看，由于技術(shù)壁壘和客戶壁壘高，光刻膠市場(chǎng)主要由日美企業(yè)主導(dǎo)。全品類光刻膠市場(chǎng)中，全球前五大廠商就占據(jù)了光刻膠市場(chǎng)87%的份額。其中，日本四家廠商?hào)|京應(yīng)化、JSR、信越化學(xué)、富士膠片占據(jù)了72%的市場(chǎng)份額。先進(jìn)的高分辨率KrF和ArF半導(dǎo)體光刻膠已占全球半導(dǎo)體光刻膠的63%，該核心技術(shù)亦被日本和美國(guó)

3、企業(yè)壟斷，其中日本廠商占KrF光刻膠的市場(chǎng)份額達(dá)到了83%，占ArF光刻膠的市場(chǎng)份額達(dá)到了91%。在EUV光刻膠方面，日本公司富士膠片、信越化學(xué)、住友化學(xué)專利數(shù)排名前三位，前十大企業(yè)中七席被日本公司占據(jù)。日本光刻膠企業(yè)在全球光刻膠市場(chǎng)中占據(jù)絕對(duì)的支配地位。光刻膠隨著半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模的擴(kuò)張保持著同比例變動(dòng)，隨著半導(dǎo)體制程節(jié)點(diǎn)不斷縮小，光刻工藝對(duì)光刻膠要求越來(lái)越高，需求量也越來(lái)越大。2019年全球半導(dǎo)體光刻膠的市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到17.7億美元，隨著下游應(yīng)用功率半導(dǎo)體、傳感器、存儲(chǔ)器等需求的擴(kuò)大，預(yù)計(jì)2022年全球半導(dǎo)體光刻膠的市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到18億美元。從全球市場(chǎng)來(lái)看，LCD光刻膠占比較高，為26.6%，但

4、中國(guó)光刻膠市場(chǎng)集中于技術(shù)水平較低的PCB領(lǐng)域，占比達(dá)94.4%，LCD光刻膠和半導(dǎo)體光刻膠所占份額非常低；高端半導(dǎo)體光刻膠占比最小，僅為1.6%。目前國(guó)內(nèi)光刻膠自給率僅10%，主要集中于技術(shù)含量相對(duì)較低的PCB領(lǐng)域。G線、I線光刻膠的自給率約為20%，KrF光刻膠的自給率不足5%，12寸硅片的ArF光刻膠目前尚無(wú)國(guó)內(nèi)企業(yè)可以大規(guī)模生產(chǎn)。國(guó)內(nèi)光刻膠主要企業(yè)包括南大光電、晶瑞股份、上海新陽(yáng)、北京科華等。KrF光刻膠僅北京科華實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，晶瑞股份完成中試，上海新陽(yáng)處于研發(fā)階段。極紫外EUV光刻膠僅北京科華研發(fā)，通過(guò)02專項(xiàng)驗(yàn)收。ArF光刻膠材料是集成電路制造領(lǐng)域的重要關(guān)鍵材料，可以用于90nm-14nm甚至7nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的集成電路制造工藝，廣泛應(yīng)用于高端芯片制造。ArF光刻膠北京科華和上海新陽(yáng)處于研發(fā)階段。南大光電12月17日公告稱，公司控股子公司寧波南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品近日成功通過(guò)客戶的使用認(rèn)證，這標(biāo)志著“ArF光刻膠產(chǎn)品開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目取得了關(guān)鍵性的突破，成為國(guó)內(nèi)通過(guò)產(chǎn)品驗(yàn)證的第一只國(guó)產(chǎn)ArF光刻膠。中國(guó)光刻膠市場(chǎng)本土供應(yīng)量增速高于全球平均水平，發(fā)展空間巨大。受益于本土半導(dǎo)體產(chǎn)能持續(xù)擴(kuò)大和集成電路大基金的支持，國(guó)產(chǎn)光刻膠正在迎來(lái)前所未有的發(fā)展機(jī)遇。行業(yè)研