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文檔簡介
1、磁共振 MRI 質量控制檢測操作細則為規(guī)范實磁共振MRI 檢測,參照衛(wèi)生標準醫(yī)用磁共振成像(MRI )設備影像質量檢測與評價規(guī)范( WS /T263-2006) ,結合我單位檢測設備,制定磁共振MRI 質量控制檢測操作細則共振頻率在所有梯度場關閉的情況下,將檢驗模體置于磁體的等中心; 調節(jié)射頻(RF)合成器的中心頻率,使磁共振(MR)信號達到最大。MR言號 達到最大時的射頻(RF)合成器的中心頻率即為 MRI設備的共振頻率??梢岳糜嬎銠C軟件功能程序化調節(jié)和測量其共振頻率,并應每天記錄,以便分析其變化趨勢。信噪比 SNR將檢驗模體水平置于頭線圈內置于選體的等中心位置,模體的中心同 RF 線圈的
2、中心近似重合。選擇掃描參數(shù),對模體的溢流層掃描成像。幾何畸變率在用規(guī)則模體(如方形或圓柱形) 獲得的自旋回波影像上,應用計算機軟件測距功能. 測量方形影像的對角線和長與寬, 或測量圓形影像的若干直徑, 對于由棒或孔排列組成的線性模體影像,可以測定這些物體間的距離計算幾何畸變率。高對比空間分辨力采用檢驗物目視評價法。在檢驗模體分辨力插件上有規(guī)則分布的4排 (或 6排 )方形或圓形小孔,邊長(或直徑 )可分別為 : 0.5mm、0.75mm 1.0mm 1.25mm l.5mm、2.0mm,或亥ll制有高分辨力的圖案。在分辨力插件影像上,通過調節(jié)窗寬(WW)口窗位(WL),直至將每-掃描 平面影像
3、上孔的行距、間隔清晰地分辨并區(qū)分開來, 此時的孔徑或能分辨清楚的最大線對數(shù),即為MRI設備影像掃描平面上的高對比空間 分辨率。影像均勻性在溢流層影像上75燼域(通常距影像邊緣1cm)內,利用計算機 軟件影像分析功能分別測量若干個感興趣區(qū)(ROI)內的像素強度平均 值,一般測定10個ROI的數(shù)值。層厚測量層厚的模塊都是做成斜面, 斜面的表面與掃描平面形成一個角度 (?) 。 在斜面影像上, 應用計算機影像分析軟件功能,測量斜面影像的像素強度的剖面分布曲線。在剖面分布曲線上測定峰值一半的全寬度FWHM層厚非均勻性在層厚影像上測量48 個層厚值 , 計算其標準偏差作為層厚的非均勻性。縱橫比應使用具有
4、規(guī)則形狀的模體作為檢測工具, 如方形成像模體和圓柱形成像模體。成像模體為方形時,在視頻影像上分別測量量橫向和縱向的長度并比較其比值; 成像模體為圓柱形時,, 則測量 4 個直徑值井計算其比值,在持貝的膠片上測量的縱橫比與實際成像體比較, 檢查硬拷貝系統(tǒng)導致膠片影像發(fā)生幾何畸變的程度靜磁場均勻度采用目測定性檢驗方法:在FO 380mm*380mmH牛下,在模體正 方形格柵插件影像上目測評價靜磁場均勻度。超導磁體靜磁場的非穩(wěn)定性將均勻頭部模體置于頭線圈的中心部位, 選用種脈沖掃描序列掃描, 記錄產(chǎn)生共振時頻譜的共振中心頻率和掃描時間。t 小時后 ( 通常要求8h)在相同檢驗條件下進行重復檢驗,并記
5、錄同樣的數(shù)據(jù)。計算兩次掃描共振中心頒率的偏差,然后除以兩次測量之間的時間,即得到超導磁體靜磁場的非穩(wěn)定性。永磁體和常導磁體靜磁場的非穩(wěn)定性將均勿頭部模體置于頭線困的中心都位, 選用一種脈沖掃描序列掃描,記錄產(chǎn)生共振時頻譜的共振中心頻率和掃描時間,每間隔1h掃描,記錄產(chǎn)生共振時頻譜的共振中心頻率和掃描時間,每間隔重復測量1次.t小時后(通常要求8h)用公式計算磁場的非均勻性。影像偽影模體要求:模體應由一個產(chǎn)生信號的圓柱體組成,其直徑為2cm5cm即可。該小圓柱形模體應位于性測模體上成 45角對稱位置 的個相限內。性能檢測模體應有定位標志,并且直徑至少應n 10cm, 厚度應至少大于最大層厚的兩倍
6、。檢測方法:將性能檢測模體置于磁場等中心位置,小圓柱形模體位于FOV3偏離磁鐵等中心的一個象限內。 應用一個多層、多回波脈 沖掃描序列掃描成像,測定接收正交誤差和相位編碼誤差。由接收正交誤差引起的接收正交偽影與產(chǎn)生實信號的小模體方向正好相反( 小模體位于左上角, 則偽影將出現(xiàn)在右下角) 。 用偽影 ROI內的信號值相對于模體影像ROI 內信號值的百分偏差定量表示接收正交誤差。由相位編碼誤差引起的相位編碼偽影,將沿著影像的相位編碼方向以多重影像的方式位移。用偽影 ROI內的信號值相對于模體影像 ROT3信號值的百分偏差定是表示接收相位編碼誤差。制冷劑 ( 液氮 . 液氦 ) 揮發(fā)率檢測方法1: 在一定的時間周期內. 準確記錄制冷劑(液氮、液氮的消耗量和上
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