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X射線衍射分析實(shí)驗(yàn)陳德良博士副教授dlchen@10/29/20221DeliangChen,ZhengzhouUniversityX射線衍射分析實(shí)驗(yàn)陳德良博士副教授dlchen@zz1、實(shí)驗(yàn)?zāi)康募耙罅私釾射線衍射儀的結(jié)構(gòu)和工作原理;掌握X射線衍射物相定性分析的方法和步驟;初步了解X射線衍射定量分析的原理方法;給定實(shí)驗(yàn)樣品,設(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)方案,做出正確的定性分析鑒定結(jié)果。10/29/20222DeliangChen,ZhengzhouUniversity1、實(shí)驗(yàn)?zāi)康募耙罅私釾射線衍射儀的結(jié)構(gòu)和工作原理;10/22、實(shí)驗(yàn)原理當(dāng)X射線以角入射到原子面并以角散射時,相距為a的兩原子散射X射線的光程差為:2.1布拉格定律
=a(cos
-cos)根據(jù)光的干涉原理,當(dāng)光程差等于波長的整數(shù)倍(n)時,在角散射方向干涉加強(qiáng)。假定原子面上所有原子的散射線同位相,即光程差=0,從上式可得=。10/29/20223DeliangChen,ZhengzhouUniversity2、實(shí)驗(yàn)原理當(dāng)X射線以角入射到原子面并以角散射時,相當(dāng)入射角與散射角相等時,一層原子面上所有散射波干涉將會加強(qiáng)。與可見光的反射定律類似,X射線從一層原子面呈鏡面反射的方向,就是散射線干涉加強(qiáng)的方向。因此,將這種散射稱為從晶面反射。下面討論兩相鄰原子面的散射波的干涉:過D點(diǎn)分別向入射線和反射線作垂線,它們的光程差為:
=AB+BC=2dsin10/29/20224DeliangChen,ZhengzhouUniversity當(dāng)入射角與散射角相等時,一層原子面上所有散射波干涉將會加強(qiáng)。式中,d(hkl)——晶面間距;
——入射線、反射線與反射晶面之間的交角,稱掠射角或布拉格角;2——入射線與反射線(衍射線)之間的夾角,稱衍射角;
n——反射級數(shù),為整數(shù);——入射X線波長,與X射線管所用的靶材有關(guān)。當(dāng)光程差等于波長的整數(shù)倍時,相鄰原子面散射波加強(qiáng),即干涉加強(qiáng)條件為:2d(hkl)sin=n
上式即為布拉格定律或布拉格方程,它把衍射方向、平面點(diǎn)陣族的間距d(hkl)和X射線的波長
聯(lián)系在一起。10/29/20225DeliangChen,ZhengzhouUniversity式中,d(hkl)——晶面間距;當(dāng)光程差等于波長的整數(shù)倍時,當(dāng)波長一定時,對指定的某一族平面點(diǎn)陣(hkl)來說,n數(shù)值不同,衍射的方向也不同。n=1,2,3,……,相應(yīng)的衍射角為1,2,3,……,而n=1,2,3等衍射分別為一級、二級、三級衍射。為了區(qū)別不同的衍射方向,可將上式改寫為:[2d(hkl)sinn
]/n=
帶有公因子n的晶面指標(biāo)(nhnknl)是一組和(hkl)平行的晶面,晶面間距d(nhnknl)和相鄰兩個晶面的間距d(hkl)的關(guān)系為:d(nhnknl)=d(hkl)/n綜上有:2·d(nh
nk
nl)·sin(nhnknl)=因此,由(hkl)晶面的n級反射,可看成由面間距為d(hkl)/n的(nhnknl)晶面的1級反射。注意:面間距為d(nhnknl)的晶面不一定是晶體中的原子面,只是為了簡化布拉格公式而引入的反射面,常稱干涉面。10/29/20226DeliangChen,ZhengzhouUniversity當(dāng)波長一定時,對指定的某一族平面點(diǎn)陣(hkl)來說,n數(shù)值注意:(1)衍射指標(biāo)hkl不加括號,晶面指標(biāo)(hkl)帶有括號;(2)衍射指標(biāo)不要求互質(zhì),可以有公因子,而晶面指標(biāo)要互質(zhì),不能有公因子;(3)在數(shù)值上,衍射指標(biāo)為晶面指標(biāo)的n倍。式中hkl為衍射指標(biāo)。2·d(nh
nk
nl)·sin(nhnknl)=對于將晶面指標(biāo)(nhnknl)改用衍射指標(biāo)
hkl,則得到在X射線晶體學(xué)中現(xiàn)在通用的布拉格定律的表達(dá)式:2dhklsin
=
式中,hkl為衍射指標(biāo)。例如:晶面(110),由于它和入射X射線的取向不同,可以產(chǎn)生衍射指標(biāo)為110、220、330、……等的衍射。10/29/20227DeliangChen,ZhengzhouUniversity注意:(1)衍射指標(biāo)hkl不加括號,晶面指標(biāo)(hkl)帶有括由布拉格定律2dsin
=n可知,這就是能產(chǎn)生衍射的限制條件,說明用波長為的X射線照射晶體時,晶體中只有面間距d≥/2的晶面才能產(chǎn)生衍射。sin
=(n)/2d≤1考慮n=1(即1級反射)的情況時,/2≤d10/29/20228DeliangChen,ZhengzhouUniversity由布拉格定律2dsin=n可知,這就是能產(chǎn)生衍射的限2.2X射線的強(qiáng)度衍射線的強(qiáng)度不僅是確定晶體中原子排列位置所必須的依據(jù),而且在X射線物相分析時也是不可缺少的數(shù)據(jù)。由于入射X光束不嚴(yán)格平行(有一定發(fā)散度),加之,被研究的晶體也非嚴(yán)格的周期性格子,因此,某一組晶面“反射”X射線不可能是在嚴(yán)格角的方向,而是在與角相接近的一個小的角度范圍內(nèi),衍射線的強(qiáng)度分布如下圖所示?!胺瓷洹钡目偰芰考捶e分強(qiáng)度,與曲線下的面積成比例。衍射角10/29/20229DeliangChen,ZhengzhouUniversity2.2X射線的強(qiáng)度衍射線的強(qiáng)度不僅是確定晶體中原子排列位置晶體的衍射強(qiáng)度應(yīng)該為屬于該晶體所有電子相干散射波的總和。一個晶體可以看成若干個晶胞周期排列而成,而一個晶胞又由一些原子組成,原子則由原子核和繞核運(yùn)行的電子組成。因此,可以從一個電子、一個原子和一個晶胞的散射強(qiáng)度入手,然后將所有晶胞的散射波合成起來,就能求出一個小晶體的衍射強(qiáng)度。可以證明,在衍射hkl中,通過晶胞原點(diǎn)的衍射波與通過第j個原子(坐標(biāo)為xj,yj,zj)的衍射波的周相差為:j=2(hxj+kyj+lzj)。10/29/202210DeliangChen,ZhengzhouUniversity晶體的衍射強(qiáng)度應(yīng)該為屬于該晶體所有電子相干散射波的總和。一個若晶胞中有n個原子,每個原子散射波的振幅(即原子散射因子)分別為f1,f2,,fj,,fn,各原子的散射波與入射波的位相差分別為1,2,,j,,n。這n個原子的散射波相互疊加而形成的復(fù)合波,若用指數(shù)形式表示,可得:F=f1exp[i1]+f2exp[i2]++fjexp[ij]++fnexp[in]即式中,fj—第j個原子的原子散射因子;xj,yj,zj—第j個原子在晶胞中的分?jǐn)?shù)坐標(biāo);Fhkl—衍射hkl的結(jié)構(gòu)因子;Fhkl—結(jié)構(gòu)振幅。Fhkl
數(shù)值的物理意義:Fhkl
=10/29/202211DeliangChen,ZhengzhouUniversity若晶胞中有n個原子,每個原子散射波的振幅(即原子散射因子)分結(jié)構(gòu)因子包含兩方面數(shù)據(jù),即:結(jié)構(gòu)振幅Fhkl和相角hkl:因此,10/29/202212DeliangChen,ZhengzhouUniversity結(jié)構(gòu)因子包含兩方面數(shù)據(jù),即:結(jié)構(gòu)振幅Fhkl和相角衍射hkl的衍射強(qiáng)度Ihkl正比于Fhkl
2??芍?,結(jié)構(gòu)因子Fhkl是由晶體結(jié)構(gòu)決定的,即由晶胞中原子的種類和原子的位置決定,原子的種類由fj表示,原子的位置由xj,yj,zj表示。若結(jié)構(gòu)因子用復(fù)數(shù)表示,衍射強(qiáng)度Ihkl正比于Fhkl(=Ahkl
+i
Bhkl)和它的共軛復(fù)數(shù)F*hkl(=Ahkl
-i
Bhkl)的乘積:10/29/202213DeliangChen,ZhengzhouUniversity衍射hkl的衍射強(qiáng)度Ihkl正比于Fhkl2??芍Y(jié)計(jì)算四種基本類型點(diǎn)陣的結(jié)構(gòu)因子簡單點(diǎn)陣:簡單點(diǎn)陣無論hkl取什么值,F(xiàn)都等于f,即不等于零,故所有晶面都能產(chǎn)生衍射。每個晶胞中有2個同類原子,其坐標(biāo)分別為000,??0,原子散射因數(shù)為f,其結(jié)構(gòu)因數(shù)為:底心點(diǎn)陣:每個晶胞中有1個同類原子,其坐標(biāo)為000原子,散射因數(shù)為f,其結(jié)構(gòu)因數(shù)為:當(dāng)h+k=偶數(shù)時,exp[i(h+k)]=1,故F=2f;當(dāng)h+k=奇數(shù)時,exp[i(h+k)]=-1,故F=0。底心點(diǎn)陣晶面能否產(chǎn)生衍射,處決于h+k奇偶性,與l無關(guān)。10/29/202214DeliangChen,ZhengzhouUniversity計(jì)算四種基本類型點(diǎn)陣的結(jié)構(gòu)因子簡單點(diǎn)陣:簡單點(diǎn)陣無論hkl當(dāng)h+k+l=偶數(shù)時,F(xiàn)=2f;當(dāng)h+k+l=奇數(shù)時,F(xiàn)=0。體心點(diǎn)陣:每個晶胞有2個同類原子,其坐標(biāo)為000和???,原子散射因數(shù)為f,其結(jié)構(gòu)因數(shù)為:結(jié)果說明,對體心點(diǎn)陣來說,只有h+k+l為偶數(shù)的晶面才能產(chǎn)生衍射。10/29/202215DeliangChen,ZhengzhouUniversity當(dāng)h+k+l=偶數(shù)時,F(xiàn)=2f;體心點(diǎn)陣:每個晶胞有2個同類面心點(diǎn)陣:每個晶胞中有四個同類原子,其坐標(biāo)為000,??0,?0?,0??,原子散射因數(shù)為f,其結(jié)構(gòu)因數(shù)為:當(dāng)hkl為同性指數(shù)時,h+k、h+l和k+l全為偶數(shù),F(xiàn)=4f;當(dāng)hkl為異性指數(shù)時,則h+k、h+l和k+l中總有兩項(xiàng)為奇數(shù),一項(xiàng)為偶數(shù),F(xiàn)=0。說明,在面心點(diǎn)陣中,只有hkl為全奇或全偶數(shù)的晶面才能產(chǎn)生衍射。10/29/202216DeliangChen,ZhengzhouUniversity面心點(diǎn)陣:每個晶胞中有四個同類原子,其坐標(biāo)為000,??粉末法衍射線的積分強(qiáng)度
衍射強(qiáng)度理論證明,多晶體衍射環(huán)單位弧長上的積分強(qiáng)度由下式?jīng)Q定:Io—入射X射線強(qiáng)度;
—入射X射線波長(?);e,m
—電子的電荷與質(zhì)量;c
—光速;R—由試樣到照相底片上衍射環(huán)間的距離(cm);V
—試樣被入射X射線所照射的體積(cm3);v
—單位晶胞的體積(cm3);Fhkl
—結(jié)構(gòu)因子;
Phkl
—多重性因子;()—角因子;e-2M
—溫度因子;A()—吸收因子。式中,10/29/202217DeliangChen,ZhengzhouUniversity粉末法衍射線的積分強(qiáng)度衍射強(qiáng)度理論證明,多晶體衍射環(huán)單位弧I=KPLmTAFhkl2強(qiáng)度公式表達(dá)為:K—比例常數(shù),與入射光強(qiáng)度及其它實(shí)驗(yàn)條件有關(guān);P—偏極化因子;L—洛倫茨因子;T—溫度因子;A—吸收因子;m—多重因子。如果這些因子均為已知,則可從強(qiáng)度Ihkl中推出衍射hkl的結(jié)構(gòu)振幅Fhkl。10/29/202218DeliangChen,ZhengzhouUniversityI=KPLmTAFhkl2強(qiáng)度公式表達(dá)為:K—比例常數(shù),2.3X射線鑒定物相的原理布拉格定律是X射線在晶體中產(chǎn)生衍射所必須滿足的基本條件,它反映了衍射方向(用
描述)與晶體結(jié)構(gòu)(用d代表)之間的關(guān)系。該定律將便于測量的宏觀量與微觀量d、聯(lián)系起來。通過的測定,在已知的情況下可以求得d,反之亦然。每一種晶體物質(zhì)都具有它自己特定的晶體結(jié)構(gòu)和晶胞參數(shù)。由X射線衍射花樣上各線條的角度位置所確定的晶面間距d
以及它們的相對強(qiáng)度I/I0是物質(zhì)的固有特性。也就是說,不同物相的晶體通常將給出不同的X射線衍射花樣,即給出不同的衍射線束方向和強(qiáng)度。因此,可以像根據(jù)指紋來鑒別人一樣,根據(jù)衍射花樣可以用來鑒別晶體物質(zhì)。10/29/202219DeliangChen,ZhengzhouUniversity2.3X射線鑒定物相的原理布拉格定律是X射線在晶體中產(chǎn)生衍根據(jù)布拉格定律2dsin=,當(dāng)波長選定之后,衍射線束的方向(用表示)是晶面間距d的函數(shù)。立方系sin2
=(2/4)(h2+k2+l2)/a2
正方系sin2=(2/4)[(h2+k2)/a2+l2/c2]斜方系sin2
=(2/4)[h2/a2+k2/b2+l2/c2]如將立方、正方、斜方晶系的面間距公式代入布拉格公式,并進(jìn)行平方后得到:入射波長一定情況下,不同晶系或同一晶系但晶胞大小不同的晶體,其衍射線束的方向不同,即研究衍射線束的方向,可以確定晶胞的形狀大小,但無法確定原子種類和在晶胞中的位置。研究衍射線束的強(qiáng)度,可以確定原子種類和在晶胞中的位置。10/29/202220DeliangChen,ZhengzhouUniversity根據(jù)布拉格定律2dsin=,當(dāng)波長選定之后,衍射3、X射線衍射儀的構(gòu)造10/29/202221DeliangChen,ZhengzhouUniversity3、X射線衍射儀的構(gòu)造10/22/202221DelianX射線衍射儀組成:X射線發(fā)生器系統(tǒng)、測角儀系統(tǒng)、衍射強(qiáng)度測量記錄系統(tǒng)、衍射儀控制與衍射數(shù)據(jù)采集分析系統(tǒng)四大部分。10/29/202222DeliangChen,ZhengzhouUniversityX射線衍射儀組成:X射線發(fā)生器系統(tǒng)、測角儀系統(tǒng)、衍射強(qiáng)度測量10/29/202223DeliangChen,ZhengzhouUniversity10/22/202223DeliangChen,ZhengX射線管的構(gòu)造分密閉式和可拆卸式兩種。廣泛使用的是密閉式,
由陰極燈絲、陽極、聚焦罩等組成,
功率大部分在
1~2千瓦。可拆卸式X射線管又稱旋轉(zhuǎn)陽極靶,其功率比密閉式大許多倍,
一般為
12~60千瓦。常用的X射線靶材有
W、Ag、Mo、Ni、Co、Fe、Cr、Cu等。X射線管線焦點(diǎn)為
1×10mm2,
取出角為3~6度。10/29/202224DeliangChen,ZhengzhouUniversityX射線管的構(gòu)造分密閉式和可拆卸式兩種。廣泛使用的是密閉式,
密閉式X射線管10/29/202225DeliangChen,ZhengzhouUniversity密閉式X射線管10/22/202225DeliangChe
(1)利用線焦點(diǎn)作為X射線源S。焦斑尺寸為1×10mm2的常規(guī)X射線管,出射角6°時,實(shí)際有效焦寬為0.1mm,線狀X射線源的大小為0.1×10mm2。
(2)從S發(fā)射的X射線的水平方向發(fā)散角被第一個狹縫[發(fā)散狹縫(DS)]限制之后,照射試樣。常有1/6o、1/2o、1o、2o、4o的發(fā)散狹縫和測角儀調(diào)整用0.05mm寬的狹縫。
(3)從試樣上衍射的X射線束,在F處聚焦,該處的第二個狹縫為接收狹縫(RS)。生產(chǎn)廠供給0.15mm、0.3mm、0.6mm寬的接收狹縫。
(4)第三個狹縫是防止空氣散射等非試樣散射X射線進(jìn)入計(jì)數(shù)管的防散射狹縫(SS)。
(5)S1、S2稱為索拉狹縫,是由一組等間距相互平行的薄金屬片組成,它限制入射X射線和衍射線的垂直方向發(fā)散。索拉狹縫裝在叫做索拉狹縫盒的框架里。這個框架兼作其他狹縫插座用,即插入DS,RS和SS.測角儀10/29/202226DeliangChen,ZhengzhouUniversity
(1)利用線焦點(diǎn)作為X射線源S。焦斑尺寸為1×10mmX射線探測記錄裝置衍射儀中常用的探測器是閃爍計(jì)數(shù)器(SC),它是利用X射線能在某些固體物質(zhì)(磷光體)中產(chǎn)生的波長在可見光范圍內(nèi)的熒光,這種熒光再轉(zhuǎn)換為能夠測量的電流。由于輸出的電流和計(jì)數(shù)器吸收的X光子能量成正比,因此可以用來測量衍射線的強(qiáng)度。閃爍計(jì)數(shù)管的發(fā)光體一般是用微量鉈活化的碘化鈉(NaI)單晶體。這種晶體經(jīng)X射線激發(fā)后發(fā)出藍(lán)紫色的光。將這種微弱的光用光電倍增管來放大,發(fā)光體的藍(lán)紫色光激發(fā)光電倍增管的光電面(光陰極)而發(fā)出光電子(一次電子),光電倍增管電極由10個左右的聯(lián)極構(gòu)成,由于一次電子在聯(lián)極表面上激發(fā)二次電子,經(jīng)聯(lián)極放大后電子數(shù)目按幾何級數(shù)劇增(約106倍),最后輸出幾個毫伏的脈沖。10/29/202227DeliangChen,ZhengzhouUniversityX射線探測記錄裝置衍射儀中常用的探測器是閃爍計(jì)數(shù)器(SC)目前衍射儀主要操作都由計(jì)算機(jī)控制自動完成,掃描操作完成后,衍射原始數(shù)據(jù)自動存入計(jì)算機(jī)硬盤中供數(shù)據(jù)分析處理。數(shù)據(jù)分析處理包括平滑點(diǎn)的選擇、背底扣除、自動尋峰、d值計(jì)算,衍射峰強(qiáng)度計(jì)算等。計(jì)算機(jī)控制、處理裝置10/29/202228DeliangChen,ZhengzhouUniversity目前衍射儀主要操作都由計(jì)算機(jī)控制自動完成,掃描操作完成后,衍4、實(shí)驗(yàn)參數(shù)選擇選擇陽極靶的基本要求:盡可能避免靶材產(chǎn)生的特征X射線激發(fā)樣品的熒光輻射,以降低衍射花樣的背底,使圖樣清晰。4.1陽極靶的選擇必須根據(jù)試樣所含元素的種類來選擇最適宜的特征X射線波長(靶)。當(dāng)X射線的波長稍短于試樣成分元素的吸收限時,試樣強(qiáng)烈地吸收X射線,并激發(fā)產(chǎn)生成分元素的熒光X射線,背底增高。其結(jié)果是峰背比(信噪比)P/B低(P為峰強(qiáng)度,B為背底強(qiáng)度),衍射圖譜難以分清。10/29/202229DeliangChen,ZhengzhouUniversity4、實(shí)驗(yàn)參數(shù)選擇選擇陽極靶的基本要求:盡可能避免靶材產(chǎn)生的特X射線衍射所能測定的d值范圍,取決于所使用的特征X射線的波長。X射線衍射所需測定的d值范圍大都在1nm至0.1nm之間。為了使這一范圍內(nèi)的衍射峰易于分離而被檢測,需要選擇合適波長的特征X射線。一般測試使用銅靶,但因X射線的波長與試樣的吸收有關(guān),可根據(jù)試樣物質(zhì)的種類分別選用Co、Fe,或Cr靶。此外還可選用鉬靶,這是由于鉬靶的特征X射線波長較短,穿透能力強(qiáng),如果希望在低角處得到高指數(shù)晶面衍射峰,或?yàn)榱藴p少吸收的影響等,均可選用鉬靶。10/29/202230DeliangChen,ZhengzhouUniversityX射線衍射所能測定的d值范圍,取決于所使用的特征X射線的波長10/29/202231DeliangChen,ZhengzhouUniversity10/22/202231DeliangChen,Zheng工作電壓設(shè)定為3
~
5倍的靶材臨界激發(fā)電壓。選擇管電流時功率不能超過X射線管額定功率,較低的管電流可以延長X射線管的壽命。4.2管電壓和管電流的選擇X射線管經(jīng)常使用的負(fù)荷(管壓和管流的乘積)選為最大允許負(fù)荷的80%左右。但是,當(dāng)管壓超過激發(fā)電壓5倍以上時,強(qiáng)度的增加率將下降。所以,在相同負(fù)荷下產(chǎn)生X射線時,在管壓約為激發(fā)電壓5倍以內(nèi)時要優(yōu)先考慮管壓,在更高的管壓下其負(fù)荷可用管流來調(diào)節(jié)。靶元素的原子序數(shù)越大,激發(fā)電壓就越高。由于連續(xù)X射線的強(qiáng)度與管壓的平方呈正比,特征X射線與連續(xù)X射線的強(qiáng)度之比,隨著管壓的增加接近一個常數(shù),當(dāng)管壓超過激發(fā)電壓的4~5倍時反而變小,所以,管壓過高,信噪比P/B將降低,這是不可取的。10/29/202232DeliangChen,ZhengzhouUniversity工作電壓設(shè)定為3
~
5倍的靶材臨界激發(fā)電壓。選擇管電流時功發(fā)散狹縫(DS)決定了X射線水平方向的發(fā)散角,限制試樣被X射線照射的面積。如果使用較寬的發(fā)射狹縫,X射線強(qiáng)度增加,但在低角處入射X射線超出試樣范圍,照射到邊上的試樣架,出現(xiàn)試樣架物質(zhì)的衍射峰或漫散峰,對定量相分析帶來不利的影響。因此有必要按測定目的選擇合適的發(fā)散狹縫寬度。
4.3發(fā)散狹縫的選擇(DS)生產(chǎn)廠家提供1/6°、1/2°、1°、2°、4°的發(fā)散狹縫,通常定性物相分析選用1°發(fā)散狹縫,當(dāng)?shù)徒嵌妊苌涮貏e重要時,可以選用1/2°(或1/6°)發(fā)散狹縫。10/29/202233DeliangChen,ZhengzhouUniversity發(fā)散狹縫(DS)決定了X射線水平方向的發(fā)散角,限制試樣被X射防散射狹縫用來防止空氣等物資引起的散射X射線進(jìn)入探測器,選用SS與DS角度相同。4.4
防散射狹縫的選擇(SS)生產(chǎn)廠家提供0.15mm、0.3mm、0.6mm的接收狹縫,接收狹縫的大小影響衍射線的分辨率。接收狹縫越小,分辨率越高,衍射強(qiáng)度越低。通常物相定性分析時使用0.3mm的接收狹縫,精確測定可使用0.15mm的接收狹縫。4.5
接收狹縫的選擇(RS)10/29/202234DeliangChen,ZhengzhouUniversity防散射狹縫用來防止空氣等物資引起的散射X射線進(jìn)入探測器,選用
Z濾
<
Z靶-(1~2):
Z靶
<
40,
Z濾=
Z靶-1
Z靶
>
40,
Z濾=
Z靶-2常規(guī)物相定性分析常采用每分鐘2o或4o的掃描速度,在進(jìn)行點(diǎn)陣參數(shù)測定,微量分析或物相定量分析時,常采用每分鐘(1/2)o或(1/4)o的掃描速度。4.6濾波片的選擇:不同的測定目的,其掃描范圍也不同。
當(dāng)選用Cu靶進(jìn)行無機(jī)化合物的相分析時,掃描范圍一般為90o~2o(2θ);對于高分子,有機(jī)化合物的相分析,其掃描范圍一般為60o
~2o;在定量分析、點(diǎn)陣參數(shù)測定時,一般只對欲測衍射峰掃描幾度。4.7掃描范圍的確定4.8
掃描速度的確定10/29/202235DeliangChen,ZhengzhouUniversity
Z濾
<
Z靶-(1~2):
Z靶
<
40,衍射儀測試條件參數(shù)選擇一覽表10/29/202236DeliangChen,ZhengzhouUniversity衍射儀測試條件參數(shù)選擇一覽表10/22/202236Deli5、樣品制備X射線衍射分析的樣品主要有粉末樣品、塊狀樣品、薄膜樣品、纖維樣品等。樣品不同,分析目的不同(定性分析或定量分析),則樣品制備方法也不同。X射線衍射分析的粉末試樣必需滿足這樣兩個條件:晶粒要細(xì)小,試樣無擇優(yōu)取向(取向排列混亂)。所以,通常將試樣研細(xì)后使用,可用瑪瑙研缽研細(xì)。定性分析時粒度應(yīng)小于44微米(350目),定量分析時應(yīng)將試樣研細(xì)至10微米左右。較方便地確定10微米粒度的方法是,用拇指和中指捏住少量粉末,并碾動,兩手指間沒有顆粒感覺的粒度大致為10微米。5.1粉末樣品10/29/202237DeliangChen,ZhengzhouUniversity5、樣品制備X射線衍射分析的樣品主要有粉末樣品、塊狀樣品、薄常用的粉末樣品架為玻璃試樣架,在玻璃板上蝕刻出試樣填充區(qū)為20×18mm2。玻璃樣品架主要用于粉末試樣較少時(約少于500mm3)使用。充填時,將試樣粉末一點(diǎn)一點(diǎn)地放進(jìn)試樣填充區(qū),重復(fù)這種操作,使粉末試樣在試樣架里均勻分布并用玻璃板壓平實(shí),要求試樣面與玻璃表面齊平。如果試樣的量少到不能充分填滿試樣填充區(qū),可在玻璃試樣架凹槽里先滴一薄層用醋酸戊酯稀釋的火棉膠溶液,然后將粉末試樣撒在上面,待干燥后測試。10/29/202238DeliangChen,ZhengzhouUniversity常用的粉末樣品架為玻璃試樣架,在玻璃板上蝕刻出試樣填充區(qū)為2先將塊狀樣品表面研磨拋光,大小不超過20×18mm2,
然后用橡皮泥將樣品粘在鋁樣品支架上,要求樣品表面與鋁樣品支架表面平齊。5.2
塊狀樣品10/29/202239DeliangChen,ZhengzhouUniversity先將塊狀樣品表面研磨拋光,大小不超過20×18mm2,
然后5.3.
微量樣品取微量樣品放入瑪瑙研缽中將其研細(xì),然后將研細(xì)的樣品放在單晶硅樣品支架上(切割單晶硅樣品支架時使其表面不滿足衍射條件),滴數(shù)滴無水乙醇使微量樣品在單晶硅片上分散均勻,待乙醇完全揮發(fā)后即可測試。10/29/202240DeliangChen,ZhengzhouUniversity5.3.
微量樣品取微量樣品放入瑪瑙研缽中將其研細(xì),然后將研5.4.
薄膜樣品制備:將薄膜樣品剪成合適大小,用膠帶紙粘在玻璃樣品支架上即可。10/29/202241DeliangChen,ZhengzhouUniversity5.4.
薄膜樣品制備:將薄膜樣品剪成合適大小,用膠帶紙粘在6樣品測試(1)開機(jī)前的準(zhǔn)備和檢查
將制備好的試樣插入衍射儀樣品臺,蓋上頂蓋關(guān)閉防護(hù)罩;開啟水龍頭,使冷卻水流通;X光管窗口應(yīng)關(guān)閉,管電流管電壓表指示應(yīng)在最小位置;接通總電源,接通穩(wěn)壓電源。(2)開機(jī)操作
開啟衍射儀總電源,啟動循環(huán)水泵;待數(shù)分鐘后,接通X光管電源。緩慢升高管電壓、管電流至需要值(若為新X光管或停機(jī)再用,需預(yù)先在低管電壓、管電流下"老化"后再用)。打開計(jì)算機(jī)X射線衍射儀應(yīng)用軟件,設(shè)置合適的衍射條件及參數(shù),開始樣品測試。10/29/202242DeliangChen,ZhengzhouUniversity6樣品測試(1)開機(jī)前的準(zhǔn)備和檢查
將制備好的試樣插(3)停機(jī)操作
測量完畢,緩慢降低管電流、管電壓至最小值,關(guān)閉X光管電源;取出試樣;15分鐘后關(guān)閉循環(huán)水泵,關(guān)閉水源;關(guān)閉衍射儀總電源、穩(wěn)壓電源及線路總電源。10/29/202243DeliangChen,ZhengzhouUniversity(3)停機(jī)操作
測量完畢,緩慢降低管電流、管電壓至最小值,7、數(shù)據(jù)處理測試完畢后,可將樣品測試數(shù)據(jù)存入磁盤供隨時調(diào)出處理。原始數(shù)據(jù)需經(jīng)過曲線平滑、K2扣除、譜峰尋找等數(shù)據(jù)處理步驟,最后打印出待分析試樣衍射曲線和d值、2θ、強(qiáng)度、衍射峰寬等數(shù)據(jù)供分析鑒定。10/29/202244DeliangChen,ZhengzhouUniversity7、數(shù)據(jù)處理測試完畢后,可將樣品測試數(shù)據(jù)存入磁盤供隨時調(diào)出處(1)從前反射區(qū)(2θ<90o)中選取強(qiáng)度最大的三根線,并使其d值按強(qiáng)度遞減的次序排列。
(2)在PDF卡的數(shù)字索引中找到對應(yīng)的d1(最強(qiáng)線的面間距)組。
(3)按次強(qiáng)線的面間距d2找到接近的幾列。
(4)檢查這幾列數(shù)據(jù)中的第三個d值是否與待測樣的數(shù)據(jù)對應(yīng),再查看第四至第八強(qiáng)線數(shù)據(jù)并進(jìn)行對照,最后從中找出最可能的物相及其卡片號。
(5)找出可能的標(biāo)準(zhǔn)卡片,將實(shí)驗(yàn)所得d及I/I1跟卡片上的數(shù)據(jù)詳細(xì)對照,如果完全符合,物相鑒定即告完成。8物相定性分析方法X射線衍射物相定性分析方法有以下幾種:8.1三強(qiáng)線法10/29/202245DeliangChen,ZhengzhouUniversity(1)從前反射區(qū)(2θ<90o)中選取強(qiáng)度最大的三根線,并使②文字索引文字索引是按照物質(zhì)英文名稱的字母順序排列而成的。如果知道某種物相時,利用文字索引比利用數(shù)字索引方便而又迅速。從左到右的順序依次為:物質(zhì)英文名稱、化學(xué)分子式、、、、、、和卡片號。數(shù)字索引表10/29/202246DeliangChen,ZhengzhouUniversity②文字索引數(shù)字索引表10/22/202246Deliang10/29/202247DeliangChen,ZhengzhouUniversity10/22/202247DeliangChen,Zheng
如果待測樣的數(shù)據(jù)與標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)不符,則須重新排列組合并重復(fù)(2)~(5)的檢索手續(xù)。如為多相物質(zhì),當(dāng)找出第一物相之后,可將其線條剔出,并將留下線條的強(qiáng)度重新歸一化,再按過程(1)~(5)進(jìn)行檢索,直到得出正確答案。10/29/202248DeliangChen,ZhengzhouUniversity
如果待測樣的數(shù)據(jù)與標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)不符,則須重新排列組合并重復(fù)(2對于經(jīng)常使用的樣品,其衍射譜圖應(yīng)該充分了解掌握,可根據(jù)其譜圖特征進(jìn)行初步判斷。例如在26.5度左右有一強(qiáng)峰,在68度左右有五指峰出現(xiàn),則可初步判定樣品含SiO2。8.2特征峰法10/29/202249DeliangChen,ZhengzhouUniversity對于經(jīng)常使用的樣品,其衍射譜圖應(yīng)該充分了解掌握,可根據(jù)其譜圖隨著計(jì)算機(jī)技術(shù)的發(fā)展,計(jì)算機(jī)檢索得到普遍的應(yīng)用。這種方法可以很快得到分析結(jié)果,分析準(zhǔn)確度在不斷提高。但最后還須經(jīng)認(rèn)真核對才能最后得出鑒定結(jié)論。8.3計(jì)算機(jī)檢索法10/29/202250DeliangChen,ZhengzhouUniversity隨著計(jì)算機(jī)技術(shù)的發(fā)展,計(jì)算機(jī)檢索得到普遍的應(yīng)用。這種方法可以PCPDFWIN軟件檢索鎢酸(H2WO4):JCPDS#43-0679氧化鎢(WO3):JCPDS#43-103510/29/202251DeliangChen,ZhengzhouUniversityPCPDFWIN軟件檢索鎢酸(H2WO4):JCPDS#48.4X射線衍射圖譜的繪制(1)導(dǎo)出X射線衍射的原始數(shù)據(jù),一般以ASCII或.txt文件類型保存;(2)用MicrosoftExcel等軟件打開(導(dǎo)入)ASCII或.txt文件類型的X射線衍射的原始數(shù)據(jù);(3)用Origin等軟件繪制XRD曲線圖譜,并正確標(biāo)識縱、橫坐標(biāo)物理量與相應(yīng)單位,以及標(biāo)注各物相主要衍射峰的衍射指標(biāo)。(4)標(biāo)明圖譜標(biāo)題說明。10/29/202252DeliangChen,ZhengzhouUniversity8.4X射線衍射圖譜的繪制(1)導(dǎo)出X射線衍射的原始數(shù)據(jù),F(xiàn)igure2.(a)XRDpatternoftungstate-basedinorganic–organichybridbeltsusedastheprecursorforthesynthesisofH2WO4andWO3nanoplates;(b)XRDpatternoftheair-driednitric-acid-treatedproductderivedfromtungstate-basedinorganic–organichybridbelts(ItcanbeindexedtomonoclinicH2WO4·H2O,JCPDSNo.18-1420,andthepeakmarkedwith()
belongstothe(020)reflectionoforthorhombicH2WO4);(c)XRDpatternofthe120oC-driednitric-acid-treatedproduct(ItcanbeindexedtoorthorhombicH2WO4,JCPDSNo.43-0679);(d)XRDpatternoftheWO3nanoplatesobtainedbycalciningH2WO4
nanoplatesat450oCfor2hinair(ItcanbeindexedtomonoclinicWO3
JCPDSNo.43-1035).10/29/202253DeliangChen,ZhengzhouUniversityFigure2.(a)XRDpatternoft
1.簡述連續(xù)X射線譜、特征X射線譜產(chǎn)生原理及特點(diǎn);2.簡述X射線衍射在定性、定量分析上的基本原理;
3.簡述X射線衍射儀的結(jié)構(gòu)和工作原理;
4.簡述X射線衍射分析中的樣品制備方法;
5.X射線譜圖分析鑒定應(yīng)注意什么問題?討論(思考)題10/29/202254DeliangChen,ZhengzhouUniversity
1.簡述連續(xù)X射線譜、特征X射線譜產(chǎn)生原理及特點(diǎn);討論(思云南麗江玉龍雪山之遠(yuǎn)眺Thankyouverymuchforyourattention.10/29/202255DeliangChen,ZhengzhouUniversity云南麗江玉龍雪山之遠(yuǎn)眺ThankyouverymuchX射線衍射分析實(shí)驗(yàn)陳德良博士副教授dlchen@10/29/202256DeliangChen,ZhengzhouUniversityX射線衍射分析實(shí)驗(yàn)陳德良博士副教授dlchen@zz1、實(shí)驗(yàn)?zāi)康募耙罅私釾射線衍射儀的結(jié)構(gòu)和工作原理;掌握X射線衍射物相定性分析的方法和步驟;初步了解X射線衍射定量分析的原理方法;給定實(shí)驗(yàn)樣品,設(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)方案,做出正確的定性分析鑒定結(jié)果。10/29/202257DeliangChen,ZhengzhouUniversity1、實(shí)驗(yàn)?zāi)康募耙罅私釾射線衍射儀的結(jié)構(gòu)和工作原理;10/22、實(shí)驗(yàn)原理當(dāng)X射線以角入射到原子面并以角散射時,相距為a的兩原子散射X射線的光程差為:2.1布拉格定律
=a(cos
-cos)根據(jù)光的干涉原理,當(dāng)光程差等于波長的整數(shù)倍(n)時,在角散射方向干涉加強(qiáng)。假定原子面上所有原子的散射線同位相,即光程差=0,從上式可得=。10/29/202258DeliangChen,ZhengzhouUniversity2、實(shí)驗(yàn)原理當(dāng)X射線以角入射到原子面并以角散射時,相當(dāng)入射角與散射角相等時,一層原子面上所有散射波干涉將會加強(qiáng)。與可見光的反射定律類似,X射線從一層原子面呈鏡面反射的方向,就是散射線干涉加強(qiáng)的方向。因此,將這種散射稱為從晶面反射。下面討論兩相鄰原子面的散射波的干涉:過D點(diǎn)分別向入射線和反射線作垂線,它們的光程差為:
=AB+BC=2dsin10/29/202259DeliangChen,ZhengzhouUniversity當(dāng)入射角與散射角相等時,一層原子面上所有散射波干涉將會加強(qiáng)。式中,d(hkl)——晶面間距;
——入射線、反射線與反射晶面之間的交角,稱掠射角或布拉格角;2——入射線與反射線(衍射線)之間的夾角,稱衍射角;
n——反射級數(shù),為整數(shù);——入射X線波長,與X射線管所用的靶材有關(guān)。當(dāng)光程差等于波長的整數(shù)倍時,相鄰原子面散射波加強(qiáng),即干涉加強(qiáng)條件為:2d(hkl)sin=n
上式即為布拉格定律或布拉格方程,它把衍射方向、平面點(diǎn)陣族的間距d(hkl)和X射線的波長
聯(lián)系在一起。10/29/202260DeliangChen,ZhengzhouUniversity式中,d(hkl)——晶面間距;當(dāng)光程差等于波長的整數(shù)倍時,當(dāng)波長一定時,對指定的某一族平面點(diǎn)陣(hkl)來說,n數(shù)值不同,衍射的方向也不同。n=1,2,3,……,相應(yīng)的衍射角為1,2,3,……,而n=1,2,3等衍射分別為一級、二級、三級衍射。為了區(qū)別不同的衍射方向,可將上式改寫為:[2d(hkl)sinn
]/n=
帶有公因子n的晶面指標(biāo)(nhnknl)是一組和(hkl)平行的晶面,晶面間距d(nhnknl)和相鄰兩個晶面的間距d(hkl)的關(guān)系為:d(nhnknl)=d(hkl)/n綜上有:2·d(nh
nk
nl)·sin(nhnknl)=因此,由(hkl)晶面的n級反射,可看成由面間距為d(hkl)/n的(nhnknl)晶面的1級反射。注意:面間距為d(nhnknl)的晶面不一定是晶體中的原子面,只是為了簡化布拉格公式而引入的反射面,常稱干涉面。10/29/202261DeliangChen,ZhengzhouUniversity當(dāng)波長一定時,對指定的某一族平面點(diǎn)陣(hkl)來說,n數(shù)值注意:(1)衍射指標(biāo)hkl不加括號,晶面指標(biāo)(hkl)帶有括號;(2)衍射指標(biāo)不要求互質(zhì),可以有公因子,而晶面指標(biāo)要互質(zhì),不能有公因子;(3)在數(shù)值上,衍射指標(biāo)為晶面指標(biāo)的n倍。式中hkl為衍射指標(biāo)。2·d(nh
nk
nl)·sin(nhnknl)=對于將晶面指標(biāo)(nhnknl)改用衍射指標(biāo)
hkl,則得到在X射線晶體學(xué)中現(xiàn)在通用的布拉格定律的表達(dá)式:2dhklsin
=
式中,hkl為衍射指標(biāo)。例如:晶面(110),由于它和入射X射線的取向不同,可以產(chǎn)生衍射指標(biāo)為110、220、330、……等的衍射。10/29/202262DeliangChen,ZhengzhouUniversity注意:(1)衍射指標(biāo)hkl不加括號,晶面指標(biāo)(hkl)帶有括由布拉格定律2dsin
=n可知,這就是能產(chǎn)生衍射的限制條件,說明用波長為的X射線照射晶體時,晶體中只有面間距d≥/2的晶面才能產(chǎn)生衍射。sin
=(n)/2d≤1考慮n=1(即1級反射)的情況時,/2≤d10/29/202263DeliangChen,ZhengzhouUniversity由布拉格定律2dsin=n可知,這就是能產(chǎn)生衍射的限2.2X射線的強(qiáng)度衍射線的強(qiáng)度不僅是確定晶體中原子排列位置所必須的依據(jù),而且在X射線物相分析時也是不可缺少的數(shù)據(jù)。由于入射X光束不嚴(yán)格平行(有一定發(fā)散度),加之,被研究的晶體也非嚴(yán)格的周期性格子,因此,某一組晶面“反射”X射線不可能是在嚴(yán)格角的方向,而是在與角相接近的一個小的角度范圍內(nèi),衍射線的強(qiáng)度分布如下圖所示?!胺瓷洹钡目偰芰考捶e分強(qiáng)度,與曲線下的面積成比例。衍射角10/29/202264DeliangChen,ZhengzhouUniversity2.2X射線的強(qiáng)度衍射線的強(qiáng)度不僅是確定晶體中原子排列位置晶體的衍射強(qiáng)度應(yīng)該為屬于該晶體所有電子相干散射波的總和。一個晶體可以看成若干個晶胞周期排列而成,而一個晶胞又由一些原子組成,原子則由原子核和繞核運(yùn)行的電子組成。因此,可以從一個電子、一個原子和一個晶胞的散射強(qiáng)度入手,然后將所有晶胞的散射波合成起來,就能求出一個小晶體的衍射強(qiáng)度。可以證明,在衍射hkl中,通過晶胞原點(diǎn)的衍射波與通過第j個原子(坐標(biāo)為xj,yj,zj)的衍射波的周相差為:j=2(hxj+kyj+lzj)。10/29/202265DeliangChen,ZhengzhouUniversity晶體的衍射強(qiáng)度應(yīng)該為屬于該晶體所有電子相干散射波的總和。一個若晶胞中有n個原子,每個原子散射波的振幅(即原子散射因子)分別為f1,f2,,fj,,fn,各原子的散射波與入射波的位相差分別為1,2,,j,,n。這n個原子的散射波相互疊加而形成的復(fù)合波,若用指數(shù)形式表示,可得:F=f1exp[i1]+f2exp[i2]++fjexp[ij]++fnexp[in]即式中,fj—第j個原子的原子散射因子;xj,yj,zj—第j個原子在晶胞中的分?jǐn)?shù)坐標(biāo);Fhkl—衍射hkl的結(jié)構(gòu)因子;Fhkl—結(jié)構(gòu)振幅。Fhkl
數(shù)值的物理意義:Fhkl
=10/29/202266DeliangChen,ZhengzhouUniversity若晶胞中有n個原子,每個原子散射波的振幅(即原子散射因子)分結(jié)構(gòu)因子包含兩方面數(shù)據(jù),即:結(jié)構(gòu)振幅Fhkl和相角hkl:因此,10/29/202267DeliangChen,ZhengzhouUniversity結(jié)構(gòu)因子包含兩方面數(shù)據(jù),即:結(jié)構(gòu)振幅Fhkl和相角衍射hkl的衍射強(qiáng)度Ihkl正比于Fhkl
2??芍Y(jié)構(gòu)因子Fhkl是由晶體結(jié)構(gòu)決定的,即由晶胞中原子的種類和原子的位置決定,原子的種類由fj表示,原子的位置由xj,yj,zj表示。若結(jié)構(gòu)因子用復(fù)數(shù)表示,衍射強(qiáng)度Ihkl正比于Fhkl(=Ahkl
+i
Bhkl)和它的共軛復(fù)數(shù)F*hkl(=Ahkl
-i
Bhkl)的乘積:10/29/202268DeliangChen,ZhengzhouUniversity衍射hkl的衍射強(qiáng)度Ihkl正比于Fhkl2。可知,結(jié)計(jì)算四種基本類型點(diǎn)陣的結(jié)構(gòu)因子簡單點(diǎn)陣:簡單點(diǎn)陣無論hkl取什么值,F(xiàn)都等于f,即不等于零,故所有晶面都能產(chǎn)生衍射。每個晶胞中有2個同類原子,其坐標(biāo)分別為000,??0,原子散射因數(shù)為f,其結(jié)構(gòu)因數(shù)為:底心點(diǎn)陣:每個晶胞中有1個同類原子,其坐標(biāo)為000原子,散射因數(shù)為f,其結(jié)構(gòu)因數(shù)為:當(dāng)h+k=偶數(shù)時,exp[i(h+k)]=1,故F=2f;當(dāng)h+k=奇數(shù)時,exp[i(h+k)]=-1,故F=0。底心點(diǎn)陣晶面能否產(chǎn)生衍射,處決于h+k奇偶性,與l無關(guān)。10/29/202269DeliangChen,ZhengzhouUniversity計(jì)算四種基本類型點(diǎn)陣的結(jié)構(gòu)因子簡單點(diǎn)陣:簡單點(diǎn)陣無論hkl當(dāng)h+k+l=偶數(shù)時,F(xiàn)=2f;當(dāng)h+k+l=奇數(shù)時,F(xiàn)=0。體心點(diǎn)陣:每個晶胞有2個同類原子,其坐標(biāo)為000和???,原子散射因數(shù)為f,其結(jié)構(gòu)因數(shù)為:結(jié)果說明,對體心點(diǎn)陣來說,只有h+k+l為偶數(shù)的晶面才能產(chǎn)生衍射。10/29/202270DeliangChen,ZhengzhouUniversity當(dāng)h+k+l=偶數(shù)時,F(xiàn)=2f;體心點(diǎn)陣:每個晶胞有2個同類面心點(diǎn)陣:每個晶胞中有四個同類原子,其坐標(biāo)為000,??0,?0?,0??,原子散射因數(shù)為f,其結(jié)構(gòu)因數(shù)為:當(dāng)hkl為同性指數(shù)時,h+k、h+l和k+l全為偶數(shù),F(xiàn)=4f;當(dāng)hkl為異性指數(shù)時,則h+k、h+l和k+l中總有兩項(xiàng)為奇數(shù),一項(xiàng)為偶數(shù),F(xiàn)=0。說明,在面心點(diǎn)陣中,只有hkl為全奇或全偶數(shù)的晶面才能產(chǎn)生衍射。10/29/202271DeliangChen,ZhengzhouUniversity面心點(diǎn)陣:每個晶胞中有四個同類原子,其坐標(biāo)為000,??粉末法衍射線的積分強(qiáng)度
衍射強(qiáng)度理論證明,多晶體衍射環(huán)單位弧長上的積分強(qiáng)度由下式?jīng)Q定:Io—入射X射線強(qiáng)度;
—入射X射線波長(?);e,m
—電子的電荷與質(zhì)量;c
—光速;R—由試樣到照相底片上衍射環(huán)間的距離(cm);V
—試樣被入射X射線所照射的體積(cm3);v
—單位晶胞的體積(cm3);Fhkl
—結(jié)構(gòu)因子;
Phkl
—多重性因子;()—角因子;e-2M
—溫度因子;A()—吸收因子。式中,10/29/202272DeliangChen,ZhengzhouUniversity粉末法衍射線的積分強(qiáng)度衍射強(qiáng)度理論證明,多晶體衍射環(huán)單位弧I=KPLmTAFhkl2強(qiáng)度公式表達(dá)為:K—比例常數(shù),與入射光強(qiáng)度及其它實(shí)驗(yàn)條件有關(guān);P—偏極化因子;L—洛倫茨因子;T—溫度因子;A—吸收因子;m—多重因子。如果這些因子均為已知,則可從強(qiáng)度Ihkl中推出衍射hkl的結(jié)構(gòu)振幅Fhkl。10/29/202273DeliangChen,ZhengzhouUniversityI=KPLmTAFhkl2強(qiáng)度公式表達(dá)為:K—比例常數(shù),2.3X射線鑒定物相的原理布拉格定律是X射線在晶體中產(chǎn)生衍射所必須滿足的基本條件,它反映了衍射方向(用
描述)與晶體結(jié)構(gòu)(用d代表)之間的關(guān)系。該定律將便于測量的宏觀量與微觀量d、聯(lián)系起來。通過的測定,在已知的情況下可以求得d,反之亦然。每一種晶體物質(zhì)都具有它自己特定的晶體結(jié)構(gòu)和晶胞參數(shù)。由X射線衍射花樣上各線條的角度位置所確定的晶面間距d
以及它們的相對強(qiáng)度I/I0是物質(zhì)的固有特性。也就是說,不同物相的晶體通常將給出不同的X射線衍射花樣,即給出不同的衍射線束方向和強(qiáng)度。因此,可以像根據(jù)指紋來鑒別人一樣,根據(jù)衍射花樣可以用來鑒別晶體物質(zhì)。10/29/202274DeliangChen,ZhengzhouUniversity2.3X射線鑒定物相的原理布拉格定律是X射線在晶體中產(chǎn)生衍根據(jù)布拉格定律2dsin=,當(dāng)波長選定之后,衍射線束的方向(用表示)是晶面間距d的函數(shù)。立方系sin2
=(2/4)(h2+k2+l2)/a2
正方系sin2=(2/4)[(h2+k2)/a2+l2/c2]斜方系sin2
=(2/4)[h2/a2+k2/b2+l2/c2]如將立方、正方、斜方晶系的面間距公式代入布拉格公式,并進(jìn)行平方后得到:入射波長一定情況下,不同晶系或同一晶系但晶胞大小不同的晶體,其衍射線束的方向不同,即研究衍射線束的方向,可以確定晶胞的形狀大小,但無法確定原子種類和在晶胞中的位置。研究衍射線束的強(qiáng)度,可以確定原子種類和在晶胞中的位置。10/29/202275DeliangChen,ZhengzhouUniversity根據(jù)布拉格定律2dsin=,當(dāng)波長選定之后,衍射3、X射線衍射儀的構(gòu)造10/29/202276DeliangChen,ZhengzhouUniversity3、X射線衍射儀的構(gòu)造10/22/202221DelianX射線衍射儀組成:X射線發(fā)生器系統(tǒng)、測角儀系統(tǒng)、衍射強(qiáng)度測量記錄系統(tǒng)、衍射儀控制與衍射數(shù)據(jù)采集分析系統(tǒng)四大部分。10/29/202277DeliangChen,ZhengzhouUniversityX射線衍射儀組成:X射線發(fā)生器系統(tǒng)、測角儀系統(tǒng)、衍射強(qiáng)度測量10/29/202278DeliangChen,ZhengzhouUniversity10/22/202223DeliangChen,ZhengX射線管的構(gòu)造分密閉式和可拆卸式兩種。廣泛使用的是密閉式,
由陰極燈絲、陽極、聚焦罩等組成,
功率大部分在
1~2千瓦??刹鹦妒絏射線管又稱旋轉(zhuǎn)陽極靶,其功率比密閉式大許多倍,
一般為
12~60千瓦。常用的X射線靶材有
W、Ag、Mo、Ni、Co、Fe、Cr、Cu等。X射線管線焦點(diǎn)為
1×10mm2,
取出角為3~6度。10/29/202279DeliangChen,ZhengzhouUniversityX射線管的構(gòu)造分密閉式和可拆卸式兩種。廣泛使用的是密閉式,
密閉式X射線管10/29/202280DeliangChen,ZhengzhouUniversity密閉式X射線管10/22/202225DeliangChe
(1)利用線焦點(diǎn)作為X射線源S。焦斑尺寸為1×10mm2的常規(guī)X射線管,出射角6°時,實(shí)際有效焦寬為0.1mm,線狀X射線源的大小為0.1×10mm2。
(2)從S發(fā)射的X射線的水平方向發(fā)散角被第一個狹縫[發(fā)散狹縫(DS)]限制之后,照射試樣。常有1/6o、1/2o、1o、2o、4o的發(fā)散狹縫和測角儀調(diào)整用0.05mm寬的狹縫。
(3)從試樣上衍射的X射線束,在F處聚焦,該處的第二個狹縫為接收狹縫(RS)。生產(chǎn)廠供給0.15mm、0.3mm、0.6mm寬的接收狹縫。
(4)第三個狹縫是防止空氣散射等非試樣散射X射線進(jìn)入計(jì)數(shù)管的防散射狹縫(SS)。
(5)S1、S2稱為索拉狹縫,是由一組等間距相互平行的薄金屬片組成,它限制入射X射線和衍射線的垂直方向發(fā)散。索拉狹縫裝在叫做索拉狹縫盒的框架里。這個框架兼作其他狹縫插座用,即插入DS,RS和SS.測角儀10/29/202281DeliangChen,ZhengzhouUniversity
(1)利用線焦點(diǎn)作為X射線源S。焦斑尺寸為1×10mmX射線探測記錄裝置衍射儀中常用的探測器是閃爍計(jì)數(shù)器(SC),它是利用X射線能在某些固體物質(zhì)(磷光體)中產(chǎn)生的波長在可見光范圍內(nèi)的熒光,這種熒光再轉(zhuǎn)換為能夠測量的電流。由于輸出的電流和計(jì)數(shù)器吸收的X光子能量成正比,因此可以用來測量衍射線的強(qiáng)度。閃爍計(jì)數(shù)管的發(fā)光體一般是用微量鉈活化的碘化鈉(NaI)單晶體。這種晶體經(jīng)X射線激發(fā)后發(fā)出藍(lán)紫色的光。將這種微弱的光用光電倍增管來放大,發(fā)光體的藍(lán)紫色光激發(fā)光電倍增管的光電面(光陰極)而發(fā)出光電子(一次電子),光電倍增管電極由10個左右的聯(lián)極構(gòu)成,由于一次電子在聯(lián)極表面上激發(fā)二次電子,經(jīng)聯(lián)極放大后電子數(shù)目按幾何級數(shù)劇增(約106倍),最后輸出幾個毫伏的脈沖。10/29/202282DeliangChen,ZhengzhouUniversityX射線探測記錄裝置衍射儀中常用的探測器是閃爍計(jì)數(shù)器(SC)目前衍射儀主要操作都由計(jì)算機(jī)控制自動完成,掃描操作完成后,衍射原始數(shù)據(jù)自動存入計(jì)算機(jī)硬盤中供數(shù)據(jù)分析處理。數(shù)據(jù)分析處理包括平滑點(diǎn)的選擇、背底扣除、自動尋峰、d值計(jì)算,衍射峰強(qiáng)度計(jì)算等。計(jì)算機(jī)控制、處理裝置10/29/202283DeliangChen,ZhengzhouUniversity目前衍射儀主要操作都由計(jì)算機(jī)控制自動完成,掃描操作完成后,衍4、實(shí)驗(yàn)參數(shù)選擇選擇陽極靶的基本要求:盡可能避免靶材產(chǎn)生的特征X射線激發(fā)樣品的熒光輻射,以降低衍射花樣的背底,使圖樣清晰。4.1陽極靶的選擇必須根據(jù)試樣所含元素的種類來選擇最適宜的特征X射線波長(靶)。當(dāng)X射線的波長稍短于試樣成分元素的吸收限時,試樣強(qiáng)烈地吸收X射線,并激發(fā)產(chǎn)生成分元素的熒光X射線,背底增高。其結(jié)果是峰背比(信噪比)P/B低(P為峰強(qiáng)度,B為背底強(qiáng)度),衍射圖譜難以分清。10/29/202284DeliangChen,ZhengzhouUniversity4、實(shí)驗(yàn)參數(shù)選擇選擇陽極靶的基本要求:盡可能避免靶材產(chǎn)生的特X射線衍射所能測定的d值范圍,取決于所使用的特征X射線的波長。X射線衍射所需測定的d值范圍大都在1nm至0.1nm之間。為了使這一范圍內(nèi)的衍射峰易于分離而被檢測,需要選擇合適波長的特征X射線。一般測試使用銅靶,但因X射線的波長與試樣的吸收有關(guān),可根據(jù)試樣物質(zhì)的種類分別選用Co、Fe,或Cr靶。此外還可選用鉬靶,這是由于鉬靶的特征X射線波長較短,穿透能力強(qiáng),如果希望在低角處得到高指數(shù)晶面衍射峰,或?yàn)榱藴p少吸收的影響等,均可選用鉬靶。10/29/202285DeliangChen,ZhengzhouUniversityX射線衍射所能測定的d值范圍,取決于所使用的特征X射線的波長10/29/202286DeliangChen,ZhengzhouUniversity10/22/202231DeliangChen,Zheng工作電壓設(shè)定為3
~
5倍的靶材臨界激發(fā)電壓。選擇管電流時功率不能超過X射線管額定功率,較低的管電流可以延長X射線管的壽命。4.2管電壓和管電流的選擇X射線管經(jīng)常使用的負(fù)荷(管壓和管流的乘積)選為最大允許負(fù)荷的80%左右。但是,當(dāng)管壓超過激發(fā)電壓5倍以上時,強(qiáng)度的增加率將下降。所以,在相同負(fù)荷下產(chǎn)生X射線時,在管壓約為激發(fā)電壓5倍以內(nèi)時要優(yōu)先考慮管壓,在更高的管壓下其負(fù)荷可用管流來調(diào)節(jié)。靶元素的原子序數(shù)越大,激發(fā)電壓就越高。由于連續(xù)X射線的強(qiáng)度與管壓的平方呈正比,特征X射線與連續(xù)X射線的強(qiáng)度之比,隨著管壓的增加接近一個常數(shù),當(dāng)管壓超過激發(fā)電壓的4~5倍時反而變小,所以,管壓過高,信噪比P/B將降低,這是不可取的。10/29/202287DeliangChen,ZhengzhouUniversity工作電壓設(shè)定為3
~
5倍的靶材臨界激發(fā)電壓。選擇管電流時功發(fā)散狹縫(DS)決定了X射線水平方向的發(fā)散角,限制試樣被X射線照射的面積。如果使用較寬的發(fā)射狹縫,X射線強(qiáng)度增加,但在低角處入射X射線超出試樣范圍,照射到邊上的試樣架,出現(xiàn)試樣架物質(zhì)的衍射峰或漫散峰,對定量相分析帶來不利的影響。因此有必要按測定目的選擇合適的發(fā)散狹縫寬度。
4.3發(fā)散狹縫的選擇(DS)生產(chǎn)廠家提供1/6°、1/2°、1°、2°、4°的發(fā)散狹縫,通常定性物相分析選用1°發(fā)散狹縫,當(dāng)?shù)徒嵌妊苌涮貏e重要時,可以選用1/2°(或1/6°)發(fā)散狹縫。10/29/202288DeliangChen,ZhengzhouUniversity發(fā)散狹縫(DS)決定了X射線水平方向的發(fā)散角,限制試樣被X射防散射狹縫用來防止空氣等物資引起的散射X射線進(jìn)入探測器,選用SS與DS角度相同。4.4
防散射狹縫的選擇(SS)生產(chǎn)廠家提供0.15mm、0.3mm、0.6mm的接收狹縫,接收狹縫的大小影響衍射線的分辨率。接收狹縫越小,分辨率越高,衍射強(qiáng)度越低。通常物相定性分析時使用0.3mm的接收狹縫,精確測定可使用0.15mm的接收狹縫。4.5
接收狹縫的選擇(RS)10/29/202289DeliangChen,ZhengzhouUniversity防散射狹縫用來防止空氣等物資引起的散射X射線進(jìn)入探測器,選用
Z濾
<
Z靶-(1~2):
Z靶
<
40,
Z濾=
Z靶-1
Z靶
>
40,
Z濾=
Z靶-2常規(guī)物相定性分析常采用每分鐘2o或4o的掃描速度,在進(jìn)行點(diǎn)陣參數(shù)測定,微量分析或物相定量分析時,常采用每分鐘(1/2)o或(1/4)o的掃描速度。4.6濾波片的選擇:不同的測定目的,其掃描范圍也不同。
當(dāng)選用Cu靶進(jìn)行無機(jī)化合物的相分析時,掃描范圍一般為90o~2o(2θ);對于高分子,有機(jī)化合物的相分析,其掃描范圍一般為60o
~2o;在定量分析、點(diǎn)陣參數(shù)測定時,一般只對欲測衍射峰掃描幾度。4.7掃描范圍的確定4.8
掃描速度的確定10/29/202290DeliangChen,ZhengzhouUniversity
Z濾
<
Z靶-(1~2):
Z靶
<
40,衍射儀測試條件參數(shù)選擇一覽表10/29/202291DeliangChen,ZhengzhouUniversity衍射儀測試條件參數(shù)選擇一覽表10/22/202236Deli5、樣品制備X射線衍射分析的樣品主要有粉末樣品、塊狀樣品、薄膜樣品、纖維樣品等。樣品不同,分析目的不同(定性分析或定量分析),則樣品制備方法也不同。X射線衍射分析的粉末試樣必需滿足這樣兩個條件:晶粒要細(xì)小,試樣無擇優(yōu)取向(取向排列混亂)。所以,通常將試樣研細(xì)后使用,可用瑪瑙研缽研細(xì)。定性分析時粒度應(yīng)小于44微米(350目),定量分析時應(yīng)將試樣研細(xì)至10微米左右。較方便地確定10微米粒度的方法是,用拇指和中指捏住少量粉末,并碾動,兩手指間沒有顆粒感覺的粒度大致為10微米。5.1粉末樣品10/29/202292DeliangChen,ZhengzhouUniversity5、樣品制備X射線衍射分析的樣品主要有粉末樣品、塊狀樣品、薄常用的粉末樣品架為玻璃試樣架,在玻璃板上蝕刻出試樣填充區(qū)為20×18mm2。玻璃樣品架主要用于粉末試樣較少時(約少于500mm3)使用。充填時,將試樣粉末一點(diǎn)一點(diǎn)地放進(jìn)試樣填充區(qū),重復(fù)這種操作,使粉末試樣在試樣架里均勻分布并用玻璃板壓平實(shí),要求試樣面與玻璃表面齊平。如果試樣的量少到不能充分填滿試樣填充區(qū),可在玻璃試樣架凹槽里先滴一薄層用醋酸戊酯稀釋的火棉膠溶液,然后將粉末試樣撒在上面,待干燥后測試。10/29/202293DeliangChen,ZhengzhouUniversity常用的粉末樣品架為玻璃試樣架,在玻璃板上蝕刻出試樣填充區(qū)為2先將塊狀樣品表面研磨拋光,大小不超過20×18mm2,
然后用橡皮泥將樣品粘在鋁樣品支架上,要求樣品表面與鋁樣品支架表面平齊。5.2
塊狀樣品10/29/202294DeliangChen,ZhengzhouUniversity先將塊狀樣品表面研磨拋光,大小不超過20×18mm2,
然后5.3.
微量樣品取微量樣品放入瑪瑙研缽中將其研細(xì),然后將研細(xì)的樣品放在單晶硅樣品支架上(切割單晶硅樣品支架時使其表面不滿足衍射條件),滴數(shù)滴無水乙醇使微量樣品在單晶硅片上分散均勻,待乙醇完全揮發(fā)后即可測試。10/29/202295DeliangChen,ZhengzhouUniversity5.3.
微量樣品取微量樣品放入瑪瑙研缽中將其研細(xì),然后將研5.4.
薄膜樣品制備:將薄膜樣品剪成合適大小,用膠帶紙粘在玻璃樣品支架上即可。10/29/202296DeliangChen,ZhengzhouUniversity5.4.
薄膜樣品制備:將薄膜樣品剪成合適大小,用膠帶紙粘在6樣品測試(1)開機(jī)前的準(zhǔn)備和檢查
將制備好的試樣插入衍射儀樣品臺,蓋上頂蓋關(guān)閉防護(hù)罩;開啟水龍頭,使冷卻水流通;X光管窗口應(yīng)關(guān)閉,管電流管電壓表指示應(yīng)在最小位置;接通總電源,接通穩(wěn)壓電源。(2)開機(jī)操作
開啟衍射儀總電源,啟動循環(huán)水泵;待數(shù)分鐘后,接通X光管電源。緩慢升高管電壓、管電流至需要值(若為新X光管或停機(jī)再用,需預(yù)先在低管電壓、管電流下"老化"后再用)。打開計(jì)算機(jī)X射線衍射儀應(yīng)用軟件,設(shè)置合適的衍射條件及參數(shù),開始樣品測試。10/29/202297DeliangChen,ZhengzhouUniversity6樣品測試(1)開機(jī)前的準(zhǔn)備和檢查
將制備好的試樣插(3)停機(jī)操作
測量完畢,緩慢降低管電流、管電壓至最小值,關(guān)閉X光管電源;取出試樣;15分鐘后關(guān)閉循環(huán)水泵,關(guān)閉水源;關(guān)閉衍射儀總電源、穩(wěn)壓電源及線路總電源。10/29/202298DeliangChen,ZhengzhouUniversity(3)停機(jī)操作
測量完畢,緩慢降低管電流、管電壓至最小值,7、數(shù)據(jù)處理測
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