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材料化學(xué)習(xí)題第二章參考答案編制僅供參考審核批準(zhǔn)生效日期地址:電話:傳真:郵編:2章材料化學(xué)的理論基礎(chǔ)1.用固體能帶理論區(qū)別導(dǎo)體、半導(dǎo)體、絕緣體。根據(jù)晶體的能帶理論,金屬晶體中布里淵區(qū)一般有重疊,且部分充填。同一區(qū)相鄰狀能級(jí)非常接近,只要很下的電場(chǎng)就能把電子提升到相鄰的較高能級(jí),導(dǎo)電性好;半導(dǎo)體物質(zhì),第一布里淵區(qū)是填滿(mǎn)的,和空的第二布里淵區(qū)之間只有較小的能量間隙溫度升高時(shí),第一布里淵區(qū)頂部的電子受到激發(fā),進(jìn)入到第二布里淵區(qū)底部,向自由電子一樣,在外加電場(chǎng)的作用下,表現(xiàn)出導(dǎo)電性;溫度越高,激發(fā)到第二布里淵區(qū)的電子越多,其導(dǎo)電性也越強(qiáng);(絕緣體物質(zhì),電子填滿(mǎn)最低的一系列能帶,滿(mǎn)帶與空帶之間的能量間隙很大,電子不能被激發(fā)到空帶中,因此不能導(dǎo)電。2.晶體的宏觀特性有那些。自限性、晶面角守恒、解理性、晶體的各向異性、晶體的均勻性、晶體的對(duì)稱(chēng)性、固定的熔點(diǎn)

這是由構(gòu)成晶體的原子和晶體內(nèi)部結(jié)構(gòu)的周期性決定的。說(shuō)明晶體宏觀特性是微觀特性的反映3.說(shuō)明晶體點(diǎn)陣缺陷的分類(lèi)情況。按形成晶體缺陷的原子種類(lèi),可將晶體缺陷分成化學(xué)缺陷和點(diǎn)陣(幾何)缺陷兩類(lèi)。

按點(diǎn)陣缺陷在三維空間的尺度,又可將點(diǎn)陣缺陷分為點(diǎn)缺陷、線缺陷、面缺陷三類(lèi)。4.用實(shí)驗(yàn)事實(shí)簡(jiǎn)述非晶體材料的幾何特征。5.寫(xiě)出TiO2在還原氣氛中失去部分氧,生成的缺陷反應(yīng),說(shuō)明代表的意義。6.晶體一般的特點(diǎn)有哪些;點(diǎn)陣和晶體的結(jié)構(gòu)有何關(guān)系。(1)晶體的一般特點(diǎn)是:

a

、均勻性:指在宏觀觀察中,晶體表現(xiàn)為各部分性狀相同的物體

b

、各向異性:晶體在不同方向上具有不同的物理性質(zhì)

c

、自范性:晶體物質(zhì)在適宜的外界條件下能自發(fā)的生長(zhǎng)出晶面、晶棱等幾何元素所組成凸多面體外形

d

、固定熔點(diǎn):晶體具有固定的熔點(diǎn)

e、

對(duì)稱(chēng)性:晶體的理想外形、宏觀性質(zhì)以及微觀結(jié)構(gòu)都具有一定的對(duì)稱(chēng)性

(2)晶體結(jié)構(gòu)中的每個(gè)結(jié)構(gòu)基元可抽象成一個(gè)點(diǎn),將這些點(diǎn)按照周期性重復(fù)的方式排列就構(gòu)成了點(diǎn)陣。點(diǎn)陣是反映點(diǎn)陣結(jié)構(gòu)周期性的科學(xué)抽象,點(diǎn)陣結(jié)構(gòu)是點(diǎn)陣?yán)碚摰膶?shí)踐依據(jù)和具體研究對(duì)象,它們之間存在這樣一個(gè)關(guān)系:

點(diǎn)陣結(jié)構(gòu)=點(diǎn)陣+結(jié)構(gòu)基元

點(diǎn)陣=點(diǎn)陣結(jié)構(gòu)-結(jié)構(gòu)基元晶體衍射的兩個(gè)要素是什么它們與晶體結(jié)構(gòu)有何對(duì)應(yīng)關(guān)系在衍射圖上有何反映。

晶體衍射的兩個(gè)要素:衍射方向和衍射強(qiáng)度

關(guān)系:晶胞大小、形狀?衍射方向?衍射(點(diǎn)、峰)的位置

晶胞內(nèi)原子種類(lèi)和位置?衍射強(qiáng)度?衍射點(diǎn)(線)的黑度、寬度峰的高度、高度

總結(jié)位錯(cuò)在金屬材料中的作用。參考答案要點(diǎn)

位錯(cuò)在金屬材料中可以起到強(qiáng)化作用,通過(guò)位錯(cuò)運(yùn)動(dòng)完成塑性變形,合金中位錯(cuò)與溶質(zhì)原子發(fā)生作用形成氣團(tuán)造成屈服現(xiàn)象和應(yīng)變時(shí)效,位錯(cuò)是第二相形核的擇優(yōu)場(chǎng)所,位錯(cuò)影響擴(kuò)散速度。9.說(shuō)明晶界對(duì)材料性能及變形的影響。晶界影響到材料的各個(gè)方面,具有晶界能,影響到多晶材料中的第二相的形狀,晶界可以運(yùn)動(dòng),有晶界偏聚,晶界電荷變化,承擔(dān)載荷傳遞作用,晶界熔點(diǎn)低,易過(guò)燒,晶界是易擴(kuò)散通道,晶界處易形核,晶界易受腐蝕;晶界對(duì)金屬材料在常溫下強(qiáng)化,高溫下弱化10.畫(huà)出fcc晶胞中(111)晶面上的所有[110]晶向。fcc晶胞如圖1,ACE所在晶面為(111)晶面,[110]晶向?yàn)镺D方向11.假設(shè)把MgO固溶到ZrO2中(10%),,(1)寫(xiě)出兩種可能的固溶反應(yīng)式;(舉例)(2)設(shè)Mg2+進(jìn)入Zr2+位置的摩爾分?jǐn)?shù)為x,試寫(xiě)出相應(yīng)兩種固溶體分子式。12.一個(gè)立方晶系晶胞中,一晶面在晶軸X、Y、Z上的截距分別為2a、1/2a、2/3a,確定此晶面的晶面指數(shù),并圖示。在X、Y、Z軸上的截距系數(shù):2、1/2、2/3。

截距系數(shù)的倒數(shù)比為1/2︰2︰3/2=1︰4︰3

晶面指數(shù)為:(143)13.簡(jiǎn)述P型半導(dǎo)體和N型半導(dǎo)體導(dǎo)電機(jī)理。14.Mg(熔點(diǎn)924K)和Zn(熔點(diǎn)692K)的相圖具有兩個(gè)低共熔點(diǎn),一個(gè)為641K(3.2%Mg,質(zhì)量分?jǐn)?shù)),另一個(gè)為620K(49%Mg,質(zhì)量分?jǐn)?shù)),體系的熔點(diǎn)曲線上有一個(gè)最高點(diǎn)863K(15.7%Mg)。(1)繪出Mg和Zn的T—x(溫度—組成)圖。(2)標(biāo)明各區(qū)中的相。另一種參考15.四面體型分子CH3Cl具有哪些那些對(duì)稱(chēng)元素。四面體型分子CH3Cl具有_1度旋轉(zhuǎn)軸

、_3度旋轉(zhuǎn)軸_、_對(duì)稱(chēng)面_等對(duì)稱(chēng)元素16.在立方晶系中寫(xiě)出面OBC’、ODD’O’的晶面指數(shù)和OB、OD晶向指數(shù)(AD=1/2AB)。

[1]

OBC’的晶面指數(shù)為:(111)或(111);

ODD’O’的晶面指數(shù)為:(210)或(210)

[2]

OB晶向指數(shù)為:[110];

OD晶向指數(shù):[210]。

(17.圖例是A-B-C三元系成分三角形的一部分,其中X合金的成分是_____20%A-40%B-40%C__________。17題圖18題圖18.如圖是A-B-C三元系統(tǒng)相圖,根據(jù)相圖回答下列問(wèn)題:(1)寫(xiě)出點(diǎn)P,R,S的成分;(2)設(shè)有2kgP,問(wèn)需要多少何種成分的合金Z才可混熔成6kg成分為R的合金。19.相變的含義是什么從熱力學(xué)角度來(lái)劃分,相變可以分為哪幾類(lèi)

1)

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