GB/T 11379-2008金屬覆蓋層工程用鉻電鍍層

犐犆犛２５．２２０．４０

犃２９

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)

犌犅／犜１１３７９—２００８／犐犛犗６１５８：２００４

代替ＧＢ／Ｔ１１３７９—１９８９

金屬覆蓋層工程用鉻電鍍層

犕犲狋犪犾犾犻犮犮狅犪狋犻狀犵狊—犈犾犲犮狋狉狅狆犾犪狋犲犱犮狅犪狋犻狀犵狊狅犳犮犺狉狅犿犻狌犿犳狅狉

犲狀犵犻狀犲犲狉犻狀犵狆狌狉狆狅狊犲狊

（ＩＳＯ６１５８：２００４，ＩＤＴ）

２００８０６１９發(fā)布２００９０１０１實(shí)施

中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局

發(fā)布

中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

書

犌犅／犜１１３７９—２００８／犐犛犗６１５８：２００４

目次

前言!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!Ⅲ

引言!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!Ⅳ

１范圍!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１

２規(guī)范性引用文件!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１

３術(shù)語和定義!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!２

４向供方提供的資料!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!２

５標(biāo)識(shí)!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!２

６要求!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!４

７抽樣!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!５

附錄Ａ（資料性附錄）工程用鉻電鍍層的典型厚度!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!６

附錄Ｂ（資料性附錄）鉻及其他金屬鍍層厚度的測量方法!!!!!!!!!!!!!!!!!!７

附錄Ｃ（規(guī)范性附錄）鉻電鍍層的裂紋和孔隙的測量!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!８

參考文獻(xiàn)!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!９

Ⅰ

書

犌犅／犜１１３７９—２００８／犐犛犗６１５８：２００４

前言

本標(biāo)準(zhǔn)等同采用ＩＳＯ６１５８：２００４《金屬覆蓋層工程用鉻電鍍層》（英文版）。

本標(biāo)準(zhǔn)根據(jù)ＩＳＯ６１５８：２００４翻譯起草。

為了便于使用，本標(biāo)準(zhǔn)做了下列編輯性修改：

———?jiǎng)h除國際標(biāo)準(zhǔn)的前言，增加了我國標(biāo)準(zhǔn)前言；

———“本國際標(biāo)準(zhǔn)”一詞改為“本標(biāo)準(zhǔn)”；

———引用了與國際標(biāo)準(zhǔn)相對(duì)應(yīng)的國家標(biāo)準(zhǔn)。

本標(biāo)準(zhǔn)代替ＧＢ／Ｔ１１３７９—１９８９《金屬覆蓋層工程用鉻電鍍層》。與ＧＢ／Ｔ１１３７９—１９８９相比主

要變化如下：

———增加了引言和標(biāo)識(shí)；

———修改了鉻電鍍層的要求；

———?jiǎng)h除了工程用鉻電鍍層的特性、應(yīng)用實(shí)例及有關(guān)說明；

———增加了工程用鉻電鍍層的典型厚度；

———?jiǎng)h除了噴丸強(qiáng)度的測量方法。

本標(biāo)準(zhǔn)的附錄Ｃ為規(guī)范性附錄，附錄Ａ、附錄Ｂ均為資料性附錄。

本標(biāo)準(zhǔn)由中國機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì)提出。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國金屬與非金屬覆蓋層標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)（ＳＡＣ／ＴＣ５７）歸口。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位：武漢材料保護(hù)研究所、廣州市達(dá)志化工科技有限公司、南京晶晶表面技術(shù)有限公

司、杭州天堂傘業(yè)集團(tuán)有限公司。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：張德忠、毛祖國、蔡志華、賈建新、張升達(dá)、王奇?zhèn)?、何杰?/p>

本標(biāo)準(zhǔn)所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為：

———ＧＢ／Ｔ１１３７９—１９８９。

Ⅲ

犌犅／犜１１３７９—２００８／犐犛犗６１５８：２００４

引言

工程用鉻電鍍層與裝飾性鉻一樣，通常采用六價(jià)鉻電鍍。然而工程用鉻電鍍層一般比裝飾性鉻電

鍍層厚。常規(guī)或傳統(tǒng)鉻是最常用的類型，多孔鉻、裂紋鉻、尺寸鍍鉻和雙層鉻也用來獲得貯油的或抗不

粘結(jié)的表面，或提高耐蝕性。

工程用鉻電鍍層常在基體金屬上直接電鍍，以提高耐磨性，增強(qiáng)抗摩擦腐蝕能力，減小靜摩擦力或

動(dòng)摩擦力，減小“咬死”或粘結(jié)，增強(qiáng)耐蝕性以及修復(fù)尺寸偏小或磨損的工件。為防嚴(yán)重腐蝕，電鍍鉻前

可采用鎳或其他金屬底鍍層，或采用合金電鍍來提高鉻鍍層的耐蝕性，如鉻鉬合金電鍍。

Ⅳ

犌犅／犜１１３７９—２００８／犐犛犗６１５８：２００４

金屬覆蓋層工程用鉻電鍍層

１范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了黑色和有色金屬上的有或無底鍍層的工程用鉻電鍍層的要求。電鍍層標(biāo)識(shí)提供了一

種表示典型工程應(yīng)用的鉻電鍍層的厚度的方法。

２規(guī)范性引用文件

下列文件中的條款通過本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件，其隨后所有

的修改單（不包括勘誤的內(nèi)容）或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn)，然而，鼓勵(lì)根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究

是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。

ＧＢ／Ｔ３１３８金屬鍍覆和化學(xué)處理與有關(guān)過程術(shù)語（ＧＢ／Ｔ３１３８—１９９５，ｎｅｑＩＳＯ２０７９：１９８１）

ＧＢ／Ｔ４９５５金屬覆蓋層覆蓋層厚度測量陽極溶解庫侖法（ＧＢ／Ｔ４９５５—２００５，ＩＳＯ２１７７：

２００３，ＩＤＴ）

ＧＢ／Ｔ４９５６磁性基體上的非磁性覆蓋層覆蓋層厚度測量磁性法（ＧＢ／Ｔ４９５６—２００３，

ＩＳＯ２１７８：１９８２，ＩＤＴ）

ＧＢ／Ｔ５２７０金屬基體上的金屬覆蓋層電沉積和化學(xué)沉積層附著力強(qiáng)度試驗(yàn)方法評(píng)述

（ＧＢ／Ｔ５２７０—２００５，ＩＳＯ２８１９：１９８０，ＩＤＴ）

ＧＢ／Ｔ６４６２金屬和氧化物覆蓋層厚度測量顯微鏡法（ＧＢ／Ｔ６４６２—２００５，ＩＳＯ１４６３：２００３，

ＩＤＴ）

ＧＢ／Ｔ６４６３金屬和其他無機(jī)覆蓋層厚度測量方法評(píng)述（ＧＢ／Ｔ６４６３—２００５，ＩＳＯ３８８２：２００３，ＩＤＴ）

ＧＢ／Ｔ９７９０金屬覆蓋層及其他有關(guān)覆蓋層維氏和努氏顯微硬度試驗(yàn)（ＧＢ／Ｔ９７９０—１９８８，

ｎｅｑＩＳＯ４５１６：１９８０）

ＧＢ／Ｔ１２３３２金屬覆蓋層工程用鎳電鍍層（ＧＢ／Ｔ１２３３２—２００８，ＩＳＯ４５２６：２００４，ＩＤＴ）

ＧＢ／Ｔ１２３３４金屬和其他非有機(jī)覆蓋層關(guān)于厚度測量的定義和一般規(guī)則（ＧＢ／Ｔ１２３３４—２００１，

ＩＳＯ２０６４：１９９６，ＩＤＴ）

ＧＢ／Ｔ１２６０９電沉積金屬覆蓋層和相關(guān)精飾計(jì)數(shù)檢驗(yàn)抽樣程序（ＧＢ／Ｔ１２６０９—２００５，

ＩＳＯ４５１９：１