標準解讀
《GB/T 13323-2009 光學制圖》相比于其前版《GB/T 13323-1991 光學制圖》,主要在以下幾個方面進行了更新和修訂:
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適用范圍擴展:2009版標準可能對光學制圖的應用領域或覆蓋的光學元件類型進行了更廣泛的定義,以適應技術進步和行業(yè)發(fā)展的需求。
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術語和定義更新:隨著光學技術的發(fā)展,新標準引入或修訂了部分專業(yè)術語和定義,以確保與當前行業(yè)實踐保持一致,增強規(guī)范的準確性和通用性。
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圖形符號標準化:對光學系統(tǒng)中的圖形符號進行了修訂和完善,可能包括新增符號以表示新的光學元件或功能,以及優(yōu)化原有符號的清晰度和一致性,便于設計者和制造者之間的溝通。
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制圖規(guī)則調(diào)整:為了提高圖紙的可讀性和信息表達的準確性,2009版標準可能對光學元件的尺寸標注、公差要求、視圖布局等方面制定了更詳細或更為靈活的規(guī)定。
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數(shù)字化與計算機輔助設計(CAD)兼容性:考慮到現(xiàn)代設計流程中CAD軟件的廣泛應用,新標準可能包含了關于光學圖紙電子化制作、存儲、傳輸?shù)臉藴屎椭笇?,確保與現(xiàn)代設計工具的無縫對接。
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質(zhì)量控制和檢驗要求:針對光學元件的特殊性質(zhì),2009版標準或許加強了對制圖質(zhì)量和成品檢驗的要求,提供了更具體的質(zhì)量評估方法和標準,以保證光學產(chǎn)品的性能和互換性。
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參考標準更新:由于標準體系的不斷完善,新標準引用了最新的國內(nèi)外相關標準,確保光學制圖規(guī)范與國際接軌,提升國內(nèi)光學產(chǎn)品在全球市場上的競爭力。
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2009-11-15 頒布
- 2010-02-01 實施
文檔簡介
犐犆犛37.020
犖30
中華人民共和國國家標準
犌犅/犜13323—2009
代替GB/T13323—1991
光學制圖
犗狆狋犻犮犪犾犱狉犪狑犻狀犵狊
(ISO101101:2006,Opticsandphotonics—Preparationof
drawingsforopticalelementsandsystems—Part1:General,NEQ)
20091115發(fā)布20100201實施
中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局
發(fā)布
中國國家標準化管理委員會
書
犌犅/犜13323—2009
目次
前言!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!Ⅰ
1范圍!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!1
2規(guī)范性引用文件!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!1
3一般規(guī)定!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!1
4圖樣要求!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!4
附錄A(資料性附錄)光學圖樣畫法及表示示例!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!14
附錄B(規(guī)范性附錄)材料的應力雙折射及非均勻性!!!!!!!!!!!!!!!!!!!23
附錄C(規(guī)范性附錄)表面結構的公差!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!25
參考文獻!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!27
書
犌犅/犜13323—2009
前言
本標準對應ISO101101:2006《光學和光子學光學零件和光學系統(tǒng)繪圖準備第1部分:總則》,
與ISO101101:2006的一致性程度為非等效。
本標準與ISO101101:2006的主要差異如下:
———刪除了國際標準的序言和前言;
———根據(jù)ISO101101:2006及我國標準用語習慣對標準范圍及符號作了重新編寫;
———參考并補充了ISO101108,ISO1011010,ISO1011012相關部分的內(nèi)容。
本標準代替GB/T13323—1991《光學制圖》,本標準與GB/T13323—1991相比主要變化如下:
———修改了標準范圍;
———修改了光軸的標注方法;
———將GB/T13323—1991的毛面修改為非拋光面;
———修改了光學零件圖樣的列表格式及內(nèi)容;
———修改了光學零件缺陷的公差的標注方法;
———修改了材料的雙折射和非均勻性的公差標注方法,并將其技術要求內(nèi)容放入附錄B;
———增加了表面結構的公差的標注方法,并將其內(nèi)容放入附錄C;
———修改了附錄A的示例,并增加了非球面透鏡的圖樣標注方法。
本標準的附錄A是資料性附錄,附錄B、附錄C是規(guī)范性附錄。
本標準由中國機械工業(yè)聯(lián)合會提出。
本標準由全國光學和光子學標準化技術委員會(SAC/TC103)歸口。
本標準負責起草單位:寧波永新光學股份有限公司、上海理工大學、鳳凰光學集團有限公司、江南永
新光學有限公司、上海光學精密機械研究所、蘇州一光儀器有限公司。
本標準參加起草單位:寧波市教學儀器有限公司、貴陽新天光電科技有限公司、寧波華光精密儀器
有限公司、南京東利來光電實業(yè)有限公司、浙江舜宇集團股份有限公司、梧州奧卡光學儀器公司、麥克奧
迪實業(yè)集團有限公司。
本標準主要起草人:曾麗珠、章慧賢、馮瓊輝、鄔子剛、徐德衍、李、付曉平。
本標準所代替標準的歷次版本發(fā)布情況為:
———GB1331—1977;
———GB/T13323—1991。
Ⅰ
犌犅/犜13323—2009
光學制圖
1范圍
本標準規(guī)定了光學制圖的一般規(guī)定、圖樣要求及尺寸、公差標注。
本標準適用于光學系統(tǒng)、光學部件和光學零件圖樣的繪制。
2規(guī)范性引用文件
下列文件中的條款通過本標準的引用而成為本標準的條款。凡是注日期的引用文件,其隨后所有
的修改單(不包括勘誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標準,然而,鼓勵根據(jù)本標準達成協(xié)議的各方研究
是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本適用于本標準。
GB/T131產(chǎn)品幾何技術規(guī)范(GPS)技術產(chǎn)品文件中表面結構的表示法(GB/T131—2006,
ISO1302:2002,IDT)
GB/T1185光學零件表面疵?。ǎ牵拢裕保保福怠玻埃埃?,ISO101107:1996,Opticsandopticalinstru
ments—Preparationofdrawingsforopticalelementsandsystems—Part7:Surfaceimperfectiontoler
ances,NEQ;ISO14997:2003,Opticsandopticalinstruments—Testmethodsforsurfaceimperfections
ofopticalelements,NEQ)
GB/T2831光學零件的面形偏差(GB/T2831—2009,ISO101105:2007,Opticsandphotonics—
Preparationofdrawingsforopticalelementsandsystems—Part5:Surfaceformtolerances,NEQ)
GB/T4457(所有部分)技術制圖
GB/T4458(所有部分)機械制圖
GB/T7242透鏡中心誤差
GB/T10609.1技術制圖標題欄
GB/T10609.2技術制圖明細欄(GB/T10609.2—1989,neqISO7573:1983)
GB/T14689技術制圖圖紙幅面和格式(GB/T14689—2008,ISO5457:1999,MOD)
GB
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