標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 1551-1995 硅、鍺單晶電阻率測定 直流兩探針法》這一標(biāo)準(zhǔn)相比于之前的《GB 1551-1979》和《GB 5253-1985》,主要在以下幾個(gè)方面進(jìn)行了調(diào)整和完善:
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適用范圍明確化:新標(biāo)準(zhǔn)更精確地界定了其適用對象,即硅、鍺單晶材料的電阻率測定,并明確了采用直流兩探針法進(jìn)行測量的具體要求和方法。這相比之前的標(biāo)準(zhǔn)可能有更加清晰的界定范圍。
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技術(shù)內(nèi)容更新:隨著科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步,測量技術(shù)和設(shè)備有了顯著發(fā)展,新標(biāo)準(zhǔn)融入了最新的測量理論和技術(shù)手段,提高了測量精度和可靠性。例如,對探針材料、接觸電阻補(bǔ)償、溫度控制等關(guān)鍵因素提出了更具體的要求。
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測試程序標(biāo)準(zhǔn)化:詳細(xì)規(guī)定了從樣品準(zhǔn)備、測量環(huán)境控制到數(shù)據(jù)處理的全過程標(biāo)準(zhǔn)化操作步驟,增強(qiáng)了實(shí)驗(yàn)可重復(fù)性和結(jié)果的一致性。這有助于減少因操作差異導(dǎo)致的誤差。
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計(jì)量單位統(tǒng)一:根據(jù)國際單位制(SI)的要求,新標(biāo)準(zhǔn)對所有涉及的物理量和參數(shù)均采用了國際標(biāo)準(zhǔn)單位,確保了與國際標(biāo)準(zhǔn)的接軌和數(shù)據(jù)的國際可比性。
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質(zhì)量控制加強(qiáng):增加了對測量不確定度分析和校準(zhǔn)驗(yàn)證的要求,強(qiáng)調(diào)了實(shí)驗(yàn)室質(zhì)量控制的重要性,確保測量結(jié)果的準(zhǔn)確性和可信度。
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術(shù)語定義規(guī)范:對相關(guān)專業(yè)術(shù)語進(jìn)行了更為嚴(yán)謹(jǐn)和規(guī)范的定義,有助于消除理解上的歧義,提升標(biāo)準(zhǔn)的可讀性和實(shí)用性。
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參考文獻(xiàn)更新:引用了最新的科研成果和國際標(biāo)準(zhǔn)作為支撐,反映了該領(lǐng)域最新的理論和實(shí)踐進(jìn)展。
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- 被代替
- 已被新標(biāo)準(zhǔn)代替,建議下載現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)GB/T 1551-2009
- 1995-04-18 頒布
- 1995-12-01 實(shí)施
文檔簡介
UDC.669.7821.783:621.317-33H21中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)GB/T1551-1995硅、錯(cuò)單晶電阻率測定直流兩探針法Testmethodforresistivityofsiliconandgermaniumbarsusingatwo-pointprobe1995-04-18發(fā)布1995-12-01實(shí)施國家技術(shù)監(jiān)督局發(fā)布
中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)硅、錯(cuò)單晶電阻率測定GB/T1551-1995兩:深直針流法TestmethodforresistivityofsiliconGB5253-85andgermaniumbarsusingatwo-pointprobe主題內(nèi)容與適用范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用直流兩探針測量硅和錯(cuò)單品鍵電阻率的方法、本標(biāo)準(zhǔn)適用于測量截面積均勾的圓形、方形或矩形單品鍵的電阻率。測量范圍:硅單晶為10~~10*Q·cm·錯(cuò)單晶為5×10-~10°Q·cm。試樣長度與截面最大尺寸之比應(yīng)不小于3:1。2引用標(biāo)準(zhǔn)GB1550硅單晶導(dǎo)電類型測定方法GB/T1552硅、錯(cuò)單晶電阻率測定直排四探針法GB5256錯(cuò)單晶導(dǎo)電類型測量方法方法提要讓直流電流I通過試樣兩端,并使A、B兩根探針垂直壓在試樣側(cè)面,測量A、B兩根探針間的電位差V,見圖1。若試樣的橫截面積為A,探針間距為S,則試樣的電阻率·可用式(1)計(jì)算:式中:0--電阻率,0·cmniV兩探針間的電位差,V;1--通過試樣的直流電流,A;4-試樣的截面積,cm2;S--兩探針間的探針間距,e
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