標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 12962-1996 硅單晶》與前一版《GB 12962-1991》相比,主要在以下幾個(gè)方面進(jìn)行了調(diào)整和完善:
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標(biāo)準(zhǔn)性質(zhì)的調(diào)整:從標(biāo)準(zhǔn)編號的變化可以看出,《GB/T 12962-1996》變?yōu)榱送扑]性國家標(biāo)準(zhǔn)("T"表示推薦性),而《GB 12962-1991》為強(qiáng)制性國家標(biāo)準(zhǔn),這一變化意味著新版標(biāo)準(zhǔn)為企業(yè)提供了更多的執(zhí)行靈活性。
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技術(shù)指標(biāo)的更新:新版標(biāo)準(zhǔn)對硅單晶的純度、晶體結(jié)構(gòu)、雜質(zhì)含量、缺陷密度等關(guān)鍵質(zhì)量指標(biāo)進(jìn)行了修訂或新增,以適應(yīng)半導(dǎo)體技術(shù)進(jìn)步對材料性能提出的更高要求。例如,可能對某些特定雜質(zhì)元素的濃度限值給出了更嚴(yán)格的規(guī)定,或是對晶體的完整性檢測方法進(jìn)行了優(yōu)化。
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檢測方法的改進(jìn):隨著分析技術(shù)和測試手段的發(fā)展,《GB/T 12962-1996》引入了更為精確和高效的檢測方法,用于評價(jià)硅單晶的各項(xiàng)性能指標(biāo)。這些新方法可能包括更先進(jìn)的光譜分析技術(shù)、電子顯微鏡觀測技術(shù)等,旨在提高檢測結(jié)果的準(zhǔn)確性和可靠性。
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規(guī)范性附錄的增補(bǔ):為了便于理解和執(zhí)行,新標(biāo)準(zhǔn)可能增加了詳細(xì)的規(guī)范性附錄,提供了具體的測試程序、樣品制備方法、數(shù)據(jù)處理規(guī)則等,從而使得標(biāo)準(zhǔn)的實(shí)施更加規(guī)范化和標(biāo)準(zhǔn)化。
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術(shù)語和定義的明確:隨著行業(yè)的發(fā)展,一些專業(yè)術(shù)語可能有了新的定義或解釋,新標(biāo)準(zhǔn)對此進(jìn)行了整理和明確,有助于統(tǒng)一行業(yè)語言,減少理解上的歧義。
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標(biāo)準(zhǔn)適用范圍的調(diào)整:雖然具體調(diào)整內(nèi)容未直接說明,但根據(jù)慣例,新版標(biāo)準(zhǔn)可能會根據(jù)市場和技術(shù)發(fā)展的實(shí)際情況,對硅單晶的適用范圍進(jìn)行適當(dāng)擴(kuò)展或細(xì)化,以更好地指導(dǎo)生產(chǎn)和應(yīng)用。
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- 被代替
- 已被新標(biāo)準(zhǔn)代替,建議下載現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)GB/T 12962-2005
- 1996-11-04 頒布
- 1997-04-01 實(shí)施
文檔簡介
ICS29.045H82中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)CB/T12962-1996硅單晶Monocrystallinesilicon1996-11-04發(fā)布1997-04-01實(shí)施國家技術(shù)監(jiān)督局發(fā)布
GB/T12962-1996本標(biāo)準(zhǔn)參照國外有關(guān)標(biāo)準(zhǔn),結(jié)合我國硅材料的使用情況,對GB12962—91進(jìn)行修訂而成的。。修訂時(shí)保留了原標(biāo)準(zhǔn)中符合我國實(shí)際的內(nèi)容。修訂后的本標(biāo)準(zhǔn),刪去了原標(biāo)準(zhǔn)中直拉硅單品直徑為38mm、80mm、90mm規(guī)格,增加了直徑125mm、150mm規(guī)格;對硅單品的旋渦缺陷密度和微缺陷密度指標(biāo)改為由供需雙方商定;對徑向電阻率變化指標(biāo),增加了距邊緣6mm測點(diǎn)(見GB11073的B方案)計(jì)算;對區(qū)熔硅單晶和中子嬉變摻雜硅單晶的徑向電阻率變化指標(biāo),改為按GB11073的C方案或B方案測量和計(jì)算。中子姬變摻雜硅單晶增加了微區(qū)電阻率條紋內(nèi)容。與本標(biāo)準(zhǔn)配套的標(biāo)準(zhǔn)有:GB/T12964硅單晶拋光片GB/T12965硅單晶切割片和研磨片本標(biāo)準(zhǔn)從1997年4月1日起實(shí)施。本標(biāo)準(zhǔn)從生效之日起,代替GB12962-91。本標(biāo)準(zhǔn)由中國有色金屬工業(yè)總公司提出。本標(biāo)準(zhǔn)由中國有色金屬工業(yè)總公司標(biāo)準(zhǔn)計(jì)量研究所歸口。本標(biāo)準(zhǔn)起草單位:峨眉半導(dǎo)體材料廠和中國有色金屬工業(yè)總公司標(biāo)準(zhǔn)計(jì)量研究所.本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:王鴻高、劉文魁、尹建華、吳福立。本標(biāo)準(zhǔn)首次發(fā)布日期:1991年6月。
中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)晶硅GB/T12962-1996Monocrystallinesilicon代替GB12962-911范園本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了硅單品的產(chǎn)品分類、技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則以及標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸、財(cái)存。本標(biāo)準(zhǔn)適用于用直拉法、懸浮區(qū)熔法(包括中子嫂變摻雜)制備的硅單品。產(chǎn)品主要供制作半導(dǎo)體元器件使用。2引用標(biāo)準(zhǔn)下列標(biāo)準(zhǔn)所包含的條文,通過在本標(biāo)準(zhǔn)中引用而構(gòu)成為本標(biāo)準(zhǔn)的條文。本標(biāo)準(zhǔn)出版時(shí),所示版本均為有效,所有標(biāo)準(zhǔn)都會被修訂,使用本標(biāo)準(zhǔn)的各方應(yīng)探討使用下列標(biāo)準(zhǔn)最新版本的可能性。GB/T1550硅單晶導(dǎo)電類型測定方法GB/T1551—1995硅、錯(cuò)單晶電阻率測定直流兩探針法GB/T1552—1995硅、錯(cuò)單晶電阻率測定直排四探針法GB/T1553硅單晶壽命直流光電導(dǎo)衰退測量方法GB/T1554一1995硅晶體完整性化學(xué)擇優(yōu)腐蝕檢驗(yàn)方法GB1555—79硅單晶晶向光圖測量方法GB1556—79硅單晶晶向X光衍射測量方法GB1557—89硅晶體中間隙氧含量紅外吸收測量方法GB1558-83測定硅晶體中代位碳含量的紅外吸收方法GB/T4058—1995硅拋光片氧化誘生缺陷檢驗(yàn)方法GB/T6617—1995硅片電阻率測定擴(kuò)展電阻探針法GB11073—89硅片徑向電阻率變化的測量方法GB/T12964—1996硅單晶拋光片GB/T14844-93半導(dǎo)體材料牌號表示法3.產(chǎn)品分類3.1分類產(chǎn)品按硅單晶的生產(chǎn)工藝方法分為直拉、懸浮區(qū)熔和中子嬉變摻雜(NTD)3種硅單
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