GB/T 18193-2000真空技術(shù)質(zhì)譜檢漏儀校準(zhǔn)

ICS.23.160J78中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T_18193-2000idtISO3530：1979真空技術(shù)質(zhì)譜檢漏儀校準(zhǔn)Vacuumtechnology·Mass-spectrometer-typeleakdetectorcalibration2000-09-26發(fā)布2001-02-01實(shí)施國(guó)家質(zhì)量技術(shù)監(jiān)督局發(fā)布

GB/T18193-2000前本標(biāo)準(zhǔn)等同采用ISO3530:1979《真空技術(shù)質(zhì)譜檢漏儀校準(zhǔn)》.在技術(shù)內(nèi)容上與該國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)等效但是考慮到我國(guó)標(biāo)準(zhǔn)本身的特點(diǎn)及漢語(yǔ)的表述習(xí)慣，使該標(biāo)準(zhǔn)既與國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)接軌.又適合我國(guó)的國(guó)情，為此·對(duì)ISO3530:1979標(biāo)準(zhǔn)的個(gè)別內(nèi)容作了編輯性修改。本標(biāo)準(zhǔn)由國(guó)家機(jī)械工業(yè)局提出。本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)真空技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口本標(biāo)準(zhǔn)起草單位：沈陽(yáng)真空技術(shù)研究所。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：龍方、李春影、任麗華、李玉英

GB/T18193-2000ISO前音ISO(國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化組織)是各國(guó)標(biāo)準(zhǔn)協(xié)會(huì)(ISO成員)世界性的聯(lián)合組織。制定國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)工作是通過ISO技術(shù)委員會(huì)來進(jìn)行的。每個(gè)成員都有權(quán)參加其感興趣的議題所在的委員會(huì),與ISO有關(guān)的國(guó)際組織·政府的和非政府的也參加了這個(gè)工作。技術(shù)委員會(huì)采納的國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)草案，被ISO理事會(huì)采納成為國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)以前，應(yīng)發(fā)給各個(gè)委員會(huì)成員ISO3530國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)為ISO/TC112真空技術(shù)委員會(huì)制定，并于1978年11月發(fā)給了每個(gè)成員。本標(biāo)準(zhǔn)由以下國(guó)家成員通過：澳大利亞比利時(shí)智利前捷克斯洛伐克德國(guó)法國(guó)印度意大利日木墨西哥韓國(guó)波蘭羅馬尼亞南非共和國(guó)西班牙英國(guó)美國(guó)沒有成員表示反對(duì)這個(gè)文件

GB/T18193-2000ISO引言該標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了質(zhì)譜檢漏儀校準(zhǔn)的使用程序，即測(cè)定質(zhì)譜檢漏儀靈敏度。但該程序需要使用的一個(gè)?；绰┛缀鸵环N標(biāo)準(zhǔn)的氣體混合物，不在這個(gè)標(biāo)準(zhǔn)的范圍內(nèi)。質(zhì)譜檢漏儀以下簡(jiǎn)稱“檢漏儀"。檢漏儀用于機(jī)械孔(如針孔)的漏量和通過許多聚合材料而發(fā)生的漏氣的探測(cè)。那些表面解吸、氣化和氣穴的虛漏，一般不能用檢漏儀探測(cè)。漏率校準(zhǔn)范圍限制在一個(gè)規(guī)定的水平，因?yàn)閷?duì)于較大泄漏這個(gè)因素是不重要的.而對(duì)于漏率小于10-1Pa·m2·s的泄漏·這個(gè)因素就變得重要了。檢漏儀檢驗(yàn)的對(duì)象可以在高真空條件下或者高于大氣壓下。一般在兩種情況下檢漏技術(shù)將不同。在第一種情況下.檢漏儀通常在接近它的低的極限壓力下進(jìn)行工作：在第二種情況下，檢漏儀常被使用在其最大或接近最大工作壓力。對(duì)應(yīng)于這兩個(gè)工作條件，兩個(gè)靈敏度術(shù)語(yǔ)定為：“最小可檢漏率"和“最小可檢濃度比"（見本標(biāo)準(zhǔn)第2章)。這樣定義的兩個(gè)量是有關(guān)系的，但是,從一個(gè)數(shù)據(jù)去算得另一個(gè)數(shù)據(jù)不可行。因此規(guī)定了測(cè)定兩者的方法該標(biāo)準(zhǔn)用在真空技術(shù)領(lǐng)域中是一系列泄漏試驗(yàn)程序和裝置標(biāo)準(zhǔn)之一。應(yīng)用分類：氣密性、檢漏儀校準(zhǔn)、漏孔的校準(zhǔn)、氣體混合物、檢漏儀驗(yàn)收規(guī)范和真空設(shè)備的氣密檢驗(yàn)的一般程序。上述應(yīng)用分類中的-一些項(xiàng)構(gòu)成將來標(biāo)準(zhǔn)的課題

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)真空技術(shù)質(zhì)譜檢漏儀校準(zhǔn)GB/T18193-2000idtIso3530：1979Vacuumtechnology一Mass-speetrometer-typeleakdetectorcalibration1范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了質(zhì)譜檢漏儀的校準(zhǔn)程序。它僅適用于校準(zhǔn)將靈敏元件處于高真空系統(tǒng)中的檢漏儀。因此這個(gè)方法沒有制訂完整的驗(yàn)收試驗(yàn)。本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定探索氣體使用氨-4。但在適當(dāng)?shù)念A(yù)防措施下,可以使用其他探索氣體,如氬-40,本標(biāo)準(zhǔn)的應(yīng)用受到檢漏儀不能測(cè)定小于10-Pa·m2·s一漏率漏孔限制。本標(biāo)準(zhǔn)程序提出了測(cè)定最小可檢漏率和最小可檢濃度比的兩個(gè)要點(diǎn)。它分別應(yīng)用于高真空和壓力大于一個(gè)大氣壓的檢漏儀上。2定義本標(biāo)準(zhǔn)采用下列定義2.1本底(或殘余信號(hào)）background(orresidualsignal)2.1.1本底background設(shè)有注入探索氣體時(shí)，檢漏儀給出的總的假象指示(本底發(fā)生在質(zhì)譜管中或在電極電子系統(tǒng)中或同時(shí)發(fā)生在兩者中。由于離子不同于注人探索氣體所產(chǎn)生的離子.所以該術(shù)語(yǔ)習(xí)慣稱為指示）。2.1.2漂移drift本底較緩慢的改變。有效的參量是在規(guī)定的期間內(nèi)測(cè)得的最大漂移2.1.3噪聲noise本底比較快地改變。有效的參量是在規(guī)定的期間內(nèi)測(cè)得的噪聲2.1.4氫本底heliumbackground由檢漏儀壁或檢漏系統(tǒng)釋放出氨所造成的本底2.2元件components2.2.1人口管路或試樣人口管路inletlineorsampleinletline深索氣體從試驗(yàn)件流到檢漏儀經(jīng)過的管路。2.2.2人口閥inletvalve連接試樣與檢漏儀的閥門(見圖1),它是檢漏儀的主要部件2.2.3漏孔隔離閥leakisolationvalve安裝在試驗(yàn)檢漏儀所用的漏孔和試樣入口管路之間的閥門(見圖1)。2.2.4抽氣閥pumpvalve安裝在抽空試樣人口管路使用的粗抽泵和管路之間的閥（見圖1）2.2.5放氣閥ventvalve用來引進(jìn)空氣或其他氣體進(jìn)