標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB/T 18682-2002 物理氣相沉積TiN薄膜技術(shù)條件》作為一項(xiàng)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)，規(guī)定了物理氣相沉積（PVD）制備氮化鈦（TiN）薄膜的技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則以及標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和儲(chǔ)存要求。與未明確提及的其他標(biāo)準(zhǔn)或其前身相比，該標(biāo)準(zhǔn)主要在以下幾個(gè)方面設(shè)定了具體規(guī)范或可能包含了更新內(nèi)容：

  1. 技術(shù)要求細(xì)化：標(biāo)準(zhǔn)詳細(xì)規(guī)定了TiN薄膜的性能指標(biāo)，如硬度、附著力、表面粗糙度、顏色、膜層厚度及均勻性等，確保了產(chǎn)品質(zhì)量控制的一致性和可衡量性。

  2. 試驗(yàn)方法標(biāo)準(zhǔn)化：為驗(yàn)證薄膜性能是否符合要求，標(biāo)準(zhǔn)明確了各項(xiàng)測(cè)試的執(zhí)行方法，包括硬度測(cè)試、附著力測(cè)試、表面形貌觀察等，增強(qiáng)了測(cè)試結(jié)果的可靠性和重復(fù)性。

  3. 檢驗(yàn)規(guī)則確立：規(guī)定了產(chǎn)品檢驗(yàn)的程序和合格判定準(zhǔn)則，既包括出廠檢驗(yàn)也涵蓋了型式檢驗(yàn)，確保每批次產(chǎn)品的質(zhì)量符合標(biāo)準(zhǔn)要求。

  4. 標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和儲(chǔ)存規(guī)范：為了保證TiN薄膜產(chǎn)品在流通和存儲(chǔ)過(guò)程中的品質(zhì)不受損，標(biāo)準(zhǔn)對(duì)產(chǎn)品的標(biāo)識(shí)信息、包裝材料、防護(hù)措施以及儲(chǔ)存環(huán)境條件提出了具體要求。

  5. 適用范圍明確：標(biāo)準(zhǔn)可能對(duì)TiN薄膜的應(yīng)用領(lǐng)域進(jìn)行了界定，指出了它適用于哪些工業(yè)或工具表面處理場(chǎng)景，為用戶提供明確的指導(dǎo)。

由于沒(méi)有提供與之直接對(duì)比的另一標(biāo)準(zhǔn)或版本，以上分析基于一般性理解，即新標(biāo)準(zhǔn)或修訂版通常會(huì)根據(jù)技術(shù)進(jìn)步、行業(yè)需求變化及反饋進(jìn)行相應(yīng)的調(diào)整和優(yōu)化，以更好地適應(yīng)市場(chǎng)和技術(shù)發(fā)展的需要。


如需獲取更多詳盡信息，請(qǐng)直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文檔。

....

查看全部

  • 現(xiàn)行
  • 正在執(zhí)行有效
  • 2002-03-10 頒布
  • 2002-08-01 實(shí)施
?正版授權(quán)
GB/T 18682-2002物理氣相沉積TiN薄膜技術(shù)條件_第1頁(yè)
GB/T 18682-2002物理氣相沉積TiN薄膜技術(shù)條件_第2頁(yè)
GB/T 18682-2002物理氣相沉積TiN薄膜技術(shù)條件_第3頁(yè)
GB/T 18682-2002物理氣相沉積TiN薄膜技術(shù)條件_第4頁(yè)
免費(fèi)預(yù)覽已結(jié)束，剩余24頁(yè)可下載查看

下載本文檔

免費(fèi)下載試讀頁(yè)

文檔簡(jiǎn)介

ICS25.220.20A29中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T18682-2002物理氣相沉積TiN薄膜技術(shù)條件SpecificationsofphysicalvapourdepositionTiNfilms2002-03-10發(fā)布2002-08-01實(shí)施中華人民共和國(guó)發(fā)布國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局

GB/T18682-2002次前言1范圍規(guī)范性引用文件術(shù)語(yǔ)和定義34技術(shù)要求5性能及試驗(yàn)方法附錄A(規(guī)范性附錄）鍍膜前零件表面質(zhì)量控制技術(shù)要求附錄B(規(guī)范性附錄）物理氣相沉積技術(shù)用鈦靶………附錄C(規(guī)范性附錄)物理氣相沉積TiN設(shè)備的真空技術(shù)要求附錄D(規(guī)范性附錄)膜厚度測(cè)量方法……附錄E(規(guī)范性附錄)物理氣相沉積TiN薄膜防腐能力試驗(yàn)方法附錄F(規(guī)范性附錄)物理氣相沉積TiN薄膜摩擦學(xué)性能試驗(yàn)方法

GB/T18682-2002前本標(biāo)準(zhǔn)的附錄A、附錄B、附錄C、附錄D、附錄E、附錄F為規(guī)范性附錄.本標(biāo)準(zhǔn)由中國(guó)機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì)提出。本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)金屬與非金屬覆蓋層標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口本標(biāo)準(zhǔn)負(fù)責(zé)起草單位：武漢材料保護(hù)研究所本標(biāo)準(zhǔn)參加起草單位：鋼鐵研究總院、中科院力學(xué)研究所、中國(guó)航科集團(tuán)公司五一一研究所、成都工具研究所、中科院蘭州化學(xué)物理研究所、蘭州真空設(shè)備有限責(zé)任公司、長(zhǎng)沙科航新型表面技術(shù)研究所。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：凌國(guó)偉、李健、倪瀚、黃濟(jì)群、曲學(xué)基、紀(jì)曉春、秦襄培。

GB/T18682-2002物理氣相沉積TiN薄膜技術(shù)條件范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了物理氣相沉積TiN薄膜的技術(shù)要求。本標(biāo)準(zhǔn)適用于物理氣相沉積TiN薄膜.也適用于其他方法制備的TiN薄膜。本標(biāo)準(zhǔn)也適用于其他材料沉積層(TiC,TICN,TiAlN等).2規(guī)范性引用文件下列文件中的條款通過(guò)在本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件，其隨后所有的修改單(不包括勒誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn).然而，鼓勵(lì)根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究是否使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。GB191包裝儲(chǔ)運(yùn)圖示標(biāo)志(eqvISO780）GB/T3620.1鈦及鈦合金牌號(hào)和化學(xué)成分GB/T3620.2鈦及鈦合金加工產(chǎn)品化學(xué)成分及成分允許偏差GB/T4698海綿鈦、鈦及鈦合金化學(xué)分析方法GB/T5168兩相鈦合金高、低倍組織檢驗(yàn)方法GB/T5193鈦及鈦合金加工產(chǎn)品超聲波探傷方法(eqvAMS2631)GB/T6070真空法蘭(eqvISO1609）GB/T8180鈦及鈦合金加工產(chǎn)品的包裝、標(biāo)志、運(yùn)輸和儲(chǔ)存GB/T11164—1999真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件GB/T13384機(jī)電產(chǎn)品包裝通用技術(shù)條件GB/T15827離子鍍仿金氮化鈦的顏色(neqISO8654)JB/T6075氮化鈦涂層金相檢驗(yàn)方法JB/T7506松散磨粒磨料磨損試驗(yàn)方法橡膠輪法JB/T7673真空設(shè)備型號(hào)編制方法JB/T7705固定磨粒磨料磨損銷-砂紙盤(pán)滑動(dòng)磨損法JB/T8554氣相沉積薄膜與基體附著力的劃痕試驗(yàn)法JB/T53021真空鍍膜設(shè)備產(chǎn)品質(zhì)量分等3術(shù)語(yǔ)和定義下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本標(biāo)準(zhǔn)極限壓力ultimatevacuumpressure真空系統(tǒng)正常工作時(shí)，空載干燥的真空室達(dá)到穩(wěn)定的最低壓力。單位為Pa3.

溫馨提示

  • 1. 本站所提供的標(biāo)準(zhǔn)文本僅供個(gè)人學(xué)習(xí)、研究之用，未經(jīng)授權(quán)，嚴(yán)禁復(fù)制、發(fā)行、匯編、翻譯或網(wǎng)絡(luò)傳播等，侵權(quán)必究。
  • 2. 本站所提供的標(biāo)準(zhǔn)均為PDF格式電子版文本（可閱讀打?。?，因數(shù)字商品的特殊性，一經(jīng)售出，不提供退換貨服務(wù)。
  • 3. 標(biāo)準(zhǔn)文檔要求電子版與印刷版保持一致，所以下載的文檔中可能包含空白頁(yè)，非文檔質(zhì)量問(wèn)題。

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論