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§10化合物半導(dǎo)體材料10.1III-V化合物半導(dǎo)體10.2II-VI化合物半導(dǎo)體2/4/20231III-V族化合物半導(dǎo)體由III族元素和V族元素按一定比例組成的化合物半導(dǎo)體,稱為III-V族化合物半導(dǎo)體。大部分III-V族化合物半導(dǎo)體的晶體結(jié)構(gòu)是閃鋅礦結(jié)構(gòu)許多III-V族化合物半導(dǎo)體具有直接能帶結(jié)構(gòu)§10化合物半導(dǎo)體材料

10.1III-V族化合物半導(dǎo)體2/4/20232§10化合物半導(dǎo)體材料

10.1III-V族化合物半導(dǎo)體2/4/20233§10化合物半導(dǎo)體材料

10.1III-V族化合物半導(dǎo)體2/4/20234(1).GaAs的能帶結(jié)構(gòu)和性質(zhì)I.價(jià)帶有3個(gè)能帶II.具有直接帶隙結(jié)構(gòu)III.導(dǎo)帶具有多能谷A.GaAs的能帶結(jié)構(gòu)§10化合物半導(dǎo)體材料

10.1III-V族化合物半導(dǎo)體2/4/20235§10化合物半導(dǎo)體材料

10.1III-V族化合物半導(dǎo)體2/4/20236I.淺施主能級(jí)雜質(zhì):VI族元素Se,S,TeB.GaAs中的雜質(zhì)II.淺受主能級(jí)雜質(zhì):II族元素Zn,Be,Mg,CdIII.深能級(jí)雜質(zhì):Au,Cu,CrIV.雙性雜質(zhì):IV族元素Si,Ge,Sn,PbV.等電子(中性)雜質(zhì):III元素和V族元素§10化合物半導(dǎo)體材料

10.1III-V族化合物半導(dǎo)體2/4/20237§10化合物半導(dǎo)體材料

10.1III-V族化合物半導(dǎo)體2/4/20238I.遷移率高C.GaAs的電學(xué)性質(zhì)II.負(fù)微分電導(dǎo)效應(yīng)I.大功率器件II.高速、微波器件III.太陽(yáng)能電池、發(fā)光二極管,激光器D.GaAs半導(dǎo)體的應(yīng)用IV.紅外探測(cè)器§10化合物半導(dǎo)體材料

10.1III-V族化合物半導(dǎo)體2/4/20239§10化合物半導(dǎo)體材料

10.1III-V族化合物半導(dǎo)體2/4/202310§10化合物半導(dǎo)體材料

10.1III-V族化合物半導(dǎo)體2/4/202311§10化合物半導(dǎo)體材料

10.1III-V族化合物半導(dǎo)體2/4/202312(2).GaP的能帶結(jié)構(gòu)及性質(zhì)I.價(jià)帶有2個(gè)能帶II.具有間接帶隙結(jié)構(gòu)III.導(dǎo)帶具有多能谷A.GaP的能帶結(jié)構(gòu)§10化合物半導(dǎo)體材料

10.1III-V族化合物半導(dǎo)體2/4/202313§10化合物半導(dǎo)體材料

10.1III-V族化合物半導(dǎo)體2/4/202314I.發(fā)光二極管II.雪崩二極管C.GaP半導(dǎo)體的應(yīng)用B.GaP中的雜質(zhì)§10化合物半導(dǎo)體材料

10.1III-V族化合物半導(dǎo)體2/4/202315§10化合物半導(dǎo)體材料

10.1III-V族化合物半導(dǎo)體2/4/202316(3).GaN的能帶結(jié)構(gòu)和性質(zhì)I.常用的GaN為纖鋅礦晶體結(jié)構(gòu)II.具有直接帶隙結(jié)構(gòu)III.室溫下Eg=3.39eVA.GaN的基本性質(zhì)§10化合物半導(dǎo)體材料

10.1III-V族化合物半導(dǎo)體2/4/202317§10化合物半導(dǎo)體材料

10.1III-V族化合物半導(dǎo)體2/4/202318I.施主雜質(zhì):Si和SeB.GaN的摻雜II.受主雜質(zhì):Mg,需經(jīng)特殊處理I.藍(lán)、綠發(fā)光二極管II.多量子阱藍(lán)色激光器III.紫外探測(cè)器D.GaN的應(yīng)用IV.高溫、大功率晶體管§10化合物半導(dǎo)體材料

10.1III-V族化合物半導(dǎo)體2/4/202319

II-VI化合物半導(dǎo)體I.由II族副族和VI族主族元素構(gòu)成Zn,Cd,Hg和O,S,Se,TeII.都具有直接帶隙結(jié)構(gòu)III.禁帶寬度可通過(guò)第三元素調(diào)節(jié)IV.缺陷密度大,難制備p-n結(jié)(1).基本特性§10化合物半導(dǎo)體材料

10.2

II-VI族化合物半導(dǎo)體2/4/202320I.點(diǎn)缺陷類型:間隙原子和空位(2).II-VI族化合物半導(dǎo)體中的點(diǎn)缺陷II.MX結(jié)構(gòu)中,VX相當(dāng)于施主VM相當(dāng)于受主I.CdTe,HgTe,CdxHg1-xTe(3).II-VI族化合物§10化合物半導(dǎo)體材料

10.2

II-VI族化合物半導(dǎo)體II.ZnO2/4/202321§10化合物半導(dǎo)體材料

10.2

II-VI族化合物半導(dǎo)體2/4/202322§10化合物半導(dǎo)體材料

10.2

II-VI族化合物半導(dǎo)體2/4/202323§10化合物半導(dǎo)體材料

10.2

II-VI族化合物半導(dǎo)體2/4/202324§10化合物半導(dǎo)體材料

10.2

II-VI族化合物半導(dǎo)體2/4/202325§10化合物半導(dǎo)體材料

10.2

II-VI族化合物半導(dǎo)體2/4/202326§10化合物半導(dǎo)體材料

10.2

II-VI族化合物半導(dǎo)體2/4/202327a.霍爾器件CdxHg1-xTeb.紅外探測(cè)器CdxHg1-xTec.無(wú)汞的II-VI族化合物半導(dǎo)體可制作可見(jiàn)光,紫外光,X光探測(cè)器,光敏電阻,太陽(yáng)能電池,電致發(fā)光器件等§10化合物半導(dǎo)體材料

10.2

II-VI族化合物半導(dǎo)體CdTe,HgTe,CdxHg1-xTe材料的應(yīng)用2/4/202328§10化合物半導(dǎo)體材料

10.2

II-VI族化合物半導(dǎo)體(1).ZnO的基本性質(zhì)

ZnO是一種Ⅱ-Ⅵ族氧化物材料,具有六方纖鋅礦結(jié)構(gòu)。ZnO的分子結(jié)構(gòu)類型介于共價(jià)鍵與離子鍵之間,c軸方向具有很強(qiáng)的極性。2/4/202329§10化合物半導(dǎo)體材料

10.2

II-VI族化合物半導(dǎo)體纖鋅礦結(jié)構(gòu)ZnO的一些物理參數(shù)物理參數(shù)符號(hào)數(shù)值300K時(shí)的晶格常數(shù)(nm)a0c00.324950.52069密度(g/cm3)ρ5.606熔點(diǎn)(℃)Tm1975熱導(dǎo)率(W/cm·K)σv0.595(a軸方向),1.2(c軸方向)線性膨脹系數(shù)(10-6/K)Δa/a,Δc/c6.5,3.0靜態(tài)介電常數(shù)ε8.656折射率n2.008(a軸方向),2.029(c軸方向)壓電常數(shù)(C/m2)eije31=-0.61,e33=1.14,e13=-0.59300K時(shí)的禁帶寬度(eV)Eg3.37激子結(jié)合能(meV)Eex60激子Bohr半徑(nm)αB2.03本征載流子濃度(cm-3)n<106電子有效質(zhì)量(×m0)me*0.24300K下n型底阻ZnO的電子Hall遷移率(cm2V-1s-1)μe200空穴有效質(zhì)量(×m0)mh*0.59300K下p型底阻ZnO的電子Hall遷移率(cm2V-1s-1)μh5~502/4/202330§10化合物半導(dǎo)體材料

10.2

II-VI族化合物半導(dǎo)體ZnO與GaN有相同的晶體結(jié)構(gòu),相近的晶格常數(shù)和禁帶寬度。與之相比,ZnO還具有以下優(yōu)點(diǎn):1、ZnO薄膜的生長(zhǎng)溫度一般低于700℃,比GaN(生長(zhǎng)溫度1050℃)要低得多,有利于降低對(duì)設(shè)備的要求和損耗;2、ZnO薄膜在室溫下光致發(fā)光和受激輻射有較低的閥值功率,有較高的能量轉(zhuǎn)換效率;(2).ZnO材料的優(yōu)點(diǎn)2/4/202331§10化合物半導(dǎo)體材料

10.2

II-VI族化合物半導(dǎo)體3、ZnO有較高的激子復(fù)合能為60meV,理論上有可能實(shí)現(xiàn)室溫下較強(qiáng)的紫外受激發(fā)射,制備出性能較好的探測(cè)器、LED和LD等光電子器件。4、ZnO有很好的成膜特性,能在較低的溫度(200℃-650℃)下制備出有較好晶體質(zhì)量的ZnO薄膜。5、ZnO薄膜的原料豐富、成本低、無(wú)毒、對(duì)環(huán)境無(wú)污染,是環(huán)保型材料。2/4/202332§10化合物半導(dǎo)體材料

10.2

II-VI族化合物半導(dǎo)體1)未摻雜ZnO的導(dǎo)電機(jī)制—n型導(dǎo)電

未摻雜氧化鋅薄膜中存在的缺陷主要是點(diǎn)缺陷,即氧缺位或金屬鋅原子過(guò)剩,這些缺陷是ZnO薄膜中載流子的主要來(lái)源。氧缺位使薄膜晶體結(jié)構(gòu)中鋅與氧的化學(xué)計(jì)量比大于1:1。此時(shí)薄膜中就會(huì)存在過(guò)剩的正電荷,為了保持電中性,就會(huì)在氧缺位周圍聚集同樣多的電子,由于電子與缺陷之間的束縛力非常弱,在常溫下就能獲得足夠高的能量脫離其束縛而成為自由電子,所以此類薄膜為n型半導(dǎo)體薄膜,其電阻率高于106cm。(3)ZnO摻雜2/4/202333§10化合物半導(dǎo)體材料

10.2

II-VI族化合物半導(dǎo)體2)n型摻雜的ZnO

為了提高氧化鋅薄膜中的載流子濃度,可以采取適當(dāng)摻雜的方法來(lái)實(shí)現(xiàn)。作為第Ⅱ-Ⅵ族化合物的氧化鋅,可以摻入Ⅲ族元素B、Al、In、Ga或者由氧缺位來(lái)改善其導(dǎo)電性。在這些摻雜中,研究得最多的n型摻雜劑是Al、Ga和In。采用Al摻雜制得的ZnO:Al薄膜電阻率可達(dá)到10-4cm,而摻Ga,In制得的薄膜的電阻率一般為10-3cm。2/4/202334§10化合物半導(dǎo)體材料

10.2

II-VI族化合物半導(dǎo)體

摻入Al時(shí),由于鋁的離子半徑(RAl=0.060nm)比鋅的離子半徑(RZnO=0.096nm)小,Al原子容易成為替位原子而占據(jù)Zn原子的位置。每個(gè)Al3+離子對(duì)Zn2+離子的替換提供一個(gè)導(dǎo)電電子。

在ZnO中摻雜Al之后可以形成

ZAO(ZnO:Al)薄膜,導(dǎo)電性能大幅度提高,電阻率可降低到10-4cm

,可見(jiàn)光透射率達(dá)90%。這種性能完全可以與ITO薄膜相媲美。2/4/202335§10化合物半導(dǎo)體材料

10.2

II-VI族化合物半導(dǎo)體3)P型摻雜的ZnOZnO的p型摻雜是目前面臨的難題。一些位于填隙位置上的本征點(diǎn)缺陷或者雜質(zhì)原子會(huì)有補(bǔ)償作用,即摻雜時(shí)極易產(chǎn)生與雜質(zhì)類型相反的缺陷。這些缺陷通過(guò)形成深能級(jí)陷阱來(lái)抵消替位原子形成的淺受主能級(jí)。晶格弛豫也會(huì)使得雜質(zhì)能級(jí)在禁帶中位于很深的位置,一些特定的p型摻雜元素溶解度較低,限制了非本征載流子濃度的提高,這些原因都造成了p型摻雜以及p-n結(jié)制備的困難。2/4/202336§10化合物半導(dǎo)體材料

10.2

II-VI族化合物半導(dǎo)體ZnO薄膜的發(fā)光特性引起人們的關(guān)注。由于室溫下ZnO的禁帶寬度為3.37eV,理論上具備藍(lán)光或紫外光發(fā)射的本領(lǐng)。最近幾年人們開(kāi)始致力于利用ZnO薄膜研制短波長(zhǎng)發(fā)光二極管和激光器。隨著平板顯示器件的興起,研究人員也試圖將ZnO研制成一種低壓高效的綠色熒光薄膜材料。但是實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,ZnO薄膜可實(shí)現(xiàn)多種譜帶的光發(fā)射,其能帶結(jié)構(gòu)較為復(fù)雜。(4)ZnO材料的光致發(fā)光2/4/202337§10化合物半導(dǎo)體材料

10.2

II-VI族化合物半導(dǎo)體ZnO薄膜典型的光致發(fā)光有兩個(gè)發(fā)光帶:一個(gè)是窄的紫外光帶,另一個(gè)是寬的綠-黃光帶。窄的紫外峰在380nm(3.3eV)附近,寬的深能級(jí)發(fā)射在大約490(2.52eV)~550nm(2.25eV)左右。2/4/202338§10化合物半導(dǎo)體材料

10.2

II-VI族化合物半導(dǎo)體研究人員均認(rèn)為375nm附近的紫外峰其來(lái)源于近帶邊的激子躍遷,其發(fā)光強(qiáng)度與薄膜的結(jié)晶質(zhì)量、化學(xué)配比有關(guān)。結(jié)晶質(zhì)量好的薄膜發(fā)射紫外光的強(qiáng)度高。對(duì)于ZnO薄膜在可見(jiàn)光區(qū)的發(fā)光機(jī)理至今還沒(méi)有統(tǒng)一的說(shuō)法,有的認(rèn)為可見(jiàn)光來(lái)源于與結(jié)構(gòu)缺陷和雜質(zhì)相關(guān)的深能級(jí)發(fā)射,其中所有的結(jié)構(gòu)缺陷都是來(lái)自薄膜生長(zhǎng)過(guò)程中氧供給量不足,即鋅和氧的化學(xué)計(jì)量比失衡。2/4/202339§10化合物半導(dǎo)體材料

10.2

II-VI族化合物半導(dǎo)體(4)ZnO薄膜的制備所有能制備半導(dǎo)體材料的方法都能制備ZnO薄膜,主要有:化學(xué)氣相沉積法、磁控濺射法、溶膠-凝膠法、電化學(xué)沉積法、分子束外延法、激光脈沖沉積法等。其中溶膠-凝膠法、電化學(xué)沉積法無(wú)需真空設(shè)備,可大幅降低了制作成本,簡(jiǎn)化工藝。2/4/202340§10化合物半導(dǎo)體材料

10.2

II-VI族化合物半導(dǎo)體(5)ZnO薄膜的應(yīng)用

1)太陽(yáng)能電池

ZnO薄膜尤其是AZO薄膜,具有優(yōu)異的透明導(dǎo)電性能。ZnO薄膜主要是作為透明電極和窗口材料用于太陽(yáng)能電池,ZnO受到高能粒子輻射損傷較小,因此特別適合于太空中使用。2/4/202341§10化合物半導(dǎo)體材料

10.2

II-VI族化合物半導(dǎo)體

2)可作為GaN的緩沖層

ZnO作為緩沖層有很多優(yōu)點(diǎn):一方面,ZnO與GaN具有相似的晶格特性,利用ZnO作為襯底或緩沖層可獲得高質(zhì)量的GaN薄膜,尤其是C軸擇優(yōu)取向的ZnO薄膜;另一方面,ZnO薄膜的n型摻雜,使其具有良好的電學(xué)特性,用其作襯底或緩沖層比用其它材料好得多。2/4/202342§10化合物半導(dǎo)體材料

10.2

II-VI族化合物半導(dǎo)體3)熱鏡利用透明導(dǎo)電薄膜對(duì)光波所具有的選擇性(即在可見(jiàn)光區(qū)的高透過(guò)性和紅外光區(qū)的高反射性)之特性,使之廣泛應(yīng)用于熱鏡涂層。對(duì)于寒冷工作環(huán)境下使用的視窗或太陽(yáng)能收集器的觀察窗,如航空航天飛行器、建筑物的玻璃視窗等,該涂層將反射內(nèi)部的IR,使熱量保持在一封閉的空間里起熱屏蔽的作用;而對(duì)于冷藏裝置,如冰箱、太陽(yáng)能電池等,該窗口材料將反射掉IR,起到減反射涂層的作用,具有很好的隔熱節(jié)能效果。對(duì)于應(yīng)用于大面積的窗口材料來(lái)講,出于成本的考慮,AZO薄膜將是熱鏡的最佳選擇。2/4/202343§10化合物半導(dǎo)體材料

10.2

II-VI族化合物半導(dǎo)體4)紫外探測(cè)器利用ZnO的寬禁帶和高光電導(dǎo)特性,可制作紫外探測(cè)器。早期的研究表明,ZnO的光反應(yīng)包括快速和慢速兩個(gè)過(guò)程:電子-空穴對(duì)的產(chǎn)生過(guò)程及氧吸收和光解吸過(guò)程。對(duì)玻璃襯底上沉積的ZnO薄膜的研究表明,后者起主要作用。2/4/202344§10化合物半導(dǎo)體材料

10.2

II-VI族化合物半導(dǎo)體

5)LDZnO激子束縛能為60meV,是GaN的2倍,室溫下并不離化,而在高密度3倍頻YAG:Nd的353nm脈沖激光激發(fā)下,可以產(chǎn)生紫外受激發(fā)射。用激子復(fù)合來(lái)代替電子-空穴對(duì)的復(fù)合,可使受激發(fā)射的閾值降至240kW/cm2,激子發(fā)射溫度可達(dá)550℃,而且單色性很好。2/4/202345§10化合物半導(dǎo)體材料

10.2

II-VI族化合物半導(dǎo)體6)制作聲表面波器件ZnO薄膜作為一種壓電材料,它以其所具有較高的機(jī)電耦合系數(shù)和低介電常數(shù),使其在超聲換能器、Bragg偏轉(zhuǎn)器、頻譜分析器、高頻濾波器、高速光開(kāi)關(guān)及微機(jī)械上有相當(dāng)廣泛的用途。ZnO薄膜是制作高頻表面聲波器件的首選材料。2/4/202346§10化合物半導(dǎo)體材料

10.2

II-VI族化合物半導(dǎo)體7)LED

ZnO是一種理想的短波長(zhǎng)發(fā)光器件材料,通過(guò)與CdO,MgO組成的混晶薄膜能夠得到可調(diào)的帶隙(2.8~4.2eV),覆蓋了從紅光到紫光的光譜范圍,有望開(kāi)發(fā)出紫外、綠光、藍(lán)光等多種發(fā)光器件,而且ZnO是直接帶隙半導(dǎo)體,能以帶間直接躍遷的方式獲得高效率的輻射復(fù)合。2/4/202347§14固體的光學(xué)性質(zhì)與固體中的光電現(xiàn)象(3)例1有n型CdS正方形晶體,邊長(zhǎng)為1mm,厚為0.1mm,其長(zhǎng)波吸收限為5.110-7m,今用光強(qiáng)度為1mW/cm2的紫色光(=4.09610-7m)照射正方形表面,量子產(chǎn)額為=1.設(shè)光生空穴全部被陷,光生電子壽命n=10

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