標準解讀
《GB/T 29054-2012 太陽能級鑄造多晶硅塊》是一項國家標準,主要針對用于太陽能電池制造的鑄造多晶硅塊的技術(shù)要求、試驗方法、檢驗規(guī)則以及包裝、標志、運輸和貯存等方面進行了規(guī)定。該標準適用于通過冶金法制備的太陽能級鑄造多晶硅塊。
在技術(shù)要求部分,明確了多晶硅塊的純度、電阻率范圍、尺寸偏差等關(guān)鍵參數(shù)的具體數(shù)值或范圍。例如,對于雜質(zhì)含量有著嚴格限制,確保了材料能夠滿足光伏產(chǎn)業(yè)對半導(dǎo)體材料高純度的需求;同時,還定義了不同等級產(chǎn)品對應(yīng)的電阻率區(qū)間,以適應(yīng)不同類型太陽能電池片的生產(chǎn)需要。
關(guān)于試驗方法,則詳細列出了測定上述各項指標所需采用的方法步驟,包括但不限于化學分析法來檢測特定元素濃度、四探針法測量電阻率等。這些方法為生產(chǎn)廠家提供了統(tǒng)一的操作指南,有助于保證測試結(jié)果的一致性和可靠性。
此外,標準中還包括了抽樣方案及判定規(guī)則,指導(dǎo)企業(yè)如何從批量生產(chǎn)的產(chǎn)品中選取樣本進行質(zhì)量控制檢查,并根據(jù)檢測結(jié)果做出是否合格的決定。這不僅有利于維護消費者權(quán)益,也是保障整個行業(yè)健康發(fā)展的重要措施之一。
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....
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文檔簡介
ICS29045
H82.
中華人民共和國國家標準
GB/T29054—2012
太陽能級鑄造多晶硅塊
Solar-gradecastingmulti-crystallinesiliconbrick
2012-12-31發(fā)布2013-10-01實施
中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局發(fā)布
中國國家標準化管理委員會
中華人民共和國
國家標準
太陽能級鑄造多晶硅塊
GB/T29054—2012
*
中國標準出版社出版發(fā)行
北京市朝陽區(qū)和平里西街甲號
2(100013)
北京市西城區(qū)三里河北街號
16(100045)
網(wǎng)址
:
服務(wù)熱線
/p>
年月第一版
20135
*
書號
:155066·1-46638
版權(quán)專有侵權(quán)必究
GB/T29054—2012
前言
本標準按照給出的規(guī)則起草
GB/T1.1—2009。
本標準由全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標準化技術(shù)委員會材料分技術(shù)委員會歸口
(SAC/TC203/SC2)。
本標準起草單位江西賽維太陽能高科技有限公司寧波晶元太陽能有限公司西安隆基硅
:LDK、、
材料股份有限公司江蘇協(xié)鑫硅材料科技發(fā)展有限公司無錫尚德太陽能電力有限公司
、、。
本標準主要起草人萬躍鵬唐駿薛抗美張群社孫世龍游達朱華英金虹劉林艷段育紅
:、、、、、、、、、。
Ⅰ
GB/T29054—2012
太陽能級鑄造多晶硅塊
1范圍
本標準規(guī)定了太陽能級鑄造多晶硅塊的產(chǎn)品分類技術(shù)要求試驗方法檢測規(guī)則以及標志包裝
、、、、、
運輸貯存等
、。
本標準適用于利用鑄造技術(shù)制備多晶硅片的多晶硅塊
。
2規(guī)范性引用文件
下列文件對于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文
。,
件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件
。,()。
非本征半導(dǎo)體材料導(dǎo)電類型測試方法
GB/T1550
硅單晶電阻率測定方法
GB/T1551
硅和鍺體內(nèi)少數(shù)載流子壽命測定光電導(dǎo)衰減法
GB/T1553
硅晶體中間隙氧含量的紅外吸收測量方法
GB/T1557
硅中代位碳原子含量紅外吸收測量方法
GB/T1558
半導(dǎo)體硅片電阻率及硅薄膜薄層電阻測試方法非接觸渦流法
GB/T6616
半導(dǎo)體材料術(shù)語
GB/T14264
利用高質(zhì)量分辨率輝光放電質(zhì)譜測量光伏級硅中微量元素的方法
SEMIPV1-0709
3術(shù)語和定義
界定的以及下列術(shù)語和定義適用于本文件
GB/T14264。
31
.
硅塊siliconbrick
一種塊狀半導(dǎo)體通常為尺寸均勻的長方體由多晶硅錠或單晶硅棒切割而成
,,。
4分類
產(chǎn)品按外形尺寸長寬分為和且有效高度應(yīng)
(×)125mm×125mm156mm×156mm,≥100mm,
或由供需雙方協(xié)商
。
5要求
51外觀質(zhì)量
.
511在有效高度內(nèi)無目視可見裂紋崩邊缺口
..、、。
512紅外探傷檢測結(jié)果不可出現(xiàn)尺寸大于的陰影每塊多晶硅塊需測量四個側(cè)面
..5mm;。
513側(cè)面粗糙度Ra
..
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