標準解讀
《GB/T 6219-1998 半導體器件 分立器件 第8部分:場效應晶體管 第一篇 1GHz、5W以下的單柵場效應晶體管 空白詳細規(guī)范》相較于《GB 6219-1986》,主要在以下幾個方面進行了調(diào)整或補充:
首先,新標準更加注重了對測試條件和方法的具體化描述。例如,在電氣特性參數(shù)測量上,《GB/T 6219-1998》提供了更為詳盡的操作指南和技術要求,這有助于提高不同實驗室之間測試結果的一致性和可比性。
其次,《GB/T 6219-1998》增加了對于環(huán)境適應性試驗的要求,包括溫度循環(huán)、濕度儲存等項目,以確保產(chǎn)品能在各種惡劣條件下穩(wěn)定工作。同時,還明確了樣品選取原則及失效判斷標準等內(nèi)容,使得整個評估過程更加科學合理。
此外,《GB/T 6219-1998》針對特定類型(如1GHz、5W以下)的單柵場效應晶體管制定了專門的技術指標體系,并且細化了相關術語定義,增強了文檔的專業(yè)性和實用性。該版本還特別強調(diào)了質量控制環(huán)節(jié)的重要性,通過引入更嚴格的檢驗規(guī)則來保證出廠產(chǎn)品的性能達到規(guī)定水平。
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 1998-11-17 頒布
- 1999-06-01 實施
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GB/T 6219-1998半導體器件分立器件第8部分:場效應晶體管第一篇1GHz、5W以下的單柵場效應晶體管空白詳細規(guī)范-免費下載試讀頁文檔簡介
ICS31.080.30L42二中華人民共和國國家標準GB/T_6219—1998idtIEC747-8-1:1987QC750112半導體器件分立器件第8部分:場效應晶體管第一篇1GHz、5W以下的單柵場效應晶體管空白詳細規(guī)范Semiconductordevices-DiscretedevicesPart8:Eield-effecttransistorsSectionone--Blankdetailspecificationforsingle-gatefield-effecttransistorsupto5wand1GHz1998-11-17發(fā)布1999-06-01實施國家質量技術監(jiān)督局發(fā)布
GB/T6219-1998本規(guī)范是等同采用國際標準IEC747-8-1:1987(半導體器件分立器件1GHz、5W以下的單柵場效應品體管空白詳細規(guī)范》第一版對GB/T6219一1986進行修訂的。本規(guī)范與前版的主要差別是增加了C1分組尺寸和C3分組轉矩的技術要求。本規(guī)范的附錄A是標準的附錄。本規(guī)范由中華人民共和國電子工業(yè)部提出。本規(guī)范由全國半導體器件標準化技術委員會歸口。本規(guī)范由電子工業(yè)部標準化研究所負責起草。本規(guī)范主要起草人:王長福、顧振球、鄧康、黃世杰。
GB/T6219-1998IEC前言1)IEC(國際電工委員會)在技術問題上的正式?jīng)Q議或協(xié)議,是由對這些問題特別關切的國家委員會參加的技術委員會制定的·對所涉及的問題盡可能地代表了國際上的一致意見。2)這些決議或協(xié)議,以推薦標準的形式供國際上使用,并在此意義上為各國家委員會所認可。3)為了促進國際間的統(tǒng)一,IEC希望各國家委員會在本國條件許可的情況下,采用IEC標準的文本作為其國家標準,IEC標準與相應國家標準之間的差異,應盡可能在國家標準中指明。本標準由國際電工委員會第47技術委員會(半導體器件)制定。本標準是1GHz、5W以下的單柵場效應品體管空白詳細規(guī)范.本標準文本以下列文件為依據(jù):六個月法表決報告47C0)95847(C0)999和47(C0999A表決批準本標準的詳細資料可在上表所列的表決報告中查閥。本標準封面上的QC號是國際電工委員會電子元器件質量評定體系(IECQ)的規(guī)范號。本標準中引用的其他IEC標準:IEC68-2-17.1978基本環(huán)境試驗程序第2部分:試驗試驗Q:密封IEC191-2:1966半導體器件的機械標準化第2部分:尺寸(在修訂中)IEC747-2:1983,半導體器件分立器件第2部分:整流二極管IEC747-8:1984半導體器件分立器件第8部分:場效應品體管IEC747-10:1984半半導體器件第10部分:分立器件和集成電路總規(guī)范JEC747-11:1985華導體器件第11部分:分立器件分規(guī)范華導體器件IEC749:1984:機械和氣候試驗方法
中華人民共和國國家標準半導體器件分立器件第8部分:場效應品體管第一篇:1GHz、5W以下的單柵場GB/T6219-1998效應晶體管空白詳細規(guī)范idtIEC747-8-1:1987QC750112Semiconductordevices-Discretedevices代替GB/T6219-1986PartB:Field-effecttransistorsSectionne-Blankdetailspecificationforsingle-gatefield-effecttransistorsupto5wand1GHz引本空白詳細規(guī)范規(guī)定了制定1GHz、5W以下的單柵場效應品體管詳細規(guī)范的基本原則,制定該范圍內(nèi)的所有詳細規(guī)范應與本空白詳細規(guī)范一致。本空白規(guī)范是與GB/T4589.1—1989《半導體器件分立器件和集成電路總規(guī)范》(IEC747-10:1984)和GB/T12560—1990《半導體器件分立器件分規(guī)范》(IEC747-11:1985)有關的一系列空白詳細規(guī)范中的一個。要求資料下列所要求的各項內(nèi)容,應列入規(guī)定的相應空欄中。詳細規(guī)范的識別:「1】授權起草詳細規(guī)范的國家標準機構名稱。L2JIECQ詳細規(guī)范號?!?]總規(guī)范號和分規(guī)范號以及年代號.L4]詳細規(guī)范號、發(fā)布日期和國家體系要求的任何更多的資料器件的識別:157器件型號?!?典型結構和應用資料。如果設計一種器件滿足若千應用,則應在詳細規(guī)范中指出。這些應用的特性、極限值和檢驗要求均應子以滿足。如果器件對靜電敏感或含有害物質,例如氧化皺,則應在詳細規(guī)范中附加注意事項。【7外形圖和(或)引用有關的外形標準【8]質量評定類別。L9能在各器件型號之間比較的最重要特性的參考數(shù)據(jù)。【在方
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