- 被代替
- 已被新標(biāo)準(zhǔn)代替,建議下載現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)GB/T 6618-2009
- 1995-04-18 頒布
- 1995-12-01 實(shí)施
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UDC669.782-415:531.717.1H21中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T6618-1995硅片厚度和總厚度變化測(cè)試方法Testmethodforthicknessandtotalthicknessvariationofsiliconslices1995-04-18發(fā)布1995-12-01實(shí)施國(guó)家技術(shù)監(jiān)督局發(fā)布
中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T6618-1995硅片厚度和總厚度變化測(cè)試方法代替GB6618-86Testmethodforthicknessandtotalthicknessvariationofsiliconslices主題內(nèi)客與適用范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了硅單品切割片、研磨片和拋光片(簡(jiǎn)稱硅片)厚度和總厚度變化的分立點(diǎn)式和掃描式測(cè)量方法。本本標(biāo)準(zhǔn)主要用于符合國(guó)標(biāo)GB12964、GB12965規(guī)定的尺寸的硅片的厚度和總厚度變化的測(cè)量。在測(cè)試儀器允許的情況下,本標(biāo)準(zhǔn)也可用于其他規(guī)格硅片的厚度和總厚度變化的測(cè)量。2引用標(biāo)準(zhǔn)GB12964徒單晶拋光片GB12965硅單晶切割片和研磨片3方法提要3.1·分立點(diǎn)式測(cè)最圖1分立點(diǎn)測(cè)量方式時(shí)的測(cè)量點(diǎn)位置國(guó)家技術(shù)監(jiān)督
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