- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2009-10-30 頒布
- 2010-06-01 實施
下載本文檔
文檔簡介
犐犆犛29.045
犎80
中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)
犌犅/犜6618—2009
代替GB/T6618—1995
硅片厚度和總厚度變化測試方法
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20091030發(fā)布20100601實施
中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局
發(fā)布
中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會
書
犌犅/犜6618—2009
前言
本標(biāo)準(zhǔn)代替GB/T6618—1995《硅片厚度和總厚度變化測試方法》。
本標(biāo)準(zhǔn)與GB/T6618—1995相比,主要有如下變化:
———將適用范圍擴(kuò)展到外延片;
———增加了第4章干擾因素;
———增加了150mm和200mm兩種規(guī)格的基準(zhǔn)環(huán)的尺寸;
———增加了7.2儀器校正的內(nèi)容。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會提出。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會材料分技術(shù)委員會歸口。
本標(biāo)準(zhǔn)起草單位:北京有研半導(dǎo)體材料股份有限公司。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:盧立延、孫燕、杜娟。
本標(biāo)準(zhǔn)所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為:
———GB6618—1986、GB/T6618—1995。
Ⅰ
書
犌犅/犜6618—2009
硅片厚度和總厚度變化測試方法
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了硅單晶切割片、研磨片、拋光片和外延片(簡稱硅片)厚度和總厚度變化的分立式和掃
描式測量方法。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于符合GB/T12964、GB/T12965、GB/T14139規(guī)定的尺寸的硅片的厚度和總厚度變
化的測量。在測試儀器允許的情況下,本標(biāo)準(zhǔn)也可用于其他規(guī)格硅片的厚度和總厚度變化的測量。
2規(guī)范性引用文件
下列文件中的條款通過本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件,其隨后所有
的修改單(不包括勘誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn),然而,鼓勵根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究
是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。
GB/T2828.1計數(shù)抽樣檢驗程序第1部分:按接收質(zhì)量限(AQL)檢索的逐批檢驗抽樣計劃
(GB/T2828.1—2003,ISO28591:1999,IDT)
GB/T12964硅單晶拋光片
GB/T12965硅單晶切割片和研磨片
GB/T14139硅外延片
3方法概述
3.1分立點式測量
在硅片中心點和距硅片邊緣6mm圓周上的4個對稱位置點測量硅片厚度。其中兩點位于與硅片
主參考面垂直平分線逆時針方向的夾角為30°的直徑上,另外兩點位于與該直徑相垂直的另一直徑上
溫馨提示
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