GB/T 7704-2008無損檢測(cè)Ｘ射線應(yīng)力測(cè)定方法

犐犆犛１９．１００

犑０４

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)

犌犅／犜７７０４—２００８

代替ＧＢ／Ｔ７７０４—１９８７

無損檢測(cè)犡射線應(yīng)力測(cè)定方法

犖狅狀犱犲狊狋狉狌犮狋犻狏犲狋犲狊狋犻狀犵—犘狉犪犮狋犻犮犲犳狅狉狉犲狊犻犱狌犪犾狊狋狉犲狊狊犿犲犪狊狌狉犲犿犲狀狋犫狔犡狉犪狔

２００８０７３０發(fā)布２００９０２０１實(shí)施

中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局

發(fā)布

中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

書

犌犅／犜７７０４—２００８

目次

前言!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!Ⅰ

１范圍!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１

２規(guī)范性引用文件!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１

３術(shù)語和定義!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１

４應(yīng)力測(cè)定原理!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１

５系統(tǒng)!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!３

６測(cè)定規(guī)程!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!４

７應(yīng)力測(cè)定誤差及修正!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!４

８報(bào)告!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!４

附錄Ａ（規(guī)范性附錄）Ｘ射線應(yīng)力測(cè)定常用的方法!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!５

附錄Ｂ（規(guī)范性附錄）確定衍射峰位置的方法!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!８

附錄Ｃ（規(guī)范性附錄）隨機(jī)因素造成的誤差計(jì)算方法!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１０

書

犌犅／犜７７０４—２００８

前言

本標(biāo)準(zhǔn)代替ＧＢ／Ｔ７７０４—１９８７《Ｘ射線應(yīng)力測(cè)定方法》。

本標(biāo)準(zhǔn)與ＧＢ／Ｔ７７０４—１９８７相比主要變化如下：

———增加了部分術(shù)語和定義（見第３章）；

———側(cè)傾法中增加回?cái)[法（見附錄Ａ）；

———確定衍射峰位置增加交相關(guān)定峰位置法（見附錄Ｂ）；

２

———?jiǎng)h除１９８７年版３．４和４．４條中的ｓｉｎψ計(jì)算表；

———?jiǎng)h除１９８７年版６．２測(cè)量裝置示意圖。

本標(biāo)準(zhǔn)的附錄Ａ、附錄Ｂ和附錄Ｃ為規(guī)范性附錄。

本標(biāo)準(zhǔn)由中國機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì)提出。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國無損檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)（ＳＡＣ／ＴＣ５６）歸口。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位：上海材料研究所。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：巴發(fā)海、王濱。

本標(biāo)準(zhǔn)所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為：

———ＧＢ／Ｔ７７０４—１９８７。

Ⅰ

犌犅／犜７７０４—２００８

無損檢測(cè)犡射線應(yīng)力測(cè)定方法

１范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用Ｘ射線測(cè)定殘余應(yīng)力的方法總則。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于在Ｘ射線下能得到連續(xù)德拜環(huán)的多晶金屬材料試樣（或工件）的應(yīng)力測(cè)定。

２規(guī)范性引用文件

下列文件中的條款通過本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件，其隨后所有

的修改單（不包括勘誤的內(nèi)容）或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn)，然而，鼓勵(lì)根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究

是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。

ＪＢ／Ｔ９３９４Ｘ射線應(yīng)力測(cè)定儀技術(shù)條件

３術(shù)語和定義

下列術(shù)語和定義適用于本標(biāo)準(zhǔn)。

３．１

應(yīng)力方向狊狋狉犲狊狊犱犻狉犲犮狋犻狅狀

所要測(cè)定的應(yīng)力方向，在測(cè)定中定位等同于測(cè)定部位表面法線、衍射晶面法線所構(gòu)成的平面與試樣

表面的交線方向。拉應(yīng)力符號(hào)為正，壓應(yīng)力符號(hào)為負(fù)。

３．２

測(cè)定方向平面犱犻狉犲犮狋犻狅狀狆犾犪狀犲犳狅狉狊狋狉犲狊狊犿犲犪狊狌狉犲犿犲狀狋

所測(cè)定應(yīng)力的方向與測(cè)定部位表面法線所構(gòu)成的平面。

３．３

掃描平面狊犮犪狀狀犻狀犵狆犾犪狀犲

入射Ｘ射線與被計(jì)數(shù)管所接收的衍射線所構(gòu)成的平面。

３．４

入射角犻狀犮犻犱犲狀犮犲犪狀犵犾犲

ψ０

入射Ｘ射線與試樣表面法線之間的夾角。

３．５

衍射晶面方位角犪狕犻犿狌狋犺犪狀犵犾犲狅犳犱犻犳犳狉犪犮狋犻狅狀犮狉狔狊狋犪犾狆犾犪狀犲

ψ

試樣表面法線與衍射晶面法線之間的夾角。

３．６