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文檔簡(jiǎn)介
分光性質(zhì):振幅分割兩個(gè)干涉的點(diǎn)源:
兩個(gè)反射面對(duì)S點(diǎn)的象S1和S2
§12-4平板的雙光束干涉11.條紋定域:能夠得到清晰干涉條紋的區(qū)域。一、干涉條紋的定域2.平板干涉的優(yōu)點(diǎn),取
,用面光源。非定域條紋:在空間任何區(qū)域都能得到的干涉條紋。定域條紋:只在空間某些確定的區(qū)域產(chǎn)生的干涉條紋。2二、平行平板(Plane-ParallelPlates)干涉(等傾干涉Interferenceofequalinclination)1.光程差計(jì)算nn'3nn'phasechangeNophasechange4Sincetheintervalbetweenthetwosurfacesmaybeanactualplateorfilm,oritmaybeagapbetweenplates.Wehavefourpossibilities,asthefollowing.NoNoNoNo52.平板干涉裝置
注意:采用擴(kuò)展光源,條紋域在無窮遠(yuǎn)。
條紋成像在透鏡的焦平面上。63、條紋分析(Fringesofequalinclination)l(光程差與條紋級(jí)數(shù))=中心lomnh=+D22(最大干涉級(jí)在中心。時(shí)最大,=)光程差在q021
78中央條紋寬,邊緣條紋窄。(5)反射光條紋和透射光條紋互補(bǔ)9二、楔形平板干涉(等厚干涉Interferenceofequalthickness)圖11-16用擴(kuò)展光源時(shí)楔行平板產(chǎn)生的定域條紋a)定域面在板上方b)定域面在板內(nèi)c)定域面在板下方SPb)SPa)SPc)1)定域面的位置由=0確定2)光源與楔板位置不同時(shí)的定域面位置103)楔板的角度越小,定域面離板越遠(yuǎn),當(dāng)平行時(shí),定域面在無限遠(yuǎn)處;4)在實(shí)際工作中,不一定為0,干涉條紋不只局限于定域面上,而是在定域面前后一定范圍內(nèi)可以看到干涉條紋,這個(gè)區(qū)域稱為定域深度。5)條紋觀察:定域面隨系統(tǒng)不同而不同,觀察不便,由于人眼有自動(dòng)調(diào)焦功能,觀察比儀器方便。11圖11-18楔形平板的干涉θ2ACSPBβ=0θ1nn'n'2、光程差計(jì)算12垂直入射時(shí),光程差是厚度
h的函數(shù),在同一厚度的位置形成同一級(jí)條紋。13(1)對(duì)于折射率均勻的楔形平板,條紋平行于楔棱14Dh(2)兩條紋間厚度的變化15(3)(4)a16§12-5典型的雙光束干涉系統(tǒng)及其應(yīng)用
一、典型干涉系統(tǒng)1、斐索(Fizeau)干涉儀:等厚干涉型的干涉儀L3GL2PQL1激光平面干涉儀1)激光平面干涉儀的組成和工作原理17a2)主要用途?測(cè)定平板表面的平面度和局部誤差?測(cè)量平行平板的平行度和小角度光楔的楔角?測(cè)量透鏡的曲率半徑18?測(cè)量平行平板的平行度和小角度光楔的楔角L3GL2QL1激光平面干涉儀a19球面干涉儀PLQDhR1R2PQ?測(cè)量透鏡的曲率半徑20小結(jié):基本特點(diǎn):(1)屬于等厚干涉(2)干涉光束,一個(gè)來自標(biāo)準(zhǔn)反射面,一個(gè)來自被測(cè)面。重點(diǎn)掌握:(1)光程差與厚度的關(guān)系。(2)厚度變化與條紋彎曲方向的關(guān)系。(3)干涉面間距變化與條紋移動(dòng)的關(guān)系。條紋分析:212、邁克爾遜干涉儀(TheMichelsoninterferometer)ExtendedsourceBeamsplitterReflectivecoatingMirrorCompensatingplate1)干涉儀結(jié)構(gòu)分光板和補(bǔ)償板平面反射鏡干涉原理2)干涉條紋的性質(zhì)等厚干涉等傾干涉22DS特點(diǎn):M1和M2垂直時(shí)是等傾干涉,否則為等厚干涉。掌握:(1)系統(tǒng)結(jié)構(gòu),(2)M1或M2垂直于光線移動(dòng)時(shí)對(duì)條紋的影響233、泰曼干涉儀(Twymaninterferometer)特點(diǎn):在邁克爾遜干涉儀的一個(gè)光路中加入了被測(cè)光學(xué)器件ContourlinesFringesofequalthickness244、馬赫-曾德干涉儀(Mach-Zehnderinterferometer)測(cè)量光一次通過被測(cè)域Itispreferredtomeasuringlargetransparentobjects.2)干涉儀結(jié)構(gòu)1)應(yīng)用場(chǎng)合和測(cè)量的基本原理3)條紋性質(zhì)分析25二、其他干涉技術(shù)1、數(shù)字波面干涉術(shù)目的:產(chǎn)生移動(dòng)的干涉條紋,用光電器件探測(cè)條紋的變化?;驹恚豪霉鈱W(xué)拍頻中干涉條紋強(qiáng)度隨時(shí)間變化的性質(zhì)。外差干涉原理頻率偏移器ABP26tI(x,y,t)條紋是隨時(shí)間變化的量。27ABtITt282、傅里葉變換光譜儀原理:利用光源的相干長(zhǎng)度對(duì)條紋可見度的影響,測(cè)量光源的光譜分布。相干長(zhǎng)度:光譜寬度為Dl的光源能夠產(chǎn)生干涉的最大光程差設(shè):I0(k)為隨波數(shù)而變化的譜密度函數(shù)
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