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文檔簡介

第一章

半導(dǎo)體二極管和整流電路1.1半導(dǎo)體的基本知識

在物理學(xué)中。根據(jù)材料的導(dǎo)電能力,可以將他們劃分導(dǎo)體、絕緣體和半導(dǎo)體。典型的半導(dǎo)體是硅Si和鍺Ge,它們都是4價元素。硅原子鍺原子硅和鍺最外層軌道上的四個電子稱為價電子。

本征半導(dǎo)體的共價鍵結(jié)構(gòu)束縛電子在絕對溫度T=0K時,所有的價電子都被共價鍵緊緊束縛在共價鍵中,不會成為自由電子,因此本征半導(dǎo)體的導(dǎo)電能力很弱,接近絕緣體。一.本征半導(dǎo)體

本征半導(dǎo)體——化學(xué)成分純凈的半導(dǎo)體晶體。制造半導(dǎo)體器件的半導(dǎo)體材料的純度要達到99.9999999%,常稱為“九個9”。

可見本征激發(fā)同時產(chǎn)生電子空穴對。

外加能量越高(溫度越高),產(chǎn)生的電子空穴對越多。

與本征激發(fā)相反的現(xiàn)象——復(fù)合在一定溫度下,本征激發(fā)和復(fù)合同時進行,達到動態(tài)平衡。電子空穴對的濃度一定。常溫300K時:電子空穴對的濃度硅:鍺:自由電子+4+4+4+4+4+4+4+4+4空穴電子空穴對自由電子帶負電荷電子流+4+4+4+4+4+4+4+4+4自由電子E+-+總電流載流子空穴帶正電荷空穴流本征半導(dǎo)體的導(dǎo)電性取決于外加能量:溫度變化,導(dǎo)電性變化;光照變化,導(dǎo)電性變化。導(dǎo)電機制二.雜質(zhì)半導(dǎo)體

在本征半導(dǎo)體中摻入某些微量雜質(zhì)元素后的半導(dǎo)體稱為雜質(zhì)半導(dǎo)體。1.

N型半導(dǎo)體

在本征半導(dǎo)體中摻入五價雜質(zhì)元素,例如磷,砷等,稱為N型半導(dǎo)體。

在本征半導(dǎo)體中摻入三價雜質(zhì)元素,如硼、鎵等。空穴硼原子硅原子多數(shù)載流子——空穴少數(shù)載流子——自由電子------------P型半導(dǎo)體受主離子空穴電子空穴對2.

P型半導(dǎo)體雜質(zhì)半導(dǎo)體的示意圖++++++++++++N型半導(dǎo)體多子—電子少子—空穴------------P型半導(dǎo)體多子—空穴少子—電子少子濃度——與溫度有關(guān)多子濃度——與溫度無關(guān)+N型硅表示P型硅表示內(nèi)電場E因多子濃度差形成內(nèi)電場多子的擴散空間電荷區(qū)

阻止多子擴散,促使少子漂移。PN結(jié)合空間電荷區(qū)多子擴散電流少子漂移電流耗盡層三.PN結(jié)及其單向?qū)щ娦?/p>

1.PN結(jié)的形成

2.PN結(jié)的單向?qū)щ娦?1)加正向電壓(正偏)——電源正極接P區(qū),負極接N區(qū)

外電場的方向與內(nèi)電場方向相反。

外電場削弱內(nèi)電場→耗盡層變窄→擴散運動>漂移運動→多子擴散形成正向電流IF(forwardcurrent)正向電流

(2)加反向電壓——電源正極接N區(qū),負極接P區(qū)

外電場的方向與內(nèi)電場方向相同。

外電場加強內(nèi)電場→耗盡層變寬→漂移運動>擴散運動→少子漂移形成反向電流IR(reversecurrent)PN

在一定的溫度下,由本征激發(fā)產(chǎn)生的少子濃度是一定的,故IR基本上與外加反壓的大小無關(guān),所以稱為反向飽和電流。但IR與溫度有關(guān)。

PN結(jié)加正向電壓時,具有較大的正向擴散電流,呈現(xiàn)低電阻,PN結(jié)導(dǎo)通;

PN結(jié)加反向電壓時,具有很小的反向漂移電流,呈現(xiàn)高電阻,PN結(jié)截止。

由此可以得出結(jié)論:PN結(jié)具有單向?qū)щ娦浴?.2半導(dǎo)體二極管

二極管=PN結(jié)+管殼+引線NP結(jié)構(gòu)符號陽極+陰極-

二極管按結(jié)構(gòu)分三大類:(1)點接觸型二極管

PN結(jié)面積小,結(jié)電容小,用于檢波和變頻等高頻電路。(3)平面型二極管

用于集成電路制造工藝中。PN結(jié)面積可大可小,用于高頻整流和開關(guān)電路中。(2)面接觸型二極管

PN結(jié)面積大,用于工頻大電流整流電路。二.二極管的模型及近似分析計算例:IR10VE1kΩD—非線性器件iuRLC—線性器件二極管的模型DU串聯(lián)電壓源模型UD二極管的導(dǎo)通壓降。硅管0.7V;鍺管0.3V。理想二極管模型正偏反偏導(dǎo)通壓降二極管的V—A特性二極管的近似分析計算IR10VE1kΩIR10VE1kΩ例:串聯(lián)電壓源模型測量值9.32mA相對誤差理想二極管模型RI10VE1kΩ相對誤差0.7V(2)如果ui為幅度±4V的交流三角波,波形如圖(b)所示,分別采用理想二極管模型和理想二極管串聯(lián)電壓源模型分析電路并畫出相應(yīng)的輸出電壓波形。解:①采用理想二極管模型分析。波形如圖所示。0-4V4Vuit2V2Vuot02.7Vuot0-4V4Vuit2.7V

②采用理想二極管串聯(lián)電壓源模型分析,波形如圖所示。二極管:死區(qū)電壓=0.5V,正向壓降

0.7V(硅二極管)

理想二極管:死區(qū)電壓=0,正向壓降=0RLuiuOuiuott二極管半波整流三.二極管的主要參數(shù)

(1)最大整流電流IF——二極管長期連續(xù)工作時,允許通過二極管的最大整流電流的平均值。(2)反向擊穿電壓UBR———

二極管反向電流急劇增加時對應(yīng)的反向電壓值稱為反向擊穿電壓UBR。

(3)反向電流IR——

在室溫下,在規(guī)定的反向電壓下的反向電流值。硅二極管的反向電流一般在納安(nA)級;鍺二極管在微安(A)級。當(dāng)穩(wěn)壓二極管工作在反向擊穿狀態(tài)下,工作電流IZ在Izmax和Izmin之間變化時,其兩端電壓近似為常數(shù)穩(wěn)定電壓四、穩(wěn)壓二極管

穩(wěn)壓二極管是應(yīng)用在反向擊穿區(qū)的特殊二極管正向同二極管反偏電壓≥UZ

反向擊穿+UZ-限流電阻

穩(wěn)壓二極管的主要參數(shù)

(1)穩(wěn)定電壓UZ——(2)動態(tài)電阻rZ——

在規(guī)定的穩(wěn)壓管反向工作電流IZ下,所對應(yīng)的反向工作電壓。

rZ=U

/I

rZ愈小,反映穩(wěn)壓管的擊穿特性愈陡。

(3)最小穩(wěn)定工作電流IZmin——

保證穩(wěn)壓管擊穿所對應(yīng)的電流,若IZ<IZmin則不能穩(wěn)壓。

(4)最大穩(wěn)定工作電流IZmax——

超過Izmax穩(wěn)壓管會因功耗過大而燒壞。例:穩(wěn)壓二極管的應(yīng)用RLuiuORDZiiziLUZ穩(wěn)壓二極管技術(shù)數(shù)據(jù)為:穩(wěn)壓值UZW=10V,Izmax=12mA,Izmin=2mA,負載電阻RL=2k,輸入電壓ui=12V,限流電阻R=200。若負載電阻變化范圍為1.5k~4k,是否還能穩(wěn)壓?RLuiuORDZiiziLUZUZW=10Vui=12VR=200Izmax=12mAIzmin=2mARL=2k(1.5k~4k)iL=uo/RL=UZ/RL=10/2=5(mA)i=(ui-UZ)/R=(12-10)/0.2=10(mA)

iZ=i-iL=10-5=5(mA)RL=1.5k,iL=10/1.5=6.7(mA),iZ=10-6.7=3.3(mA)RL=4k

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