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硅片平整度知識(shí)介紹第1頁,共23頁,2023年,2月20日,星期一硅片平整度知識(shí)討論主要內(nèi)容如下:1、硅片平整度定義;2、硅片平整度測(cè)量;3、硅片平整度規(guī)范4、硅片使用中異常舉例第2頁,共23頁,2023年,2月20日,星期一平整度SEMI標(biāo)準(zhǔn)關(guān)鍵字注釋習(xí)慣用語SEMI標(biāo)準(zhǔn)用語新SEMI標(biāo)準(zhǔn)關(guān)鍵字注釋TTVGBIRGlobalflatnessbackidealrangeTIRGFLRGlobalflatnessfrontleast-squaresrangeSTIRSFQRSiteflatnessfrontleast-squaresrangeLTVSBIRSiteflatnessbackidealrangeFPDGFLDGF3DGlobalflatnessfrontleast-squaresdeviationGlobalflatnessfront3pointdeviation第3頁,共23頁,2023年,2月20日,星期一TTV(TotalThicknessVariation)定義:TTV=a–b(SEMI標(biāo)準(zhǔn)中為GBIR)說明:1.參考平面B為Wafer背面第4頁,共23頁,2023年,2月20日,星期一TIR(TotalIndicatorReading)定義:TIR=|a|+|b|(SEMI標(biāo)準(zhǔn)中為GFLR)說明:1.參考平面(bf)G為距上表面所有點(diǎn)截距之和最小的平面;第5頁,共23頁,2023年,2月20日,星期一FPD(FocalPlaneDeviation)定義:FPD=±Max(|a|,|b|)(SEMI標(biāo)準(zhǔn)中為GFLD)說明:1.如果|a|>|b|,則FPD取正值;反之取負(fù)值;2.參考平面G(bf)為距Wafer上表面所有點(diǎn)截距之和最小的平面;第6頁,共23頁,2023年,2月20日,星期一Warp定義:Warp=|a|+|b|說明:1.參考平面M為距曲面Medianplane所有點(diǎn)截距之和最小的平面;2.不考慮重力影響;第7頁,共23頁,2023年,2月20日,星期一Bow定義:Bow=1/2*(b-f)說明:1.參考平面W以Wafer上三點(diǎn)確定,此三點(diǎn)組成一等邊三角形2.凸的WaferBow值為正,凹的WaferBow值為負(fù);3mm120°120°第8頁,共23頁,2023年,2月20日,星期一LTV(LocalThicknessVariation)定義:LTVi=ai–bii=1,2,3,4,...,n(SEMI標(biāo)準(zhǔn)中為SBIR)說明:1.參考平面B為Wafer背面;2.LTVmax=Max(LTV1,LTV2,...,LTVn)第9頁,共23頁,2023年,2月20日,星期一STIR(SiteTotalIndicatorReading)定義:STIRi=|ai|+|bi|i=1,2,3,4,...,n(SEMI標(biāo)準(zhǔn)中為SFLR)說明:1.參考平面Gi通過每一單元塊的中心且平行于wafer上表面的擬合平面bfG;2.G為距單元塊上每一點(diǎn)截距最小的平面;3.STIRmax=Max(STIR1,STIR2,...,STIRn);第10頁,共23頁,2023年,2月20日,星期一STIR/L-Site(SiteTotalIndicatorReading)定義:STIRi/L=|ai|+|bi|i=1,2,3,4,...,n(SEMI標(biāo)準(zhǔn)中為SFQR)說明:1.參考平面bfGi為距單元塊上每一點(diǎn)截距最小的平面;2.STIRi/Lmax=Max(STIR1/L,STIR2/L,...,STIRn/L);第11頁,共23頁,2023年,2月20日,星期一SFPD/L-Site定義:SFPDi/L=±Max(|ai|,|bi|)i=1,2,3,4,...,n(SEMI標(biāo)準(zhǔn)中為SFQD)說明:1.|a|>|b|,取正值;|a|<|b|,取負(fù)值;2.參考平面bfLi為距單元塊上每一點(diǎn)截距最小的平面;3.SFPD/Lmax=Max(SFPD1/L,SFPD2/L,...,SFPDn/L)第12頁,共23頁,2023年,2月20日,星期一SFPD/G-Site定義:SFPDi/G=±Max(|ai|,|bi|)i=1,2,3,4,...,n(SEMI標(biāo)準(zhǔn)中為SFLD)說明:1.|a|>|b|,取正值;|a|<|b|,取負(fù)值;2.參考平面Gi通過每一單元塊的中心且平行于wafer上表面的擬合平面bfG;3.SFPD/Gmax=Max(SFPD1/G,SFPD2/G,...,SFPDn/G)第13頁,共23頁,2023年,2月20日,星期一SEMIStandardFQAMeasurement
MethodReference
SurfaceReference
PlaneandAreaReference
PlaneandAreaReference
SurfaceSiteSize
and
ArrayParameterParameterGBIRGF3RGF3DGFLRGFLDSF3RSF3DSFLRSFLDSFQRSFQDSBIRSBIDRangeRangeDeviationRangeDeviationRangeDeviationRangeDeviationRangeDeviationRangeDeviationParameterParameterParameterParameterParameterReference
PlaneandAreaReference
PlaneandAreaS-TIRS-FPDS-TIRS-FPDS-TIRS-FPDLTVS-FPD
Semi用語現(xiàn)行習(xí)慣用語TTVTIRFPDTIR
NTVFPDFrontRef.CenterFocus3pointBestFitSiteBestFitBackRef.
CenterFocusSiteFlatnessGlobalFlatnessFrontBackBackFront3Point3Point(全面)Ideal(全面)(最小二乗法)bf
LeastSquares
(全面)LeastSquares
(全面)(bf)LeastSquares
(site)Ideal(全面)參考面的選取
(表面or背面)參考平面的設(shè)定
(bfor3pt)
又稱理想平面(FlatnessQualityArea)第14頁,共23頁,2023年,2月20日,星期一FlatnessToolsPrinciple:Capacitancesensor(ADE)Wafertbcat=a-b-cRingSpacing第15頁,共23頁,2023年,2月20日,星期一局部平整度測(cè)量邊緣問題PartialsInactiveSiteSetup第16頁,共23頁,2023年,2月20日,星期一局部平整度測(cè)量邊緣問題PartialsActiveSiteSetup
Greenlinesindicatespartialsites.第17頁,共23頁,2023年,2月20日,星期一
兩種方式測(cè)量結(jié)果差異舉例---SFQDTrendChangedMeasurementtoPartialSitesActiveChangingtoPartialSitesActiveIncreasedSFQDonasampleofEpiwafersInactive0.17umActive0.24um
第18頁,共23頁,2023年,2月20日,星期一平整度SEMI標(biāo)準(zhǔn)ITEMSPOLISHEDWAFEREPITAXIALWAFER1.0umDesignRuleTwin-TubCMOS0.35umDesignRuleTwin-TubCMOS0.35umDesignRuleDRAMTTV(GBIR)10um----5umTIR(GFLR)------3umSFQD--<=0.5um18x18mm<=0.23um22x22mm<=0.35um22x22mmBOW60um------WARP60um------SEMISTANDARDFOR150mm(SEMIM1ANDM11)第19頁,共23頁,2023年,2月20日,星期一常用硅片STIR數(shù)值舉例上圖為各廠家STIR均值中的MAX、MEAN、MIN比較第20頁,共23頁,2023年,2月20日,星期一工藝過程硅片平整度變化擦片后、一次/犧牲氧化(900C)后、SIN(700C)后采用光刻PENKIB1設(shè)備進(jìn)行平整度測(cè)量,每片的平整度三次測(cè)量結(jié)論:數(shù)值差異不大平整度有增大的趨勢(shì)第21頁,共23頁,2023年,2月20日,星期一聚焦異常FlatnessValues測(cè)量TTVTIRBestFitSFPDBestFitBowBestFitWarpBestFitS1Defocus5.6201.943-0.271-0.736.16S2Defocus6.9552.443-0.241-20.6142.14S3Defocus5.2332.363+0.314-17.0035.77S233.0301.600-0.292+0.517.31S25OK2.8681.793-0.297-17.8238.35EPINotProc3.0651.801-0.224------異常與TTV相關(guān)第22頁,共23頁,2023年,2月20日,星期一
聚焦異常FlatnessValues測(cè)量SFQDSiteBestFitCurrentSBIDBackRefSFLDFrontRefBestFitSF3DFrontRef3PointS1Defocus-0.271-1.311-0.940-0.966S2Defocus-0.241-1.649-1.204-1
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