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文檔簡(jiǎn)介

材表程術(shù)-試資料

1.表面程2.

膠-凝3.

術(shù):1）表面濕潤(rùn)和反濕潤(rùn)技術(shù).2）表面34.5.

6.

7.8.9.

.輪(或帶的旋轉(zhuǎn)也可用于(等)

工如等)打基礎(chǔ)

要(鍋爐率)；件(設(shè)備)隱患，性(如決)

1.

，并以一定的2.

，這些具有一3.4.

氧，

依靠焰流5體(件)表面6.

7、電弧噴涂涂層也是典型的層狀結(jié)構(gòu)。與，。電弧8.

5％60~70％。K高為300Akg、噴鋅30倍5713％，12％。電弧1/20~1/15。

9噴嘴

，能夠熔化一切高熔點(diǎn)和高硬度的粉末材料，氧88％~99％，結(jié)合強(qiáng)度高達(dá)MPa。81.

2.

，按在電鍍過(guò)程中所起的作用細(xì)分為主鹽

pH值的物質(zhì)3.

1，為最后獲得高質(zhì)量鍍層作準(zhǔn)備。主要是進(jìn)2、穩(wěn)定性高的薄膜Zn、及4.現(xiàn)代：氰化物溶液性(氯化物鹽)鍍液。5.

電鍍銅鋅（3電鍍鋅鎳w=5％~15％。鍍層中w=15％NiNi6.

，2~5倍，

值8.

9.

，原子氫態(tài)原子氫態(tài)面催)Ni2+，電化學(xué)理

2+還原為金屬鎳

100％，材(件)形狀、活化等前處理屬(如、陶瓷及半導(dǎo)體材)，而電鍍法只能在導(dǎo)體表面上施鍍，所以化學(xué)鍍工藝是非金屬表面金，某些化學(xué)1，2．氣相沉積特點(diǎn)，除常壓化學(xué)氣相沉積(NPCVD)系統(tǒng)的

2.

3.物理4.

子(如正子轟5.

子(子電體(工件表6.

積(CVD)是7.

8MOCVD)是一種利用金屬；膜厚

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