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-z.設(shè)計(jì)一、微帶天線仿真設(shè)計(jì)三角形貼片是微帶貼片天線最根本的模型,本設(shè)計(jì)就是基于微帶貼片天線根底理論以及熟練掌握HFSS10仿真軟件根底上,設(shè)計(jì)一個(gè)三角形貼片天線,其工作頻率為2.45GHz,分析其遠(yuǎn)區(qū)輻射場(chǎng)特性以及S曲線。一.設(shè)計(jì)目的與要求1.理解和掌握微帶天線的設(shè)計(jì)原理2.選定微帶天線的參數(shù):工作頻率、介質(zhì)基片厚度、貼片模型及饋電點(diǎn)位置3.創(chuàng)立工程并根據(jù)設(shè)計(jì)尺寸參數(shù)指標(biāo)繪制微帶天線HFSS模型4.保存工程后設(shè)定邊界條件、求解掃描頻率,生成S參數(shù)曲線和方向圖5.觀察比照不同尺寸參數(shù)的微帶天線的仿真結(jié)果,并分析它們對(duì)性能的影響二.實(shí)驗(yàn)原理如下列圖所示,用傳輸線模分析法介紹它的輻射原理。。設(shè)輻射元的長(zhǎng)為L(zhǎng),寬為ω,介質(zhì)基片的厚度為h?,F(xiàn)將輻射元、介質(zhì)基片和接地板視為一段長(zhǎng)為L(zhǎng)的微帶傳輸線,在傳輸線的兩端斷開形成開路,根據(jù)微帶傳輸線的理論,由于基片厚度h<<λ,場(chǎng)沿h方向均勻分布。在最簡(jiǎn)單的情況下,場(chǎng)沿寬度ω方向也沒(méi)有變化,而僅在長(zhǎng)度方向〔L≈λ/2)有變化。在開路兩端的電場(chǎng)均可以分解為相對(duì)于接地板的垂直分量和水平分量,兩垂直分量方向相反,水平分量方向一樣,因而在垂直于接地板的方向,兩水平分量電場(chǎng)所產(chǎn)生的遠(yuǎn)區(qū)場(chǎng)同向疊加,而兩垂直分量所產(chǎn)生的場(chǎng)反相相消。因此,兩開路端的水平分量可以等效為無(wú)限大平面上同相鼓勵(lì)的兩個(gè)縫隙,縫的電場(chǎng)方向與長(zhǎng)邊垂直,并沿長(zhǎng)邊ω均勻分布??p的寬度△L≈h,長(zhǎng)度為ω,兩縫間距為L(zhǎng)≈λ/2。這就是說(shuō),微帶天線的輻射可以等效為有兩個(gè)縫隙所組成的二元陣列。矩形貼片天線示意圖三.貼片天線仿真步驟1、建立新的工程運(yùn)行HFSS,點(diǎn)擊菜單欄中的Project>InsertHFSSDessign,建立一個(gè)新的工程。2、設(shè)置求解類型〔1〕在菜單欄中點(diǎn)擊HFSS>SolutionType?!?〕在彈出的SolutionType窗口中〔a〕選擇DrivenModal?!瞓〕點(diǎn)擊OK按鈕。3.設(shè)置模型單位將創(chuàng)立模型中的單位設(shè)置為毫米?!?〕在菜單欄中點(diǎn)擊3DModeler>Units?!?〕設(shè)置模型單位:〔a〕在設(shè)置單位窗口中選擇:mm?!瞓〕點(diǎn)擊OK按鈕。4、創(chuàng)立微帶天線模型〔1〕創(chuàng)立地板GroundPlane。坐標(biāo):*:-45,Y:-45,Z:0按回車鍵。在坐標(biāo)輸入欄中輸入長(zhǎng)、寬:d*:90,dY:90,dZ:0?!?〕為GroundPlane設(shè)置理想金屬邊界。在3D模型窗口中將3D模型以適宜的大小顯示〔可以用Ctrl+D來(lái)操作〕?!?〕建立介質(zhì)基片。在菜單欄中點(diǎn)擊Draw>Bo*或者在工具欄中點(diǎn)擊按鈕,創(chuàng)立長(zhǎng)方體模型。起始點(diǎn)位置坐標(biāo):*:-22.5,Y:-22.5,Z:0。輸入各坐標(biāo)時(shí),可用Tab鍵來(lái)切換。輸入長(zhǎng)方體*、Y、Z三個(gè)方向的尺寸:d*:45,dY:45,dZ:5。將材料設(shè)置為RogersR04003?!?〕建立貼片Patch。起始點(diǎn)的坐標(biāo):*:-16,Y:-16,Z:5按回車鍵。在坐標(biāo)輸入欄中輸入長(zhǎng)、寬:d*:32,dY:32,dZ:0?!?〕為Patch設(shè)置理想金屬邊界?!?〕創(chuàng)立切角。輸入點(diǎn)的坐標(biāo):*:0,Y:0,Z:5;*:5,Y:0,Z:5;*:0,Y:5,Z:5;*:0,Y:0,Z:5。在對(duì)話窗口中選擇Cut。在菜單欄中點(diǎn)擊Edit>Arrange>Move。在坐標(biāo)輸入欄中輸入點(diǎn)的坐標(biāo):*:0,Y:0,Z:0;d*:-16,dY:-16,dZ:0。兩個(gè)切角呈中心對(duì)稱,可以通過(guò)旋轉(zhuǎn)復(fù)制創(chuàng)立另一個(gè)切角。在菜單欄中點(diǎn)擊Edit>Duplicate>AroundA*is。將軸設(shè)置為Z軸,旋轉(zhuǎn)角度為180deg,Total為2?!?〕用Patch將切角減去?!?〕創(chuàng)立探針Pin。在菜單欄中點(diǎn)擊Draw>Cylinder。在坐標(biāo)輸入欄中輸入圓柱中心點(diǎn)的坐標(biāo):*:0,Y:8,Z:0;輸入圓柱半徑:d*:0,dY:0.5,dZ:0;輸入圓柱的高度:d*:0,dY:0,dZ:5。將材料設(shè)置為pec?!?〕創(chuàng)立端口面Port。在菜單鍵中點(diǎn)擊Draw>Circle。在坐標(biāo)輸入欄中輸入圓心點(diǎn)的坐標(biāo):*:0,Y:8,Z:0按回車鍵。在坐標(biāo)輸入欄輸入半徑:d*:0,dY:1.5,dZ:0〔10〕用GroundPlane將Port減去。6.創(chuàng)立輻射邊界創(chuàng)立Air,在菜單欄中點(diǎn)擊Draw>Bo*,創(chuàng)立長(zhǎng)方體模型。在右下角的坐標(biāo)輸入欄中輸入長(zhǎng)方體的起始點(diǎn)位置坐標(biāo):*:-80,Y:-80,Z:-35;按回車鍵完畢輸入。輸入長(zhǎng)方體的尺寸:d*:160,dY:160,dZ:70按回車鍵。在特性〔Property〕窗口中選擇Attribute標(biāo)簽,將長(zhǎng)方體的名字修改為Air。在菜單欄中點(diǎn)擊Edit>Select>ByName。在對(duì)話框中選擇Air,點(diǎn)擊OK確認(rèn)。在菜單欄中點(diǎn)擊HFSS>Boundaries>Radiation。在輻射邊界窗口中,將輻射邊界命名為Rad1,點(diǎn)擊OK按鈕。7.設(shè)置端口鼓勵(lì)在菜單欄中點(diǎn)擊Edit>Select>ByName,選中Port,在菜單欄中點(diǎn)擊HFSS>E*citation>Assign>LumpedPort。在LumpedPort窗口的General標(biāo)簽中,將該端口命名為p1,點(diǎn)擊Ne*t。在Modes標(biāo)簽中的Integrationlinezhong點(diǎn)擊None,選擇NewLine,在坐標(biāo)欄中輸入:*:0,Y:9.5,Z:0;d*:0,dY:-1,dZ:0。按回車鍵,點(diǎn)擊Ne*t按鈕直至完畢。8.求解設(shè)置為該問(wèn)題設(shè)置求解頻率及掃頻圍〔a〕設(shè)置求解頻率。在菜單欄中點(diǎn)擊HFSS>AnalysisSetup>AddSolutionSetup。在求解設(shè)置窗口中做以下設(shè)置:SolutionFrequency:2.45GHz;Ma*imunNumberofPasses:15;Ma*imunDeltaSperPass:0.02?!瞓〕設(shè)置掃頻。在菜單欄中點(diǎn)擊HFSS>AnalysisSetup>AddSweep。選擇Setup1,點(diǎn)擊OK確認(rèn)。在掃頻窗口中做以下設(shè)置:SweepType:Fast;FrequencySetupType:LinearCount;Start:2.0GHz;Stop:3.0GHz;Count:400;將SaveField復(fù)選框選中。9.設(shè)置無(wú)限大球面
在菜單欄中點(diǎn)擊HFSS>Radiation>InsertFarFieldSetup>InfiniteSphere。在InfiniteSphere標(biāo)簽中做以下設(shè)置:Phi:Start:0deg,Stop:180deg,Step:90deg;Theta:Start:0deg,Stop:360deg,Step:10deg。10.確認(rèn)設(shè)計(jì)方法一:由主菜單項(xiàng)選擇HFSS/ValidationCheck對(duì)設(shè)計(jì)進(jìn)展確認(rèn)。方法二:在菜單欄直接點(diǎn)即可。11.保存工程在菜單欄中點(diǎn)擊File>SaveAs,在彈出的窗口中將工程命名為hfss_Patch,并選擇保存路徑。12.求解該工程在菜單欄點(diǎn)擊HFSS>Analyze。13.后處理操作〔1〕S參數(shù)〔反射系數(shù)〕。繪制該問(wèn)題的反射系數(shù)曲線,該問(wèn)題為單端口問(wèn)題,因此反射系數(shù)是。點(diǎn)擊菜單欄HFSS>Result>CreateReport。選擇:ReportType:ModalSParameters;DisplayType:Rectangle。Trace窗口:Solution:Setup1:Sweep1;Domain:Sweep點(diǎn)擊Y標(biāo)簽,選擇:Category:Sparameter;Quantity:S〔p1,p1〕;Function:dB,然后點(diǎn)擊AddTrace按鈕。點(diǎn)擊Done按鈕完成操作,繪制出反射系數(shù)曲線?!?〕2D輻射遠(yuǎn)場(chǎng)方向圖。在菜單欄點(diǎn)擊HFSS>Result>CreateReport。選擇:ReportType:FarFields;DisplayType:RadiationPattern。Trace窗口:Solution:Setup1:LastAdptive;Geometry:ff_2d。在Sweep標(biāo)簽中,在Name這一列中點(diǎn)擊第一個(gè)變量Phi,在下拉菜單中選擇The。點(diǎn)擊Mag標(biāo)簽,選擇:Category:Gain;Quantity:GainTotal;Function:dB,點(diǎn)擊AddTrace按鈕。最后點(diǎn)擊Done,繪制出方向圖。14.保存并退出HFSS四.自主設(shè)計(jì)技術(shù)指標(biāo):三角形貼片天線,即貼片〔Patch〕為三角形,其它所有條件都不變,即設(shè)計(jì)中創(chuàng)立天線模型設(shè)計(jì)中,第(1)、(2)、(3)、(8)、(9)、(10)不變,(4)、(5)、(6)做一下改變。建立貼片Patch,在介質(zhì)基片上創(chuàng)立貼片天線。在菜單欄中點(diǎn)擊Draw>Rectangle,創(chuàng)立矩形模型。輸入:*:-16,Y:-16,Z:5;d*:32,dY:32,dZ:0。在特性〔Property〕窗口中選擇Attribute標(biāo)簽,將該名字修改為Patch。點(diǎn)擊Corlor后面的Edit按鈕,將顏色設(shè)置為黃色,點(diǎn)擊OK確認(rèn)。為Patch設(shè)置理想金屬邊界。在菜單欄中點(diǎn)擊Edit>Select>ByName。在對(duì)話框中選擇Patch,點(diǎn)擊OK確認(rèn)。在菜單欄中點(diǎn)擊HFSS>Boundaries>Assign>PerfectE。在理想邊界設(shè)置窗口中,將理想邊界命名為PerfE_Patch。創(chuàng)立切角。創(chuàng)立供貼片天線相減的切角時(shí),首先在坐標(biāo)原點(diǎn)處創(chuàng)立三角形,然后將其移動(dòng)到方形貼片的頂點(diǎn)處。在菜單欄中點(diǎn)擊Draw>Line。輸入點(diǎn)的坐標(biāo):*:0,Y:0,Z:5;*:-16,Y:0,Z:5;*:0,Y:32,Z:5;*:0,Y:0,Z:5。Edit>Select>ByName,選擇Cut。在菜單欄中點(diǎn)擊Edit>Arrange>Move。輸入點(diǎn)的坐標(biāo):*:0,Y:0,Z:0;d*:16,dY:-16,dZ:0??梢酝ㄟ^(guò)旋轉(zhuǎn)復(fù)制創(chuàng)立另一個(gè)切角。在菜單欄中點(diǎn)擊Edit>Duplicate>AroundA*is。將軸設(shè)置為Y軸,旋轉(zhuǎn)角度為180deg。將切角的名字改為Cut_1。選擇Cut_1。在菜單欄中點(diǎn)擊Edit>Arrange>Move。在坐標(biāo)輸入欄中輸入點(diǎn)的坐標(biāo):*:0,Y:0,Z:0;d*=0,dY=0,dZ=10。用Patch將切角減去。在菜單欄中點(diǎn)擊Edit>Select>ByName,在彈出的窗口中利用Ctrl鍵選擇Patch、Cut和Cut_1。在菜單欄中點(diǎn)擊3DModelean>Boolean>Subtract,Subtract窗口:BlankParts:Patch;ToolParts:Cut,Cut_1;Clonetoolobjectbeforesubtract復(fù)選框不選。這樣三角形貼片就建成了?;蛘邉h掉矩形貼片,重新創(chuàng)立一個(gè)三角型貼片。最后定下的三角形尺寸為:*:-20,Y:-11.2375,Z:5;*:-20,Y:11.2375,Z:5;*:0,Y:22.5,Z:5。饋電探針位置:*:0,Y:4,Z:0。五.實(shí)驗(yàn)結(jié)果及其截圖1.建模完成:2.模型細(xì)節(jié):三角貼片3.確認(rèn)設(shè)計(jì),通過(guò)ValidationCheck:4.原三角形貼片的S參數(shù)曲線:5.原矩形貼片的2D遠(yuǎn)場(chǎng)方向圖:6.不斷修改三角貼片形狀與饋電位置以使工作
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