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文檔簡(jiǎn)介
IntroductionofICAssemblyProcess
IC封裝工藝簡(jiǎn)介目前一頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)IntroductionofICAssemblyProcess一、概念
半導(dǎo)體芯片封裝是指利用膜技術(shù)及細(xì)微加工技術(shù),將芯片及其他要素在框架或基板上布局、粘貼固定及連接,引出接線(xiàn)端子并通過(guò)可塑性絕緣介質(zhì)灌封固定,構(gòu)成整體立體結(jié)構(gòu)的工藝。此概念為狹義的封裝定義。更廣義的封裝是指封裝工程,將封裝體與基板連接固定,裝配成完整的系統(tǒng)或電子設(shè)備,并確保整個(gè)系統(tǒng)綜合性能的工程。將前面的兩個(gè)定義結(jié)合起來(lái)構(gòu)成廣義的封裝概念。目前二頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)半導(dǎo)體封裝的目的及作用
第一,保護(hù):半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)車(chē)間都有非常嚴(yán)格的生產(chǎn)條件控制,恒定的溫度(230±3℃)、恒定的濕度(50±10%)、嚴(yán)格的空氣塵埃顆粒度控制(一般介于1K到10K)及嚴(yán)格的靜電保護(hù)措施,裸露的裝芯片只有在這種嚴(yán)格的環(huán)境控制下才不會(huì)失效。但是,我們所生活的周?chē)h(huán)境完全不可能具備這種條件,低溫可能會(huì)有-40℃、高溫可能會(huì)有60℃、濕度可能達(dá)到100%,如果是汽車(chē)產(chǎn)品,其工作溫度可能高達(dá)120℃以上,為了要保護(hù)芯片,所以我們需要封裝。第二,支撐:支撐有兩個(gè)作用,一是支撐芯片,將芯片固定好便于電路的連接,二是封裝完成以后,形成一定的外形以支撐整個(gè)器件、使得整個(gè)器件不易損壞。目前三頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)半導(dǎo)體封裝的目的及作用第三,連接:連接的作用是將芯片的電極和外界的電路連通。引腳用于和外界電路連通,金線(xiàn)則將引腳和芯片的電路連接起來(lái)。載片臺(tái)用于承載芯片,環(huán)氧樹(shù)脂粘合劑用于將芯片粘貼在載片臺(tái)上,引腳用于支撐整個(gè)器件,而塑封體則起到固定及保護(hù)作用。第四,可靠性:任何封裝都需要形成一定的可靠性,這是整個(gè)封裝工藝中最重要的衡量指標(biāo)。原始的芯片離開(kāi)特定的生存環(huán)境后就會(huì)損毀,需要封裝。芯片的工作壽命,主要決于對(duì)封裝材料和封裝工藝的選擇。目前四頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)ICProcessFlowCustomer客戶(hù)ICDesignIC設(shè)計(jì)WaferFab晶圓制造WaferProbe晶圓測(cè)試Assembly&TestIC封裝測(cè)試SMTIC組裝目前五頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)ICPackage(IC的封裝形式)Package--封裝體:指芯片(Die)和不同類(lèi)型的框架(L/F)和塑封料(EMC)形成的不同外形的封裝體。ICPackage種類(lèi)很多,可以按以下標(biāo)準(zhǔn)分類(lèi):按封裝材料劃分為:金屬封裝、陶瓷封裝、塑料封裝按照和PCB板連接方式分為:PTH封裝和SMT封裝按照封裝外型可分為:SOT、SOIC、TSSOP、QFN、QFP、BGA、CSP等;目前六頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)ICPackage(IC的封裝形式)
按封裝材料劃分為:
金屬封裝陶瓷封裝塑料封裝金屬封裝主要用于軍工或航天技術(shù),無(wú)商業(yè)化產(chǎn)品;陶瓷封裝優(yōu)于金屬封裝,也用于軍事產(chǎn)品,占少量商業(yè)化市場(chǎng);塑料封裝用于消費(fèi)電子,因?yàn)槠涑杀镜停に嚭?jiǎn)單,可靠性高而占有絕大部分的市場(chǎng)份額;目前七頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)ICPackage(IC的封裝形式)按與PCB板的連接方式劃分為:
PTHSMTPTH-PinThroughHole,通孔式;SMT-SurfaceMountTechnology,表面貼裝式。目前市面上大部分IC均采為SMT式的SMT目前八頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)ICPackage(IC的封裝形式)按封裝外型可分為:SOT、QFN
、SOIC、TSSOP、QFP、BGA、CSP等;決定封裝形式的兩個(gè)關(guān)鍵因素:封裝效率。芯片面積/封裝面積,盡量接近1:1;引腳數(shù)。引腳數(shù)越多,越高級(jí),但是工藝難度也相應(yīng)增加;其中,CSP由于采用了FlipChip技術(shù)和裸片封裝,達(dá)到了
芯片面積/封裝面積=1:1,為目前最高級(jí)的技術(shù);封裝形式和工藝逐步高級(jí)和復(fù)雜目前九頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)ICPackage(IC的封裝形式)
QFN—QuadFlatNo-leadPackage四方無(wú)引腳扁平封裝SOIC—SmallOutlineIC小外形IC封裝TSSOP—ThinSmallShrinkOutlinePackage薄小外形封裝QFP—QuadFlatPackage四方引腳扁平式封裝BGA—BallGridArrayPackage球柵陣列式封裝CSP—ChipScalePackage芯片尺寸級(jí)封裝目前十頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)ICPackage
Structure(IC結(jié)構(gòu)圖)TOPVIEWSIDEVIEWLeadFrame
引線(xiàn)框架GoldWire
金線(xiàn)DiePad
芯片焊盤(pán)Epoxy
銀漿MoldCompound塑封料目前十一頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)RawMaterialinAssembly(封裝原材料)【W(wǎng)afer】晶圓晶圓是指硅半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅晶片,由于其形狀為圓形,故稱(chēng)為晶圓;在硅晶片上可加工制作成各種電路元件結(jié)構(gòu),而成為有特定電性功能之IC產(chǎn)品。目前十二頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)RawMaterialinAssembly(封裝原材料)【LeadFrame】引線(xiàn)框架提供電路連接和Die的固定作用;主要材料為銅,會(huì)在上面進(jìn)行鍍銀、
NiPdAu等材料;L/F的制程有Etch和Stamp兩種;易氧化,存放于氮?dú)夤裰?,濕度小?0%RH;除了BGA和CSP外,其他Package都會(huì)采用LeadFrame,
BGA采用的是Substrate;目前十三頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)RawMaterialinAssembly(封裝原材料)【GoldWire】焊接金線(xiàn)實(shí)現(xiàn)芯片和外部引線(xiàn)框架的電性和物
理連接;金線(xiàn)采用的是99.99%的高純度金;同時(shí),出于成本考慮,目前有采用銅
線(xiàn)和鋁線(xiàn)工藝的。優(yōu)點(diǎn)是成本降低,
同時(shí)工藝難度加大,良率降低;線(xiàn)徑?jīng)Q定可傳導(dǎo)的電流;0.8mil,
1.0mil,1.3mils,1.5mils和2.0mils;目前十四頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)RawMaterialinAssembly(封裝原材料)【MoldCompound】塑封料/環(huán)氧樹(shù)脂主要成分為:環(huán)氧樹(shù)脂及各種添加劑(固化劑,改性劑,脫
模劑,染色劑,阻燃劑等);主要功能為:在熔融狀態(tài)下將Die和LeadFrame包裹起來(lái),
提供物理和電氣保護(hù),防止外界干擾;存放條件:零下5°保存,常溫下需回溫24小時(shí);目前十五頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)RawMaterialinAssembly(封裝原材料)成分為環(huán)氧樹(shù)脂填充金屬粉末(Ag);有三個(gè)作用:將Die固定在DiePad上;
散熱作用,導(dǎo)電作用;-50°以下存放,使用之前回溫24小時(shí);【Epoxy】銀漿---環(huán)氧樹(shù)脂目前十六頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)TypicalAssemblyProcessFlowFOL/前段EOL/中段Plating/電鍍EOL/后段FinalTest/測(cè)試目前十七頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)FOL–FrontofLine前段工藝BackGrinding磨片Wafer晶圓WaferMount晶圓安裝WaferSaw晶圓切割WaferWash晶圓清洗DieAttach芯片粘接EpoxyCure銀漿固化WireBond引線(xiàn)焊接2ndOptical第二道光檢3rdOptical第三道光檢EOL目前十八頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)FOL–BackGrinding磨片Taping粘膠帶BackGrinding磨片De-Taping去膠帶將從晶圓廠(chǎng)出來(lái)的Wafer晶圓進(jìn)行背面研磨,來(lái)減薄晶圓達(dá)到封裝需要的厚度(8mils~10mils);磨片時(shí),需要在正面(ActiveArea)貼膠帶保護(hù)電路區(qū)域
同時(shí)研磨背面。研磨之后,去除膠帶,測(cè)量厚度;目前十九頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)FOL–WaferSaw晶圓切割WaferMount晶圓安裝WaferSaw晶圓切割WaferWash清洗將晶圓粘貼在藍(lán)膜(Mylar)上,使得即使被切割開(kāi)后,不會(huì)散落;通過(guò)SawBlade將整片Wafer切割成一個(gè)個(gè)獨(dú)立的Dice,方便后面的
DieAttach等工序;WaferWash主要清洗Saw時(shí)候產(chǎn)生的各種粉塵,清潔Wafer;目前二十頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)FOL–WaferSaw晶圓切割WaferSawMachineSawBlade(切割刀片):LifeTime:900~1500M;
SpindlierSpeed:30~50Krpm:FeedSpeed:30~50/s;目前二十一頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)FOL–2ndOpticalInspection二光檢查主要是針對(duì)WaferSaw之后在顯微鏡下進(jìn)行Wafer的外觀(guān)檢查,是否有出現(xiàn)廢品。ChippingDie
崩邊目前二十二頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)FOL–DieAttach芯片粘接WriteEpoxy點(diǎn)環(huán)氧樹(shù)脂DieAttach芯片粘接EpoxyCure環(huán)氧樹(shù)脂固化EpoxyStorage:
零下50度存放;使用之前回溫,除去氣泡;EpoxyWriting:
點(diǎn)銀漿于L/F的Pad上,Pattern可選;目前二十三頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)第一步:頂針從藍(lán)膜下面將芯片往上頂、同時(shí)真空吸嘴將芯片往上吸,將芯片與膜藍(lán)脫離。FOL–DieAttach芯片粘接目前二十四頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)第二步:將液態(tài)環(huán)氧樹(shù)脂涂到引線(xiàn)框架的臺(tái)載片臺(tái)上。FOL–DieAttach芯片粘接目前二十五頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)第三步:將芯片粘貼到涂好環(huán)氧樹(shù)脂的引線(xiàn)框架上。FOL–DieAttach芯片粘接目前二十六頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)FOL–EpoxyCure環(huán)氧樹(shù)脂固化環(huán)氧樹(shù)脂固化:-175°C,1個(gè)小時(shí);
N2環(huán)境,防止氧化:DieAttach質(zhì)量檢查:DieShear(芯片剪切力)目前二十七頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)FOL–WireBonding引線(xiàn)焊接利用高純度的金線(xiàn)(Au)、銅線(xiàn)(Cu)或鋁線(xiàn)(Al)把Pad
和引線(xiàn)通過(guò)焊接的方法連接起來(lái)。Pad是芯片上電路的外接點(diǎn),引線(xiàn)是引線(xiàn)框架上的連接點(diǎn)。
引線(xiàn)焊接是封裝工藝中最為關(guān)鍵的一部工藝。目前二十八頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)FOL–WireBonding引線(xiàn)焊接KeyWords:Capillary:陶瓷劈刀。W/B工藝中最核心的一個(gè)BondingTool,內(nèi)部為空心,中間穿上金線(xiàn),并分別在芯片的Pad和引線(xiàn)框架的引線(xiàn)上形成第一和第二焊點(diǎn);EFO:打火桿。用于在形成第一焊點(diǎn)時(shí)的燒球。打火桿打火形成高溫,將外露于Capillary前端的金線(xiàn)高溫熔化成球形,以便在Pad上形成第一焊點(diǎn)(BondBall);BondBall:第一焊點(diǎn)。指金線(xiàn)在Cap的作用下,在Pad上形成的焊接點(diǎn),一般為一個(gè)球形;Wedge:第二焊點(diǎn)。指金線(xiàn)在Cap的作用下,在LeadFrame上形成的焊接點(diǎn),一般為月牙形(或者魚(yú)尾形);W/B四要素:壓力(Force)、超聲(USGPower)、時(shí)間(Time)、溫度(Temperature);目前二十九頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)FOL–WireBonding引線(xiàn)焊接EFO打火桿在磁嘴前燒球Cap下降到芯片的Pad上,加Force和Power形成第一焊點(diǎn)Cap牽引金線(xiàn)上升Cap運(yùn)動(dòng)軌跡形成良好的WireLoopCap下降到LeadFrame形成焊接Cap側(cè)向劃開(kāi),將金線(xiàn)切斷,形成魚(yú)尾Cap上提,完成一次動(dòng)作目前三十頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)FOL–WireBonding引線(xiàn)焊接WireBond的質(zhì)量控制:WirePull、StitchPull(金線(xiàn)頸部和尾部拉力)BallShear(金球推力)WireLoop(金線(xiàn)弧高)BallThickness(金球厚度)CraterTest(彈坑測(cè)試)Intermetallic(金屬間化合物測(cè)試)SizeThickness目前三十一頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)FOL–3rdOpticalInspection三光檢查檢查DieAttach和WireBond之后有無(wú)各種廢品目前三十二頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)EOL–EndofLine后段工藝Molding注塑EOLLaserMark激光打字PMC高溫固化De-flash/Plating去溢料/電鍍Trim/Form切筋/成型4thOptical第四道光檢Annealing電鍍退火目前三十三頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)EOL–Molding(注塑)為了防止外部環(huán)境的沖擊,利用塑封料
把引線(xiàn)鍵合完成后的產(chǎn)品封裝起
來(lái)的過(guò)程,并需要加熱硬化。BeforeMoldingAfterMolding目前三十四頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)EOL–Molding(注塑)MoldingTool(模具)EMC(塑封料)為黑色塊狀,低溫存儲(chǔ),使用前需先回溫。其特
性為:在高溫下先處于熔融狀態(tài),然后會(huì)逐漸硬化,最終成型。Molding參數(shù):
MoldingTemp:175~185°C;ClampPressure:3000~4000N;
TransferPressure:1000~1500Psi;TransferTime:5~15s;
CureTime:60~120s;CavityL/FL/F目前三十五頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)EOL–Molding(注塑)MoldingCycle-塊狀塑封料放入模具孔中-高溫下,塑封料開(kāi)始熔化,順著軌道流向孔穴中-從底部開(kāi)始,逐漸覆蓋芯片-完全覆蓋包裹完畢,成型固化目前三十六頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)EOL–LaserMark(激光打字)在產(chǎn)品(Package)的正面或者背面激光刻字。內(nèi)容有:產(chǎn)品名稱(chēng),生產(chǎn)日期,生產(chǎn)批次等;BeforeAfter目前三十七頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)EOL–PostMoldCure(模后固化)用于Molding后塑封料的固化,保護(hù)IC內(nèi)部結(jié)構(gòu),消除內(nèi)部應(yīng)力。
CureTemp:175+/-5°C;CureTime:8HrsESPECOven4hrs目前三十八頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)EOL–De-flash(去溢料)BeforeAfter目的:去溢料的目的在于去除模具后在管體周?chē)€(xiàn)之間
多余的溢料;
方法:弱酸浸泡,高壓水沖洗;目前三十九頁(yè)\總數(shù)四十五頁(yè)\編于十八點(diǎn)EOL–Plating(電鍍)BeforePlatingAfterPlating利用金屬和化學(xué)的方法,在引線(xiàn)框架的表面
鍍上一層鍍層,以防止外界環(huán)境的影響(潮濕
和熱)。并且使元器件在PCB板上容易焊接及
提高導(dǎo)電性。電鍍一般有兩種類(lèi)型:
Pb-Free:無(wú)鉛電鍍,采用的是>99.95%的高純
度的錫(Tin),為目前普遍采用的技術(shù)
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