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ENDURA結(jié)構(gòu)介紹供電系統(tǒng)其它部件的作用PumpFrame提供反映所需的真空度Cryopumpcompressor提供HE給Cryopump,保證冷泵正常工作Heatexchange提供DIWATER，冷卻PVD腔體以及HeaterMAINFRAME上腔體構(gòu)成傳輸過(guò)程真空系統(tǒng)RobotHPRobotHomingRoutineLoadlockDifferentialPumpingPortIndexerBrakePresentthecassettestagefromfallingincaseofpowerfailureORIENT/DEGASORIENT工作原理1.

OrienterBoard發(fā)出信號(hào)通知系統(tǒng)開(kāi)始找平邊過(guò)程。2.

SystemController將有關(guān)圓片的尺寸型號(hào)等信息傳遞給OrienterBoard。3.

軟件校準(zhǔn)CCDBoard，使得由激光管發(fā)出的光信號(hào)轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號(hào)。4

步進(jìn)電機(jī)帶動(dòng)圓片旋轉(zhuǎn)，達(dá)到正常的轉(zhuǎn)速后，則CPU開(kāi)始讀取CCD中的信息（步進(jìn)電機(jī)每轉(zhuǎn)動(dòng)四步讀取一次）。5

信息儲(chǔ)存在RAM中，直到完成3600的旋轉(zhuǎn)。6

軟件分析數(shù)據(jù)，確定圓片的中心。7

校正圓片在chuck上的數(shù)據(jù)，最終確定原片的平邊。8

把圓片旋轉(zhuǎn)到預(yù)定的角度上。9.系統(tǒng)控制器獲得圓片的中心和WaferChuck的中心后，指導(dǎo)ROBOT取片。RFSYSTEMPVDchamber工作原理在靶才上通負(fù)的直流電壓，Shield充當(dāng)接地，電位差使AR原子電離成AR離子，被接負(fù)電壓的靶才吸引而撞擊靶才，生成金屬原子沉積在Wafer表面，從而達(dá)到Sputtering的目的。GasLinesPneumaticOperationW/OInverterSlitvalvewill“open”butnot“close”Waferliftswillgoto“l(fā)ift”butnotto“release”LLCdoorswill“open”butnot“close”Cassatteswillrotate“out”butnot“in”Shutte

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