RD、SEM、TEM、VSM、PS、ICP等測試方法介紹

1.pcpdgwind衍射譜有時候一天也搞不定。searchmatch3而且它還有自動生成試驗報告的功能!highscore,highscoresearchmatch有用?！?〕它可以調(diào)用的數(shù)據(jù)格式更多.窗口設置更人性化，用戶可以自己選擇.〔3)譜線位置的顯示方式，可以讓你更直接地看到檢索的狀況〔4)手動加峰或減峰更加便利?？梢詫ρ苌鋱D進展平滑等操作，是圖更秀麗?？梢愿脑紨?shù)據(jù)的步長、起始角度等參數(shù)。0(9〕可以進展半定量分析?！?0)物相檢索更加便利,檢索方式更多.可以編寫批處理命令,對于同一系列的衍射圖，一鍵搞定。4.jadehighscore相比自動檢索功能少差，但它有比之更多的功能.它可以進展衍射峰的指標化。進展晶格參數(shù)的計算。依據(jù)標樣對晶格參數(shù)進展校正。輕松計算峰的面積、質(zhì)心?！?)出圖更加便利，你可以在圖上進展更加隨便的編輯。，XX手段。X射線是一種波長很短(約為20～0.06┱)的電磁波,能穿透肯定厚度的物XX(或標識〕XX〔10—8nm〕相近，1912(M。vonLaue〕提出一個重要的科學預見:晶體可XX片上得到的衍射把戲,便可確定晶體構造。這一預見隨即為試驗所驗證.1913年NaCl、KCl2dsinθ=nλ件來表示：nmax=2dh0k0l0/λ，dh0k0l0<λ/2只有那些間距大于波長一半的面族才可能給出衍射，以此求納米粒子的形貌。d格定律簡潔直觀地表達了衍射所必需滿足的條件。當X射線波長λ時〔選θ角符合布喇格條件的反射面得到反射,測出θ喇格公式即可確定點陣平面間距、晶胞大小和類型；依據(jù)衍射線的強度,還可進一步確定晶胞內(nèi)原子的排布.這便是X〔Debye—Scherrer〕法的理論根底。而在測定單晶取向的勞厄法中，所用單晶樣品保持固定不變動(即θ不變XXX具有重大意義的結(jié)果。如韋斯特格倫〔A。Westgren〕(1922年〕證明α、β上是由體心立方晶體轉(zhuǎn)變?yōu)槊嫘牧⒎骄w，從而最終否認了β—Fe硬化理論。隨后,在用X射線測定眾多金屬和合金的晶體構造的同時，在相圖測定以及在固態(tài)相變和范性形變爭論等領域中均取得了豐碩的成果。如對超點陣構造的覺察,X〔包括散射)已經(jīng)成為爭論晶體物質(zhì)和某些非晶態(tài)物質(zhì)微觀構造的有效方法。在金屬中的主要應用有以下方面:物相分析是X射線衍射在金屬中用得最多的方面，分定性分析和定量分析。前者把對材料測得的點陣平面間距及衍射強度與標準物相的衍射數(shù)據(jù)相比較量.在爭論性能和各相含量的關系和檢查材料的成安排比及隨后的處理規(guī)程是否合理等方面都得到廣泛應用。周密測定點陣參數(shù)常用于相圖的固態(tài)溶解度曲線的測定.溶解度的變化往往引起點陣常數(shù)的變化;當?shù)竭_溶解限后，溶質(zhì)的連續(xù)增加引起相的析出，不再引起點陣常數(shù)的變化.這個轉(zhuǎn)折點即為溶解限。另外點陣常數(shù)的周密測定可得的物理常數(shù).取向分析包括測定單晶取向和多晶的構造〔見擇優(yōu)取向).測定硅鋼片的取向就是一例.另外，為爭論金屬的范性形變過程，如孿生、滑移、滑移面的轉(zhuǎn)動等，也與取向的測定有關。晶?！睬惰倝K〕大小和微觀應力的測定由衍射把戲的外形和強度可計算晶粒和微應力的大小.在形變和熱處理過程中這兩者有明顯變化，它直接影響材料的性能.宏觀應力的測定宏觀殘留應力的方向和大小,直接影響機器零件的使用壽方向。對晶體構造不完整性的爭論包括對層錯、位錯、原子靜態(tài)或動態(tài)地偏離平衡位置，短程有序，原子偏聚等方面的爭論〔見晶體缺陷。合金相變包括脫溶、有序無序轉(zhuǎn)變、母相相的晶體學關系，等等.原子位置等晶體學數(shù)據(jù)。量、配位數(shù)等。特別狀態(tài)下的分析在高溫、低溫順瞬時的動態(tài)分析.用于爭論近完整晶體中的缺陷如位錯線等，也得到了重視.X射線分析的進展：金屬X射線分析由于設備和技術的普及已逐步變成金計算機掌握等優(yōu)點,已經(jīng)得到廣泛的應用。但使用單色器的照相法在微量樣品和70XXX〕和高靈敏度探測器的消滅以及電子計算機分析的應用，使金屬X射線學獲得瞬時的動態(tài)觀看以及對更為微弱或精細效應的爭論.X射線衍射儀是利用衍射原理,準確測定物質(zhì)的晶體構造，織構及應力，準確的進展物相分析，定性分析，定量分析.廣泛應用于冶金,石油,化工，科研，航空航天，教學，材料生產(chǎn)等領域.X射線是波長介于紫外線和γ射線間的電磁輻射。X射線管是具有陰極和陽極的真空管，陰極用鎢絲制成，通電后可放射熱電子,陽極〔就稱靶極〕用高熔X子轟擊靶極時會產(chǎn)生高溫，故靶極必需用水冷卻。XRDX-射線衍射〔WideAngleX-rayDiffraction〕主要是比照標準譜圖分析納米粒子的組成，分析粒徑，結(jié)晶度等。定所制樣品是否為所得。掃描電子顯微鏡 在化學化工里，SEM是scanningelectronmicroscope的縮寫，指掃描電子顯微鏡是一種常用的材料分析手段。原理是用一束極細的電子束掃描樣品，在樣品外表激發(fā)出次級電子,次級電子的后，要噴涂上一層重金屬微粒,重金屬在電子束的轟擊下發(fā)出次級電子信號。0.2mm0。2mm/10nm=20230X。被激發(fā)的區(qū)域?qū)a(chǎn)生二次電子、俄歇電子、特征x射線和連續(xù)譜X射線、背散射電子、透射電子，以及在可見、紫外、紅外光區(qū)域產(chǎn)生的電磁輻射。同時,也可產(chǎn)生電子-空穴對、晶格振動〔聲子、電子振蕩〔等離子體。原則上講,利用電子和物質(zhì)的相互作用,可以獵取被測樣品本身的各種物理、化學性質(zhì)的信息，如形貌、組成、晶體構造、電子構造和內(nèi)部電場或磁場等等.掃描電子顯微鏡正是x的采集，可得到物質(zhì)化學成分的信息。相關，因此可以形成明暗不同的影像。通常,透射電子顯微鏡的區(qū)分率為0.1～0.2µ；m、光學顯微鏡下無法看清的構造，又稱“亞顯微構造”。成像原理透射電子顯微鏡的成像原理可分為三種狀況：樣品上質(zhì)量厚度大的地方對電子的散射角大，通過的電子較少，像的亮度較暗.不同位置的衍射波振幅分布對應于樣品中晶體各局部不同的衍射力量,當消滅晶體缺陷時,缺陷局部的衍射力量與完整區(qū)域不同,從而使衍射缽的振幅分布不均100＆Aring;以下時，電子可以傳過樣品，波的振幅變化可以無視，成像來自于相位的變化.組件的小孔形成射線束，經(jīng)陽極電壓加速后射向聚光鏡,起到對電子束加速、加壓的觀看的樣品,并裝有傾轉(zhuǎn)臺，用以轉(zhuǎn)變試樣的角度,還有裝配加熱、冷卻等設備.鏡區(qū)分力量和成像質(zhì)量的關鍵。中間鏡：為可變倍的弱透鏡，作用是對電子像進展二次放大.通過調(diào)整中間鏡的電流,可選擇物體的像或電子衍射圖來進展放二級真空泵來對樣品室抽真空、照相裝置用以記錄影像.應用吸取，故穿透力低,樣品的密度、厚度等都會影響到最終的成像質(zhì)量，必需制備50~100nm。所以用透射電子顯微鏡觀看時的樣品需要斷裂法等.對于液體樣品，通常是掛預處理過的銅網(wǎng)上進展觀看。特點TEM以電子束作光源,電磁場作透鏡。電子束波長與加速電壓〔50~120KV〕的平方根成反比.由電子照明系統(tǒng)、電磁透鏡成像系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、記錄系統(tǒng)、電源系統(tǒng)等5局部構成。 區(qū)分力0.2nm，放大倍數(shù)可達百萬倍。高區(qū)分率〔1nm〕、高放大倍數(shù)的電子光學分析技術;用電鏡〔TEM〕進展得到電子衍射把戲；TEM表征技術之一。XHertz1907,P。DInnes用倫琴管、亥姆霍茲線圈、磁場半球(電子能量)和照像平版做試驗來記錄寬帶放射電子和速度的函數(shù)關系?！补怆娮印?透過現(xiàn)對外表元素的定性分析,包括價態(tài)。X光電子的能量,以光電子的動能為橫坐標，相對強度〔脈沖/s〕為縱坐標可做出X因此被稱為化學分析用電子能譜(ElectronSpectroscopyforChemicalAnalysis〕.H、He〔原子的含量或相對濃度。分布，測定外表電子的電子云分布和能級構造等。4,化合物的構造.可以對內(nèi)層電子結(jié)合能的化學位移準確測量，供給化學鍵XPSCo。電感耦合等離子體I