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EDI基礎(chǔ)知識培訓(xùn)天津銳馬蘭盾科技有限公司RIMELDTechnologyLimitedCompanyOfTianjinEDI基礎(chǔ)知識培訓(xùn)天津銳馬蘭盾科技有限公司1目錄主要競爭對手信息故障分析與排除方法RO-EDI純水設(shè)備工藝流程EDI基礎(chǔ)原理與知識EDI概述與常用術(shù)語目錄主要競爭對手信息故障分析與排除方法RO-EDI純水設(shè)備工2EDI概述與常用術(shù)語原水預(yù)處理原水預(yù)處理原水預(yù)處理陰/陽床反滲透反滲透混床混床EDI水處理技術(shù)的發(fā)展歷程第一代二十世紀六七十年代第二代二十世紀八九十年代第三代二十世紀九十年代末EDI技術(shù)的出現(xiàn)是水處理工業(yè)的一次劃時代的革命,標志著水處理工業(yè)全面跨入綠色產(chǎn)業(yè)的時代。EDI概述與常用術(shù)語原水預(yù)處理原水預(yù)處理原水預(yù)處理陰/陽床反3EDI概述與常用術(shù)語EDI設(shè)備(即電去離子設(shè)備)是電滲析與離子交換樹脂除鹽有機結(jié)合形成的新型膜分離技術(shù),是當今世界最先進的高純水生產(chǎn)技術(shù)。

EDI工藝系統(tǒng)代替?zhèn)鹘y(tǒng)的DI混合樹脂床來制造去離子水。與DI混床最大的不同是,EDI的去離子過程可以連續(xù)進行,自動化程度高,且不需要酸堿再生。EDI概述與常用術(shù)語EDI設(shè)備(即電去離子設(shè)備)是電滲析與4EDI概述與常用術(shù)語EDI相比傳統(tǒng)DI混床的優(yōu)越之處:電滲析與離子交換技術(shù)的有機結(jié)合;保留了電滲析連續(xù)脫鹽和離子交換深度脫鹽的優(yōu)點;離子交換樹脂用量少,與普通離子交換樹脂柱相比,節(jié)約樹脂95%以上;離子交換樹脂不需酸堿化學(xué)再生,節(jié)約大量酸堿和清洗用水,大大降低勞動強度;無廢酸廢堿液排放,是清潔生產(chǎn)技術(shù),綠色環(huán)保產(chǎn)品;過程易實現(xiàn)自動控制,EDI與反滲透(RO)、超濾(UF)等水處理技術(shù)相結(jié)合,能形成完善的高純水生產(chǎn)線;占地面積小,而且不需要像離子交換床那樣,一套在用,一套再生的重復(fù)設(shè)置;產(chǎn)水水質(zhì)高,電阻率可達15~18MΩ.cm。EDI概述與常用術(shù)語EDI相比傳統(tǒng)DI混床的優(yōu)越之處:電滲5EDI概述與常用術(shù)語陽極:一種帶正電的電極,吸引陰離子,表層涂鈦。陰極:一種帶負電的電極,吸引陽離子,通常由不銹鋼制作。濃水流:流經(jīng)濃水室并收集離子的水流。成品(淡水)水流:流經(jīng)純化室或淡水室的水流。這股水流就是去離子水。電導(dǎo)率:水傳導(dǎo)電流能力的一個電學(xué)測量參數(shù),其值隨水中離子的濃度和水溫的變化而變化。單位是μS/cm,一般是指25℃。電阻率:描述水阻擋電流的能力的測量參數(shù)。離子濃度降低,電阻率就增加;離子濃度增加,電阻率就降低。這個參數(shù)與用EDI實現(xiàn)的去離子水平有關(guān)。不含雜質(zhì)的超純水在25℃可以達到18.24MΩ.cm。直流(DC)電流:電流不改變狀態(tài),在EDI系統(tǒng)中與移動的離子數(shù)量成比例,包括水裂解的離子。直流(DC)電壓:電壓不改變極性。電去除離子只有在這種形式的能量下才能發(fā)生。在直流電壓中會有一些交流的電壓成份存在。常用術(shù)語EDI概述與常用術(shù)語陽極:一種帶正電的電極,吸引陰離子,表層6EDI概述與常用術(shù)語電極:傳導(dǎo)電場的金屬板(陽極和陰極),并且促進電化學(xué)反應(yīng)發(fā)生,電極通過導(dǎo)線與外部電源相連。電解液:電極附近的離子溶液。EDI單元將兩種電解液匯成一股,在通過“電解液出口”導(dǎo)出端口將它們輸送到模塊之外。進水:垂直進入EDI模塊的水。它將供應(yīng)給淡水室、濃水室和極水室。這種水的水源就是反滲透的產(chǎn)品水。GPM(gpm):加侖每分鐘。水流量的一個測量參數(shù)。1.0gpm相當于227升/小時,4.4gpm相當于1.0m3/hr。離子交換膜:含有離子交換基團,對陰離子或陽離子具有選擇性作用的薄膜,且不允許水通過。離子交換樹脂:含有離子交換基團,對陰離子或陽離子具有吸附作用的樹脂球。兆歐.厘米(MΩ·cm):用于計量從去離子系統(tǒng)中出來的水的純度,它是一個電阻參數(shù)。不含雜質(zhì)的超純水在25oC時可以達到18.24兆歐.厘米。EDI概述與常用術(shù)語電極:傳導(dǎo)電場的金屬板(陽極和陰極),并7EDI概述與常用術(shù)語分解:水在電流的作用之下分解成H+和OH-,這種情況發(fā)生在淡水室中離子相應(yīng)較少而電壓較強的情況下。它導(dǎo)致水的分解以傳導(dǎo)電流。一般情況下電流靠溶解鹽中的離子傳導(dǎo)。PH值波動一般跟分解作用有關(guān)。水的極化分解作用可以使離子交換樹脂再生。ppb:十億分之一,或μg/l。用于衡量水中離子的數(shù)量,如:超純水中的硅含量。ppm:百萬分之一,或mg/l。用于標識水中總?cè)芙夤腆w數(shù)目的參數(shù)單位。這個參數(shù)單位一般用于描述進入EDI模塊的水流的純度。在低電導(dǎo)率時,1ppm近似等于2μs/cm。TOC(總有機碳):水樣品中活性有機化合物的含量數(shù)目參數(shù)。非有機炭總量(CO2)為從總碳中減去有機碳后剩下的部分。用ppm或毫克/升表示。TEA(總可交換陰離子):水樣品中可交換陰離子的含量數(shù)目參數(shù)。用ppm或毫克/升表示。EDI概述與常用術(shù)語分解:水在電流的作用之下分解成H+和OH8目錄主要競爭對手信息故障分析與排除方法RO-EDI純水設(shè)備工藝流程EDI基礎(chǔ)原理與知識EDI概述與常用術(shù)語目錄主要競爭對手信息故障分析與排除方法RO-EDI純水設(shè)備工9EDI基礎(chǔ)原理與知識增強傳質(zhì)區(qū)(高鹽度)電再生區(qū)(低鹽度)EDI的工作原理EDI基礎(chǔ)原理與知識增強傳質(zhì)區(qū)(高鹽度)電再生區(qū)(低鹽度)E10EDI基礎(chǔ)原理與知識EDI工藝采用一種離子選擇性膜和離子交換樹脂夾在直流電壓下兩個電極之間,在兩極間的直流電源電場從RO預(yù)處理過的水中去除離子。離子交換反應(yīng)在模塊的淡水室中進行,依靠在淡水室的樹脂吸附離子,即陰離子交換樹脂釋放出氫氧根離子(OH-)而從溶解鹽(如氯化物)中交換陰離子,陽離子交換樹脂釋放出氫離子(H+)而從溶解鹽中(如鈉)交換陽離子。

模塊的膜對放置在兩個電極之間,兩電極提供直流電場給模塊。在提供的直流電場推動下,離子通過膜從淡水室被遷移到濃水室。因此,當水通過淡水室流動時,逐步達到無離子狀態(tài),這股水流就是產(chǎn)品水流。EDI基礎(chǔ)原理與知識EDI工藝采用一種離子選擇性膜和離子交換11EDI基礎(chǔ)原理與知識EDI裝置流程圖EDI基礎(chǔ)原理與知識EDI裝置流程圖12EDI基礎(chǔ)原理與知識EDI裝置配件一覽表(最低配置)序號配件名稱單位數(shù)量備注1RO水加壓泵臺12進水電動閥臺13隔膜閥臺34壓力表個4其中一個為總壓力表5流量表個3流量大小不一6EDI膜堆個17EDI電源臺18電阻率儀臺1EDI基礎(chǔ)原理與知識EDI裝置配件一覽表(最低配置)序號配件13EDI基礎(chǔ)原理與知識項目單位水質(zhì)指標電導(dǎo)率us/cm≤10pH6~8溫度℃5~35硬度(以CaCO3計)mg/L≤0.1TEAmg/L≤20余氯mg/L≤0.01可反應(yīng)硅mg/L≤0.5TOCmg/L≤0.1鐵、錳、H2Smg/L≤0.01RIMEpureEDI進水水質(zhì)條件EDI基礎(chǔ)原理與知識項目單位水質(zhì)指標電導(dǎo)率us/cm≤10p14EDI基礎(chǔ)原理與知識產(chǎn)水流量(m3/h)RIMEpure-5000.4~0.61.8~2.22.8~3.20.8~1.2產(chǎn)水電阻率(MΩ.cm)〉17〉17〉17〉17濃水流量(m3/h)0.04~0.060.18~0.220.28~0.320.08~0.12極水流量(m3/h)0.04~0.060.04~0.060.04~0.060.04~0.06水回收率(%)90979895操作電壓(V)100~120300~320400~420200~220操作電流(A)0.5~10.5~10.5~10.5~1RIMEpureEDI技術(shù)參數(shù)RIMEpure-1000RIMEpure-2000RIMEpure-3000EDI基礎(chǔ)原理與知識產(chǎn)水流量RIMEpure-5000.4~15EDI基礎(chǔ)原理與知識RIMEpureEDI技術(shù)優(yōu)勢1、濃水不循環(huán),無需加鹽,系統(tǒng)簡便穩(wěn)定產(chǎn)品水極水濃水RO產(chǎn)水EDI基礎(chǔ)原理與知識RIMEpureEDI技術(shù)優(yōu)勢1、濃水16EDI基礎(chǔ)原理與知識RIMEpureEDI技術(shù)優(yōu)勢2、免清洗、免再生,結(jié)構(gòu)合理,水回收率高EDI進水產(chǎn)水濃水極水一般為10%,可循環(huán)回流到RO進水最高可達99%的水回收率約為1%,陰極+陽極統(tǒng)一排放EDI基礎(chǔ)原理與知識RIMEpureEDI技術(shù)優(yōu)勢2、免清17EDI基礎(chǔ)原理與知識RIMEpureEDI技術(shù)優(yōu)勢3、產(chǎn)品規(guī)格齊全,滿足多行業(yè)客戶需求RMM系列微型EDI產(chǎn)品0.005~0.1m3/hRMS系列標準型EDI產(chǎn)品0.12~3.6m3/hRMB系列大型EDI產(chǎn)品5~10m3/hEDI基礎(chǔ)原理與知識RIMEpureEDI技術(shù)優(yōu)勢3、產(chǎn)品18EDI基礎(chǔ)原理與知識RIMEpureEDI技術(shù)優(yōu)勢4、自主知識產(chǎn)權(quán),能耗低,出水品質(zhì)高品牌產(chǎn)水電阻率MΩ.cm水回收率%功耗Kwh/m3備注RIMEpure16--18950.271m3/hE-CELL16—18950.271m3/hIonics17.2900.2615m3/h國外競爭對手技術(shù)性能比較EDI基礎(chǔ)原理與知識RIMEpureEDI技術(shù)優(yōu)勢4、自主19EDI基礎(chǔ)原理與知識應(yīng)用領(lǐng)域電子--芯片用高純水電力--高壓鍋爐補給水生物技術(shù)--高純水實驗技術(shù)--高純水化工、冶金、電鍍等--純水、高純水EDI基礎(chǔ)原理與知識應(yīng)用領(lǐng)域電子--芯片用高純水電力--高壓20目錄主要競爭對手信息故障分析和排除方法RO-EDI純水設(shè)備工藝流程EDI基礎(chǔ)原理與知識EDI概述與常用術(shù)語目錄主要競爭對手信息故障分析和排除方法RO-EDI純水設(shè)備工21RO-EDI純水設(shè)備工藝流程UF水加壓泵活性炭吸附器軟水器鹽桶兩級RO裝置EDI裝置純水儲罐UF水儲罐UF裝置中間儲罐精密過濾器終端水泵預(yù)處理裝置反滲透裝置EDI裝置后處理部分RO-EDI純水設(shè)備工藝流程UF水加壓泵活性炭軟水器鹽桶兩級22RO-EDI純水設(shè)備工藝流程高純水供水EDI深度脫鹽RO初級脫鹽預(yù)處理水處理工藝流程RO-EDI純水設(shè)備工藝流程高純水供水EDIRO預(yù)處理水處理23RO-EDI純水設(shè)備工藝流程預(yù)處理部分包括砂濾器、炭濾器、軟化水器和精密過濾器等。預(yù)處理裝置工作質(zhì)量直接影響RO膜的使用壽命和RO產(chǎn)水的水質(zhì)。

預(yù)處理RO初級脫鹽部分主要除去水中的大部分無機鹽類和殘留有機物,主要包括高壓泵,膜組件,流量計,壓力表,進、出水電導(dǎo)率儀,進、出水電磁閥,高、低壓保護開關(guān),中間水箱等。

RO初級脫鹽EDI深度脫鹽部分主要去除RO產(chǎn)水中剩余的微量可溶性鹽類及其它雜質(zhì),其裝置包括中間水泵,增效樹脂柱,EDI膜堆,直流電源,流量計,壓力表,進、出水電磁閥,低壓保護開關(guān),純化水箱等。

EDI深度脫鹽供水部分包括終端水泵(2臺,一用一備)、變頻控制系統(tǒng)、終端過濾器和紫外線殺菌器。純化水箱中的純化水由終端水泵加壓,通過終端過濾器、紫外燈和純化水管網(wǎng)輸送至各個用水點。供水RO-EDI純水設(shè)備工藝流程預(yù)處理部分包括砂濾器、炭濾器、軟24RO-EDI純水設(shè)備工藝流程相關(guān)行業(yè)純水設(shè)備工藝流程應(yīng)用行業(yè)工藝流程電子行業(yè)自來水加壓泵→超濾裝置→超濾水箱→超濾水泵→活性炭吸附器→軟化水器→保安過濾器→高壓泵→一級反滲透裝置→高壓泵→二級反滲透裝置→中間水箱→中間水泵→電去離子裝置→拋光樹脂柱→終端水箱醫(yī)療行業(yè)自來水加壓泵→超濾裝置→超濾水箱→超濾水泵→活性炭吸附器→軟化水器→保安過濾器→高壓泵→一級反滲透裝置→反滲透水箱→反滲透水泵→電去離子裝置→終端水箱RO-EDI純水設(shè)備工藝流程相關(guān)行業(yè)純水設(shè)備工藝流程應(yīng)用行業(yè)25RO-EDI純水設(shè)備工藝流程活性炭:從進水流中除去氯氣和一些氯胺,以保護反滲透膜、離子交換樹脂和離子選擇性膜不受化學(xué)氧化降解。它還能夠除去許多溶解有機物和殺蟲劑,防止它們通過反滲透膜而進入EDI模塊。軟化器:從進水流中除去硬的陽離子(Ca2+、Mg2+)以防止在RO或EDI中結(jié)垢。軟化后允許RO系統(tǒng)有較高的回收率。軟化后也允許進水流的pH值升高,使得二氧化碳和二氧化硅能更有效的從RO和EDI系統(tǒng)中除去。也可以除去促使PA薄膜和EDI中樹脂催化氧化的鐵和其它活性金屬。懸浮物過濾器:從進水流中除去不溶解物質(zhì),防止反滲透膜阻塞。去除氣體組件:為了得到高電阻率的高質(zhì)量的純水,進水中的氣體也要除去。其中最主要的是除去CO2。低含量的CO2可以使EDI模塊更有效地去除SiO2。去除氣體模塊可以是一個氣體傳送膜單元,最好置于RO之后,但是也可以置于前面。主要單元功能概述RO-EDI純水設(shè)備工藝流程活性炭:從進水流中除去氯氣和一些26RO-EDI純水設(shè)備工藝流程反滲透系統(tǒng):除去大多數(shù)溶解鹽和有機物。如果恰當維護,一個RO系統(tǒng)可以除去98~99%以上的離子和有機物質(zhì)。恰當?shù)念A(yù)處理對于較低的維護頻率至關(guān)重要。RO膜最好用高脫鹽率復(fù)合膜(TFC)。反滲透將進水分成兩股水流----成品水和濃縮水。只有成品水才能進入EDI模塊,RO濃縮水有太高的硬度和其它雜質(zhì)離子。壓力調(diào)節(jié)器:用于調(diào)節(jié)供給反滲透膜以及EDI模塊上的壓力。壓力表:測量RO和EDI水流的工作壓力。取樣閥:小的“測試閥”允許一個人在系統(tǒng)常規(guī)運行和故障狀態(tài)時采集水的樣品。建議從產(chǎn)水和濃水流中取樣,在多模塊系統(tǒng)中從每一個模塊采樣是最理想的。流量計:測量各種水流的流量??梢越o控制器發(fā)送信號。流量開關(guān):確保僅僅當有水流量時EDI才能供電,如果流過EDI模塊的流量太小或沒有水,它將引起系統(tǒng)關(guān)閉。這個可以由電源單元直接互鎖或是通過控制器互鎖。電導(dǎo)率表:測量并顯示從RO和EDI的各個部件出來的成品水的質(zhì)量。RO的成品一般測量電導(dǎo)率或總?cè)芙夤腆wTDS,EDI產(chǎn)水一般測量電阻率(M

.cm)。

RO-EDI純水設(shè)備工藝流程反滲透系統(tǒng):除去大多數(shù)溶解鹽和有27RO-EDI純水設(shè)備工藝流程傳感器:用于測量進入EDI組件的水的質(zhì)量(電導(dǎo)率)和測量EDI成品的質(zhì)量(電阻率)??刂破鳎禾峁┌▎雍妥詣硬僮髟趦?nèi)的系統(tǒng)控制,可以直接控制電源,包括EDI流量過低時關(guān)斷電源的保護程序,在RO電導(dǎo)率高于設(shè)定值或EDI電阻率低于設(shè)定值時報警。在自動沖水模式中,應(yīng)該能夠?qū)O的成品水轉(zhuǎn)換到下水道直到獲得初始電導(dǎo)率的品質(zhì)----這可以防止EDI的離子過載,減少EDI的維修頻率。可以按照用戶的要求增加其它的保護措施,可以跟工廠的主控制器進行通訊。電源供給:給EDI模塊提供直流(DC)電壓的電力源,應(yīng)該有電流限制,并且能被系統(tǒng)控制器關(guān)斷。為保護EDI模塊,電源應(yīng)在EDI模塊的任何水流的流量低于設(shè)定值時自動關(guān)斷。壓力調(diào)節(jié)閥:防止產(chǎn)生過大的預(yù)處理壓力的波動。氣體排放:注意極水廢液中含有水和氣體。氣體包括Cl2(大部分溶解)、H2和O2。這些氣體必須被安全排出。注意到H2的爆炸極限水平(LEL)為4%,所以這種氣體必須分散,加以稀釋。正常的安全范圍是LEL水平為25%,或低于1%。RO-EDI純水設(shè)備工藝流程傳感器:用于測量進入EDI組件的28目錄主要競爭對手信息故障分析與排除方法RO-EDI純水設(shè)備工藝流程EDI基礎(chǔ)原理與知識EDI概述與常用術(shù)語目錄主要競爭對手信息故障分析與排除方法RO-EDI純水設(shè)備工29故障分析與排除方法裝置部位故障現(xiàn)象原因分析排除方法預(yù)處理閉合預(yù)處理控制開關(guān),不工作

原水水箱水位過低

檢查進水浮球閥是否打開

泵運轉(zhuǎn),但達不到額定壓力和流量

泵反轉(zhuǎn)泵內(nèi)有空氣

重新接線排除泵內(nèi)空氣

接觸器過載,保護快速跳開與過載裝置接點不良電線接頭不良水泵卡住不能轉(zhuǎn)動水泵電機過載過載跳脫設(shè)定值太低

檢查與過載裝置的接點檢查線接點拆開水泵,檢查是否卡死計算是否過載重新設(shè)定過載值

RO初級除鹽閉合RO控制開關(guān),不工作控制部分空氣開關(guān)保護動作或電線脫落熱保護元件保護后未復(fù)位進水水壓過低閉合空氣開關(guān),接好電線按下復(fù)位按鈕檢查水路,檢查精密過濾器濾芯是否堵塞故障分析與排除方法裝置部位故障現(xiàn)象原因分析排除方法預(yù)處理閉合30故障分析與排除方法裝置部位故障現(xiàn)象原因分析排除方法RO初級除鹽接觸器過載,保護快速跳開與過載裝置接點不良電線接頭不良水泵卡住不能轉(zhuǎn)動水泵電機過載過載跳脫設(shè)定值太低檢查與過載裝置的接點檢查線接點拆開水泵,檢查是否卡死計算是否過載重新設(shè)定過載值設(shè)備啟動后進水電磁閥未打開

接線脫落電磁閥內(nèi)部故障

檢查接線檢查電磁閥,修理或更換泵運轉(zhuǎn),但達不到額定壓力和流量泵反轉(zhuǎn)泵內(nèi)有空氣重新接線排除泵內(nèi)空氣RO裝置低壓停機原水供應(yīng)不足精密過濾器濾芯堵塞壓力調(diào)整不當檢查原水水泵和前處理系統(tǒng)是否正常工作清洗、更換濾芯調(diào)整系統(tǒng)壓力到最佳狀態(tài)故障分析與排除方法裝置部位故障現(xiàn)象原因分析排除方法RO接觸器31故障分析與排除方法裝置部位故障現(xiàn)象原因分析排除方法RO初級除鹽RO高壓泵運轉(zhuǎn)正常但壓力表顯示壓力不足壓力軟管內(nèi)有堵塞物軟管內(nèi)有空氣壓力表故障檢查并疏通管路排除空氣更換壓力表RO膜前、后段壓差過大膜污染、堵塞按技術(shù)要求進行清洗或更換RO裝置產(chǎn)水水質(zhì)變差RO膜污染、結(jié)垢RO膜組件密封老化RO膜老化按技術(shù)要求進行化學(xué)清洗更換O型密封圈更換RO膜元件RO裝置產(chǎn)水量下降RO膜污染、結(jié)垢原水水溫降低進行化學(xué)清洗RO裝置不制水中間水箱水位控制開關(guān)處高液位狀態(tài)供水不足進水電磁閥未打開檢查純化水箱及高液位線路檢查原水前置濾材與加壓泵檢查電磁閥進線接頭或更換故障分析與排除方法裝置部位故障現(xiàn)象原因分析排除方

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