GB/T 23611-2023金及金合金靶材

ICS7715099

CCSH.68.

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T23611—2023

代替GB/T23611—2009

金及金合金靶材

Goldandgoldalloytargets

2023-08-06發(fā)布2024-03-01實(shí)施

國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局發(fā)布

國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB/T23611—2023

前言

本文件按照標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第部分標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則的規(guī)

GB/T1.1—2020《1:》

定起草

。

本文件代替金靶材與相比除結(jié)構(gòu)調(diào)整和編輯性改動(dòng)

GB/T23611—2009《》,GB/T23611—2009,

外主要技術(shù)變化如下

,:

增加了術(shù)語(yǔ)和定義一章見(jiàn)第章

a)“”(3);

增加了及合金靶材品種見(jiàn)

b)AuGeAuGeNi(4.1.2);

增加了結(jié)構(gòu)形式及供貨狀態(tài)見(jiàn)

c)(4.1.4、4.1.5);

增加了及合金靶材技術(shù)要求和試驗(yàn)方法見(jiàn)

d)AuGeAuGeNi(5.1、6.1);

增加了金靶材化學(xué)成分表見(jiàn)

e)(5.1);

增加了靶材焊接質(zhì)量要求見(jiàn)

f)(5.5);

更改了金靶材外形尺寸及允許偏差見(jiàn)年版的

g)(5.6,20093.4);

增加了矩形靶材外形尺寸及允許偏差要求見(jiàn)

h)(5.6)。

請(qǐng)注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識(shí)別專利的責(zé)任

。。

本文件由中國(guó)有色金屬工業(yè)協(xié)會(huì)提出

。

本文件由全國(guó)有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口

(SAC/TC243)。

本文件起草單位有研億金新材料有限公司北京有色金屬與稀土應(yīng)用研究所有限公司貴研鉑業(yè)

:、、

股份有限公司紫金礦業(yè)集團(tuán)黃金冶煉有限公司有研資源環(huán)境技術(shù)研究院北京有限公司深圳市眾

、、()、

誠(chéng)達(dá)應(yīng)用材料科技有限公司

。

本文件主要起草人羅瑤呂保國(guó)江軒王鵬黃曉猛竇程亮關(guān)靜羅遠(yuǎn)輝段華英劉滿門(mén)朱武勛

:、、、、、、、、、、、

張博厚林烽先吳衛(wèi)煌黃勇彪

、、、。

本文件于年首次發(fā)布為金靶材本次為第一次修訂

2009GB/T23611—2009《》,。

Ⅰ

GB/T23611—2023

金及金合金靶材

1范圍

本文件規(guī)定了金及金合金靶材的產(chǎn)品分類技術(shù)要求試驗(yàn)方法檢驗(yàn)規(guī)則及標(biāo)志包裝運(yùn)輸貯存

、、、、、、

及隨行文件和訂貨單內(nèi)容

。

本文件適用于半導(dǎo)體電子器件用金及金合金靶材以下簡(jiǎn)稱靶材

(“”)。

2規(guī)范性引用文件

下列文件中的內(nèi)容通過(guò)文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款其中注日期引用文

。,

件僅該日期對(duì)應(yīng)的版本適用于本文件不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于

,;,()

本文件

。

金屬平均晶粒度測(cè)定方法

GB/T6394

金屬板材超聲板波探傷方法

GB/T8651

金化學(xué)分析方法金量的測(cè)定火試金法

GB/T11066.1

金化學(xué)分析方法硅量的測(cè)定鉬藍(lán)分光光度法

GB/T11066.10

金化學(xué)分析方法第部分鎂鉻錳鐵鎳銅鈀銀錫銻鉛鉍含量的

GB/T11066.1111:、、、、、、、、、、、

測(cè)定電感耦合等離子體質(zhì)譜法

貴金屬及其合金材料幾何尺寸測(cè)量方法

GB/T15077

所有部分高純金化學(xué)分析方法

GB/T25934()

濺射靶材背板結(jié)合質(zhì)量超聲波檢驗(yàn)方法

YS/T837-

3術(shù)語(yǔ)和定義

下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件

。

31

.

靶材target

在濺射沉積技術(shù)中的陰極部分該陰極材料在帶正電荷的陽(yáng)離子撞擊下以分子原子或離子的形式

,、

脫離陰極而在陽(yáng)極表面沉積

。

注靶材由靶坯和背板組成

:。

32

.

靶坯targrtblank

陰極上用作濺射材料的材料

。

33

.

背板backingplate

用來(lái)支撐或固定靶材的材料