上海新陽(yáng) -電鍍清洗技術(shù)國(guó)內(nèi)領(lǐng)先高分辨光刻膠量產(chǎn)在即

公司報(bào)告實(shí)際控制人推薦(首次)元主要數(shù)據(jù)行公司報(bào)告實(shí)際控制人推薦(首次)元主要數(shù)據(jù)行業(yè)電子化學(xué)品公司網(wǎng)址www.siny大股東/持股王福祥/14.37%王福祥1999年，以半導(dǎo)體用電子化學(xué)品和配套設(shè)備起家，發(fā)展前十年自研第一代電子電鍍和清電鍍和清洗技術(shù)，填補(bǔ)我國(guó)芯片制造銅互連工藝材料的空白，是目前國(guó)內(nèi)唯一能滿足芯片90-14納米銅制程全技術(shù)節(jié)點(diǎn)對(duì)電鍍清洗產(chǎn)品要求的企料成為公司主要業(yè)務(wù)之一?？偣杀?百萬(wàn)股)313流通A股(百萬(wàn)股)278流通B/H股(百萬(wàn)股)-總市值(億元)流通A股市值(億元)每股凈資產(chǎn)(元)14.33資產(chǎn)負(fù)債率(%)23.421聚焦半導(dǎo)體電子化學(xué)品，新建產(chǎn)能待釋放。公司正在推動(dòng)子公司江蘇考普樂(lè)(經(jīng)營(yíng)涂料業(yè)務(wù))新三板獨(dú)立掛牌，本部將集中資源布局半導(dǎo)體材料。年在產(chǎn)的上海本部基地電子化學(xué)品產(chǎn)能達(dá)1.9萬(wàn)噸/年；合肥第二生產(chǎn)基地一期1.7萬(wàn)噸/年(含500噸光刻膠)預(yù)計(jì)于23Q4投產(chǎn)，總投資3.35億24H2投產(chǎn)；上?；瘜W(xué)工業(yè)區(qū)擬建設(shè)3萬(wàn)噸/體材料?；?00噸，上?；瘜W(xué)工業(yè)園500噸，同時(shí)規(guī)劃有10000噸光刻膠稀釋KrF厚膜光rF銷售，目前正處于客戶認(rèn)證階段，預(yù)計(jì)2023年開(kāi)始穩(wěn)定量產(chǎn)；ArF浸沒(méi)行情走勢(shì)圖40%30%20%10% 上海新陽(yáng)滬深30022-0922-1223-0323-0623-09證券分析師陳驍研究助理投資咨詢資格編號(hào)S1060516070001chenxiao397@公司首次覆蓋報(bào)告證券研究報(bào)告陳瀟榕一般證券業(yè)務(wù)資格編號(hào)S1060122080021chenxiaorong186@馬書(shū)蕾一般證券業(yè)務(wù)資格編號(hào)S1060122070024Mashulei362@2021A20222022A20232023E22024E20252025E營(yíng)業(yè)收入(百萬(wàn)元)2486YOY(%)46.55.5歸母凈利潤(rùn)(百萬(wàn)元)205288YOY(%)-62.0-48.9-48.9840.8毛利率(%)..0凈利率(%)53370592.387.6請(qǐng)通過(guò)合法途徑獲取本公司研究報(bào)告，，請(qǐng)慎重使用并注意閱讀研究報(bào)告尾頁(yè)的聲明內(nèi)容。2/37WSTS新預(yù)測(cè)數(shù)據(jù)顯示，2023年全球半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模將下國(guó)內(nèi)轉(zhuǎn)移，國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體材料市場(chǎng)空間廣闊。未來(lái)隨著終端半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)基本面漸修復(fù)、國(guó)產(chǎn)大尺寸晶圓產(chǎn)能不斷擴(kuò)張、先進(jìn)封品、光刻膠、電鍍封裝材料等的需求量也將不斷增加。可能造成部若基礎(chǔ)化工原料受極端氣候、海外地緣政治等因素影響，廠家開(kāi)工受阻，供需基本面和庫(kù)存結(jié)構(gòu)出現(xiàn)較大變動(dòng)，則原料價(jià)格抬升。請(qǐng)通過(guò)合法途徑獲取本公司研究報(bào)告，，請(qǐng)慎重使用并注意閱讀研究報(bào)告尾頁(yè)的聲明內(nèi)容。3/37正文目錄一、公司簡(jiǎn)介：電鍍清洗技術(shù)奠基，深耕半導(dǎo)體用電子化學(xué)品 6端產(chǎn)品拓展 61.2產(chǎn)品介紹：電子化學(xué)品起家，收購(gòu)?fù)卣狗纪苛?6管經(jīng)驗(yàn)豐富 7二、業(yè)務(wù)布局：聚焦高端電材，兌現(xiàn)投資項(xiàng)目 92.1電子化學(xué)品：產(chǎn)能規(guī)模再擴(kuò)，產(chǎn)品橫向延伸 112.2光刻膠：KrF實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，客戶訂單陸續(xù)落地 162.3涂料品：氟碳涂料轉(zhuǎn)型升級(jí)，專營(yíng)子公司擬分拆上市 182.4投資項(xiàng)目：產(chǎn)業(yè)投資基金套現(xiàn)，補(bǔ)充現(xiàn)金流 20三、行業(yè)前景：終端基本面有望修復(fù)，國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體材料空間廣闊 213.1濕電子化學(xué)品：國(guó)內(nèi)結(jié)構(gòu)性短缺，高端產(chǎn)能有望提升 233.2光刻膠：日美企業(yè)壟斷市場(chǎng)，國(guó)內(nèi)企業(yè)積極布局中 283.3電鍍封裝材料：產(chǎn)業(yè)技術(shù)升級(jí)，打開(kāi)先進(jìn)封裝市場(chǎng)空間 32四、盈利預(yù)測(cè)與投資評(píng)級(jí) 344.1盈利預(yù)測(cè) 344.2估值分析 35五、風(fēng)險(xiǎn)提示 35請(qǐng)通過(guò)合法途徑獲取本公司研究報(bào)告，，請(qǐng)慎重使用并注意閱讀研究報(bào)告尾頁(yè)的聲明內(nèi)容。4/37圖表目錄圖表1公司發(fā)展歷程 6圖表2公司主要產(chǎn)品 7圖表3公司股權(quán)結(jié)構(gòu)(截至2023.6.30) 8圖表4公司主要管理人員情況 8圖表5公司旗下子公司經(jīng)營(yíng)業(yè)務(wù)情況 9圖表6公司營(yíng)收規(guī)模和同比增速 10圖表7公司以涂料品和電子化學(xué)品兩大業(yè)務(wù)為主 10圖表8公司電子化學(xué)品和涂料產(chǎn)量 10圖表9公司電子化學(xué)品業(yè)務(wù)毛利率相對(duì)堅(jiān)挺 10圖表10公司各行業(yè)營(yíng)收占比情況 10圖表11公司在半導(dǎo)體業(yè)務(wù)板塊的毛利占比逐年提升 10圖表12公司加大研發(fā)投入 11圖表13公司期間費(fèi)用率有所抬升 11圖表14公司歸母凈利潤(rùn)和扣非后歸母凈利潤(rùn)(億元) 11圖表15公司銷售凈利率和扣非后歸母凈利率 11圖表16公司三大生產(chǎn)基地產(chǎn)能情況(噸/年) 12圖表17合肥第二生產(chǎn)基地一期年產(chǎn)能1.7萬(wàn)噸項(xiàng)目情況 12圖表18上?；瘜W(xué)工業(yè)區(qū)-集成電路關(guān)鍵工藝材料項(xiàng)目情況 12圖表19公司濕電子化學(xué)品研發(fā)技術(shù)和生產(chǎn)情況 13圖表20公司銅互連電鍍液和光刻膠剝離清洗液等產(chǎn)品的應(yīng)用過(guò)程 14圖表21可比濕電子化學(xué)品公司產(chǎn)品情況及相關(guān)業(yè)務(wù)規(guī)模 14圖表222022年國(guó)內(nèi)通用型和功能型濕電子化學(xué)品代表性企業(yè)相關(guān)產(chǎn)品毛利率 15圖表23同業(yè)公司高純電子化學(xué)品業(yè)務(wù)毛利率對(duì)比 16圖表24同業(yè)公司研發(fā)費(fèi)用率對(duì)比 16圖表25公司光刻膠產(chǎn)品產(chǎn)能規(guī)劃 16圖表26公司光刻膠產(chǎn)品研究開(kāi)發(fā)情況(2020年定增說(shuō)明書(shū)募資說(shuō)明書(shū)披露規(guī)劃的進(jìn)展結(jié)合實(shí)際情況) 17圖表27ASML單臺(tái)EUV和ArFi光刻機(jī)價(jià)格 17圖表28ASML單臺(tái)ArFdry、KrF、I線光刻機(jī)價(jià)格 17圖表29國(guó)內(nèi)代表性高性能光刻膠生產(chǎn)企業(yè)的光刻機(jī)設(shè)備購(gòu)置情況 18圖表30公司涂料產(chǎn)銷量及同比增速 18圖表31公司涂料品業(yè)務(wù)營(yíng)收及毛利率 18圖表322012-2022年我國(guó)涂料行業(yè)產(chǎn)量 19圖表332014-2022年我國(guó)涂料行業(yè)營(yíng)業(yè)總收入 19圖表34我國(guó)推動(dòng)綠色環(huán)保涂料發(fā)展的相關(guān)政策 19圖表35公司投資的上海新異公司股權(quán)變動(dòng)和項(xiàng)目進(jìn)展情況 20圖表36公司戰(zhàn)略投資中芯國(guó)際 21請(qǐng)通過(guò)合法途徑獲取本公司研究報(bào)告，，請(qǐng)慎重使用并注意閱讀研究報(bào)告尾頁(yè)的聲明內(nèi)容。5/37圖表37公司投資收益和公允價(jià)值變動(dòng)收益(億元) 21圖表38公司投資活動(dòng)現(xiàn)金流入(億元) 21圖表39晶圓制造和封裝測(cè)試細(xì)分材料市場(chǎng)規(guī)模占比 22圖表40全球半導(dǎo)體材料和晶圓制造材料市場(chǎng)規(guī)模 22圖表41中國(guó)大陸半導(dǎo)體材料市場(chǎng)規(guī)模 22圖表42全球主要半導(dǎo)體企業(yè)23Q2指引 23圖表43WSTS全球半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模預(yù)測(cè)(2023.6) 23圖表44我國(guó)IC國(guó)產(chǎn)替代空間廣闊 23圖表45我國(guó)晶圓產(chǎn)能占比有望逐步提升 23圖表46濕電子化學(xué)品分類 24圖表472020-2025E中國(guó)濕電子化學(xué)品需求量(萬(wàn)噸) 25圖表482020-2025E中國(guó)濕電子化學(xué)品市場(chǎng)規(guī)模 25圖表49全球顯示面板產(chǎn)能逐年向我國(guó)轉(zhuǎn)移趨勢(shì) 25圖表50智能手機(jī)面板中AMOLED滲透率持續(xù)提升 25圖表5112英寸晶圓對(duì)濕電子化學(xué)品需求量大幅提升 26圖表52全球12英寸半導(dǎo)體晶圓廠逐年增加 26圖表532021年全球濕電子化學(xué)品市場(chǎng)份額 26圖表54我國(guó)濕電子化學(xué)品各應(yīng)用領(lǐng)域國(guó)產(chǎn)化率 26圖表55我國(guó)濕電子化學(xué)品發(fā)展政策 27圖表56國(guó)內(nèi)濕電子化學(xué)品代表性企業(yè)研發(fā)費(fèi)用率(%) 27圖表572022-2025年各企業(yè)濕電子化學(xué)品新增產(chǎn)能規(guī)劃 27圖表58各類型光刻膠 28圖表59全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模 29圖表60我國(guó)光刻膠市場(chǎng)規(guī)模 29圖表61全球光刻膠下游需求結(jié)構(gòu) 30圖表622021年我國(guó)生產(chǎn)的光刻膠應(yīng)用結(jié)構(gòu) 30圖表632021年全球光刻膠競(jìng)爭(zhēng)格局 30圖表64各類半導(dǎo)體用光刻膠全球競(jìng)爭(zhēng)格局 30圖表65我國(guó)各類光刻膠國(guó)產(chǎn)化率 30圖表66我國(guó)本土代表性企業(yè)的光刻膠產(chǎn)品產(chǎn)能規(guī)劃 31圖表67半導(dǎo)體電鍍封裝經(jīng)歷的發(fā)展階段 32圖表68先進(jìn)封裝TSV硅通孔和Bumping凸點(diǎn)電鍍制作工藝流程 32圖表69全球高純電鍍液市場(chǎng)規(guī)模 33圖表70全球高純電鍍液下游應(yīng)用結(jié)構(gòu) 33圖表71中國(guó)半導(dǎo)體封裝材料市場(chǎng)規(guī)模 33圖表72艾森股份電鍍液及配套試劑產(chǎn)量和毛利率 33圖表73公司主營(yíng)業(yè)務(wù)盈利預(yù)測(cè)(億元) 34圖表74可比公司估值情況 35請(qǐng)通過(guò)合法途徑獲取本公司研究報(bào)告，，請(qǐng)慎重使用并注意閱讀研究報(bào)告尾頁(yè)的聲明內(nèi)容。6/37公司歷經(jīng)二十余年的發(fā)展，主要形成了集成電路用電子化學(xué)品和功能性涂料兩大類業(yè)務(wù)板塊。電子化學(xué)品方面，現(xiàn)已擁有平，電子光刻及電子研磨蘇考普樂(lè)于新三板獨(dú)立掛牌，未來(lái)母公司將集中資源布局半導(dǎo)體材料業(yè)務(wù)。市。成立的前十年，公司研發(fā)出半導(dǎo)體用第一代電子電鍍和清洗技術(shù)，同時(shí)半導(dǎo)體封裝引線腳工藝實(shí)現(xiàn)根本性技術(shù)變革。涂料和牌，本部將集中資源發(fā)展半導(dǎo)體業(yè)務(wù)。后銅互連工藝填補(bǔ)了國(guó)產(chǎn)材料的空白。圖表1公司發(fā)展歷程技添加F液等產(chǎn)品，相關(guān)項(xiàng)目正在積極建設(shè)中。請(qǐng)通過(guò)合法途徑獲取本公司研究報(bào)告，，請(qǐng)慎重使用并注意閱讀研究報(bào)告尾頁(yè)的聲明內(nèi)容。7/37氟碳涂料、超細(xì)耐候粉末涂料、聚酯輥涂及其背漆、水性涂料、重防腐涂料等高端環(huán)保涂料品，同時(shí)公司積極向下游產(chǎn)業(yè)延伸，投建氟碳鋁材項(xiàng)目等。圖表2公司主要產(chǎn)品系列產(chǎn)品名稱具體產(chǎn)品名稱產(chǎn)品主要作用去毛刺溶液等后清洗液等晶片表面，去除殘留化學(xué)物質(zhì)和雜質(zhì)等列等粗糙化的發(fā)反射膜等配套材料，由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑組成。感光固化反應(yīng)，溶解性、親合性屬鎢研磨液、金屬銅研磨研磨液，多晶硅層研磨液等系列產(chǎn)nm上技術(shù)節(jié)點(diǎn)等的研磨拋光，起到軟化膜、潤(rùn)滑、洗滌等作用套電鍍、清洗設(shè)制程用電鍍、清洗設(shè)備PVDF好的最佳建材列料是新型環(huán)保產(chǎn)品，可用于鋼其背漆、水性涂料等橋梁等領(lǐng)域37%股份，通過(guò)新陽(yáng)投資貿(mào)易公司間接持股2.21%；妻子孫江燕女士主要通過(guò)持股上海新科投資有限公司和新陽(yáng)投資貿(mào)易公司，間接持有公司近5%股份；王溯先生主要通過(guò)控股上海新暉資產(chǎn)管理公司，間接持股公司約9%股份。請(qǐng)通過(guò)合法途徑獲取本公司研究報(bào)告，，請(qǐng)慎重使用并注意閱讀研究報(bào)告尾頁(yè)的聲明內(nèi)容。8/37圖表3公司股權(quán)結(jié)構(gòu)(截至20236.30)具備技術(shù)研發(fā)、產(chǎn)品開(kāi)發(fā)等重要能力。創(chuàng)始人王福祥、理的方書(shū)農(nóng)博士親任該項(xiàng)目總負(fù)責(zé)人，高級(jí)總工程師王溯博士任技術(shù)負(fù)責(zé)人，兩大負(fù)責(zé)人均為相關(guān)專業(yè)博士出身，此前負(fù)責(zé)過(guò)多個(gè)項(xiàng)目研發(fā)，確保公司能自主掌握多項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)自研。圖表4公司主要管理人員情況履歷履歷化學(xué)研發(fā)生產(chǎn)半導(dǎo)體封裝引線腳表面處理用去毛刺溶液、錫電鍍。名稱職位。本科學(xué)歷，財(cái)務(wù)管理專業(yè)。曾任中化國(guó)際(控股)股份有限公司項(xiàng)目經(jīng)理、實(shí)業(yè)運(yùn)營(yíng)副書(shū)。請(qǐng)通過(guò)合法途徑獲取本公司研究報(bào)告，，請(qǐng)慎重使用并注意閱讀研究報(bào)告尾頁(yè)的聲明內(nèi)容。9/37部公司以集成電路用電子化學(xué)品和涂料品兩大業(yè)務(wù)為核心，通過(guò)成立多家子公司經(jīng)營(yíng)相關(guān)業(yè)務(wù)，各公司按產(chǎn)品線分工明確、旗下全資子公司上海芯刻微、新陽(yáng)廣東、上海暉研、合肥新陽(yáng)聚焦?jié)耠娮踊瘜W(xué)品、光刻膠產(chǎn)品的研發(fā)生產(chǎn)銷售，上海特劃以生產(chǎn)晶圓表面封裝材料-劃片刀為主，控股子公司江蘇考普樂(lè)持續(xù)經(jīng)營(yíng)氟碳涂料品。圖表5公司旗下子公司經(jīng)營(yíng)業(yè)務(wù)情況業(yè)務(wù)重心再聚焦，電子化學(xué)品增勢(shì)強(qiáng)勁。根據(jù)2022年年報(bào)披露，公司目前正在推動(dòng)子公司江蘇考普樂(lè)(經(jīng)營(yíng)涂料業(yè)務(wù)板塊)新三板獨(dú)立掛牌，未來(lái)母公司將集中資源布局半導(dǎo)體材料產(chǎn)能，加強(qiáng)公司在集成電路高端用材領(lǐng)域的優(yōu)勢(shì)地位。2022年上半年公司電子化學(xué)品營(yíng)收占比進(jìn)一步抬升至55%。公司于2021年完成上海廠區(qū)增加1.3萬(wàn)噸/年電子化學(xué)品產(chǎn)能目標(biāo)，相關(guān)產(chǎn)品產(chǎn)量同比增加超50%，下游半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)高速H一已在設(shè)備安裝調(diào)試階段，公司電子化學(xué)品業(yè)務(wù)規(guī)模保持強(qiáng)勁增勢(shì)，22年受到電鍍清洗液等生產(chǎn)原料價(jià)格大幅上漲影響，產(chǎn)品毛利率有所下降，23H1已回升至42.6%；涂料品下游消費(fèi)較疲軟、產(chǎn)量下調(diào)、庫(kù)存增加，該業(yè)務(wù)營(yíng)收增速有所放緩，受原材料采購(gòu)價(jià)格上漲影響，氟碳涂料產(chǎn)品毛利率小幅下滑。請(qǐng)通過(guò)合法途徑獲取本公司研究報(bào)告，，請(qǐng)慎重使用并注意閱讀研究報(bào)告尾頁(yè)的聲明內(nèi)容。10/37201220132014201520162017201820202021202223H1 7%201220132014201520162017201820202021202223H1 7%59%35%34%36%38%35%32%39%41%48%55%圖表7公司以涂料品和電子化學(xué)品兩大業(yè)務(wù)為主90%70%50%30%10%內(nèi)部抵銷其他設(shè)備產(chǎn)品氟碳涂料電子化學(xué)品nd圖表9公司電子化學(xué)品業(yè)務(wù)毛利率相對(duì)堅(jiān)挺 料品60%50%40%30%20%%2015201620172018201920202021202223H139%42%48%46%43%47%49%54%圖表10公司各行業(yè)營(yíng)收占比情況90%80%70%60%50%40%30%20%10%%涂料行業(yè)及工程服務(wù)半導(dǎo)體行業(yè)20152016201720182019202020212022圖表6公司營(yíng)收規(guī)模和同比增速20122013201420152016201720182019202020212022232012201320142015201620172018201920202021202223H18642090%80%70%60%50%40%30%20%86420圖表8公司電子化學(xué)品和涂料產(chǎn)量量(左軸,噸)涂料YOY(右軸)量(左軸,噸)涂料YOY(右軸)電子化學(xué)品YOY(右軸)00000040002000060%50%40%30%20%100000040002000020152016201720182019202020212022分行業(yè)來(lái)看，公司生產(chǎn)的電鍍液、清洗液、蝕刻液等電子化學(xué)品主要用于半導(dǎo)體領(lǐng)域存儲(chǔ)器芯片生產(chǎn)制造，與下游客戶滬硅產(chǎn)業(yè)、中芯國(guó)際、新陽(yáng)硅密、博硯電子、長(zhǎng)江存儲(chǔ)等已建立長(zhǎng)期深度合作。2022年，公司來(lái)自于半導(dǎo)體行業(yè)的營(yíng)收占比達(dá)54%，該領(lǐng)域毛利占比也呈逐年上升趨勢(shì)，2022年占比達(dá)65%，預(yù)期未來(lái)隨著公司新建集成電路制備工藝用濕電子化學(xué)品、光刻膠等產(chǎn)能釋放，該領(lǐng)域營(yíng)收和毛利占比有望進(jìn)一步提升。圖表11公司在半導(dǎo)體業(yè)務(wù)板塊的毛利占比逐年提升90%80%70%90%80%70%60%50%40%30%20%10%%556%55%53%59%63%65%38% 46%20152016201720182019202020212022請(qǐng)通過(guò)合法途徑獲取本公司研究報(bào)告，，請(qǐng)慎重使用并注意閱讀研究報(bào)告尾頁(yè)的聲明內(nèi)容。11/372012201320142015201620172018201920202021202223H1圖表13公司期間費(fèi)用率有所抬升銷售費(fèi)用率管理費(fèi)用率財(cái)務(wù)費(fèi)用率12%10%8%%4%2%%-2%201820192020202120222023H1圖表15公司銷售凈利率和扣非后歸母凈利率銷售凈利率扣非歸母凈利率0%40%30%20%10% 2012201320142015201620172018201920202021202223H1圖表13公司期間費(fèi)用率有所抬升銷售費(fèi)用率管理費(fèi)用率財(cái)務(wù)費(fèi)用率12%10%8%%4%2%%-2%201820192020202120222023H1圖表15公司銷售凈利率和扣非后歸母凈利率銷售凈利率扣非歸母凈利率0%40%30%20%10% 27%21%9%9%11%12%%%-8%圖表12公司加大研發(fā)投入.5.0費(fèi)用(左軸,億元)研發(fā)費(fèi)用率(右軸)投入光刻膠及國(guó)家重大 201820192020202120222023H125%20%%%2022年公司實(shí)現(xiàn)歸母凈利潤(rùn)0.532億元，同比下降43.17%，公司有較大的產(chǎn)業(yè)基金項(xiàng)目和對(duì)合資企業(yè)的投資，投資收益和公允價(jià)值變動(dòng)收益對(duì)公司凈利潤(rùn)的影響較大，剔除該部分損益后的扣非歸母凈利潤(rùn)為1.116億元，同比增加17.27%，扣扣非后歸母凈利潤(rùn)0.530億元，yoy+0.91%，扣非后歸母凈利率約為9.60%。圖表14公司歸母凈利潤(rùn)和扣非后歸母凈利潤(rùn)(億元).5.02015201620172018201920202021202223H12015201620172018201920202021202223H111.120.950.410.48010.536747(0.53)2.1電子化學(xué)品：產(chǎn)能規(guī)模再擴(kuò)，產(chǎn)品橫向延伸上海本部基地電子化學(xué)品總產(chǎn)能為1.9萬(wàn)噸/年；合肥第二生產(chǎn)基地一期1.7萬(wàn)噸/年產(chǎn)能預(yù)計(jì)將于23Q4正式投產(chǎn)，總投資3.35億元，項(xiàng)目二期5.3萬(wàn)噸/年產(chǎn)能同步建設(shè)一年，預(yù)計(jì)24H2投產(chǎn)；上?；瘜W(xué)工業(yè)區(qū)擬建設(shè)3萬(wàn)噸/年電子化學(xué)品、500請(qǐng)通過(guò)合法途徑獲取本公司研究報(bào)告，，請(qǐng)慎重使用并注意閱讀研究報(bào)告尾頁(yè)的聲明內(nèi)容。12/3756005600噸/年光刻膠，預(yù)計(jì)2025年底前竣工，2026年6月底前投產(chǎn)。大規(guī)模高性能濕電子化學(xué)品項(xiàng)目的新建，一方面豐富公司產(chǎn)56005600圖表16公司三大生產(chǎn)基地產(chǎn)能情況(噸/年)上?；瘜W(xué)工業(yè)區(qū)合肥基地地3000080000啟動(dòng)，建設(shè)期60000劃清洗液/刻液/光刻膠70000700007000040000200001870019000190001900006002018 2025E2026E20192020202120222023E2024E圖表17合肥第二生產(chǎn)基地一期年產(chǎn)能1.7萬(wàn)噸項(xiàng)目情況產(chǎn)品規(guī)劃新增產(chǎn)能(噸/年)備注酸銅電鍍液及晶體6500芯片超純清洗液系列8500投資3.35億元(資金來(lái)源于傳統(tǒng)封裝引線腳表面處理5002021年定增募集)；建設(shè)期222年建成；目前安裝調(diào)試，預(yù)計(jì)23Q4投產(chǎn)。②項(xiàng)目二期新增7000萬(wàn)噸/年，預(yù)計(jì)24H2投產(chǎn)圖表18上?；瘜W(xué)工業(yè)區(qū)-集成電路關(guān)鍵工藝材料項(xiàng)目情況產(chǎn)品規(guī)劃新增產(chǎn)能(噸/年)備注5000000化學(xué)工業(yè)產(chǎn)品5000500030500請(qǐng)通過(guò)合法途徑獲取本公司研究報(bào)告，，請(qǐng)慎重使用并注意閱讀研究報(bào)告尾頁(yè)的聲明內(nèi)容。13/37用電子化學(xué)品。核心產(chǎn)品電鍍液、清洗液方面，公司是國(guó)內(nèi)唯一一家14nm以上技術(shù)節(jié)點(diǎn)全覆蓋的集成電路晶圓制造和先進(jìn)封裝用銅互連電鍍液(及配套添加劑)和清洗液的本土供應(yīng)商，研發(fā)出的第二代電子電鍍與晶圓清洗技術(shù)已達(dá)國(guó)內(nèi)領(lǐng)先水平，相較于第一代傳統(tǒng)封裝領(lǐng)域的無(wú)鉛純錫電鍍液及添加劑、去毛刺溶液等，第二代革新了大馬士革銅互連、硅通孔(TSV)、凸塊連接 (Bumping)等先進(jìn)封裝技術(shù)下的電鍍清洗液及配套添加劑。公司超純硫酸銅電鍍液已成功進(jìn)入中芯國(guó)際、海力士的28nm大馬士革工藝制程，成為Baseline產(chǎn)品，進(jìn)入工業(yè)化量產(chǎn)階段。其余有部分產(chǎn)品已完成中試、正在客戶驗(yàn)證中；開(kāi)發(fā)的多款研磨液(CMP)中，已有成熟的淺槽隔離研磨液(STISlurry)、產(chǎn)品可覆蓋14nm及以上技術(shù)節(jié)點(diǎn)。圖表19公司濕電子化學(xué)品研發(fā)技術(shù)和生產(chǎn)情況相關(guān)技術(shù)產(chǎn)品生產(chǎn)情況片制造領(lǐng)域的第二代電子清nmnm一nm企業(yè)。片制造領(lǐng)域的第二代電子電國(guó)內(nèi)領(lǐng)先水平銅電鍍液添加劑產(chǎn)品已量產(chǎn)銷售。成為目前國(guó)內(nèi)唯一14nm鍍液本土企業(yè)。試技術(shù)儲(chǔ)備已完達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平ISlurryPolyslurryWslurry化學(xué)機(jī)械研磨液。請(qǐng)通過(guò)合法途徑獲取本公司研究報(bào)告，，請(qǐng)慎重使用并注意閱讀研究報(bào)告尾頁(yè)的聲明內(nèi)容。14/37圖表20公司銅互連電鍍液和光刻膠剝離清洗液等產(chǎn)品的應(yīng)用過(guò)程2.1.3同業(yè)對(duì)比：產(chǎn)品毛利率高于平均，高度重視自主研發(fā)江化微、中巨芯、晶瑞電材、興發(fā)集團(tuán)、興福電子等頭部濕電子化學(xué)品企業(yè)主要經(jīng)營(yíng)通用型產(chǎn)品-高純硫酸、氨水、鹽酸、氫氟酸、硝酸、雙氧水、磷酸等，通用型濕電子化學(xué)品用量規(guī)模更大但競(jìng)爭(zhēng)也相對(duì)激烈，目前國(guó)內(nèi)較多企業(yè)已可量產(chǎn)半導(dǎo)體級(jí)的高純度、小顆粒度G3-G5等級(jí)濕電子化學(xué)品，整體供應(yīng)相對(duì)充足，國(guó)產(chǎn)替代較為成功；上海新陽(yáng)、安集科技、艾森股份等的產(chǎn)品聚焦于半導(dǎo)體用功能性濕電子化學(xué)品-清洗液、蝕刻液、拋光液、光刻膠剝離液等一般建立在通用型高純電子化學(xué)品的基礎(chǔ)上，需通過(guò)各類復(fù)配工藝達(dá)到如清洗、蝕刻、顯影等不同效果(配方是其核心要素)，因此具備更高的生產(chǎn)難度和技術(shù)壁壘，當(dāng)前國(guó)內(nèi)可nm化學(xué)品基本依賴于圖表21可比濕電子化學(xué)品公司產(chǎn)品情況及相關(guān)業(yè)務(wù)規(guī)模半半導(dǎo)體類產(chǎn)品核心客戶主營(yíng)通用型濕電子化學(xué)品的企業(yè)實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)替代產(chǎn)品或技術(shù)2022年相關(guān)業(yè)務(wù)營(yíng)收占比2022年相關(guān)業(yè)務(wù)毛利率代表性高端電子級(jí)產(chǎn)品企業(yè)名稱高純微雙氧水、硝酸、二氧化低張28.52%；光刻劑26.57%芯硝酸達(dá)G5等級(jí)硝酸團(tuán)等通用型濕電子化學(xué)品19.03%氟酸等華等營(yíng)液、鋁劑14.48%請(qǐng)通過(guò)合法途徑獲取本公司研究報(bào)告，，請(qǐng)慎重使用并注意閱讀研究報(bào)告尾頁(yè)的聲明內(nèi)容。15/37功能型營(yíng)收功能型營(yíng)收1.72億元，占比21.6%化學(xué)品40.90%爾標(biāo)準(zhǔn)的夫等比64.6%;超純異丙44.66%；超純23.42%主營(yíng)主營(yíng)功能型濕電子化學(xué)品的企業(yè)上海后清洗液等(公司是國(guó)新陽(yáng)內(nèi)領(lǐng)先的電子電鍍和刻蝕后清洗液生產(chǎn)企業(yè)) (高純硫酸銅、電鍍錫銀添加劑等)試劑43.6%;光TMAH達(dá)已達(dá)G5等級(jí)液營(yíng)收膠剝離圖表222022年國(guó)內(nèi)通用型和功能型濕電子化學(xué)品代表性企業(yè)相關(guān)產(chǎn)品毛利率超凈高純?cè)噭┕饪棠z配套試劑電子級(jí)氫氟酸電子級(jí)硝酸電子級(jí)硫酸通用型濕電子化學(xué)品超凈高純?cè)噭┏儼彼儺惐纪ㄓ眯蜐耠娮踊瘜W(xué)品電子級(jí)磷酸電子級(jí)硫酸功能型濕電子化學(xué)品蝕刻液清洗劑再生劑顯影液電鍍清洗液等電鍍液及配套試劑電鍍液顯影液光刻膠附著力促進(jìn)劑蝕刻液功能型濕電子化學(xué)品銅及銅阻擋層系列氧化物/硅/鎢等系列通用型濕電子化學(xué)品超凈高純?cè)噭┕饪棠z配套試劑電子級(jí)氫氟酸電子級(jí)硝酸電子級(jí)硫酸通用型濕電子化學(xué)品超凈高純?cè)噭┏儼彼儺惐纪ㄓ眯蜐耠娮踊瘜W(xué)品電子級(jí)磷酸電子級(jí)硫酸功能型濕電子化學(xué)品蝕刻液清洗劑再生劑顯影液電鍍清洗液等電鍍液及配套試劑電鍍液顯影液光刻膠附著力促進(jìn)劑蝕刻液功能型濕電子化學(xué)品銅及銅阻擋層系列氧化物/硅/鎢等系列通用型濕電子化學(xué)品子化學(xué)品電子化學(xué)品7%90%80%70%60%50%40%30%20%10% 子化學(xué)品電子化學(xué)品7%90%80%70%60%50%40%30%20%10% 66%60%9%2%49%47%45%44%1%44%38%41%42%24%23%3%5%5%-9%光刻膠及配套試劑23.7%爾請(qǐng)通過(guò)合法途徑獲取本公司研究報(bào)告，，請(qǐng)慎重使用并注意閱讀研究報(bào)告尾頁(yè)的聲明內(nèi)容。16/372018201920202021202223Q120122013201420152016201720182019202020212022 2018201920202021202223Q120122013201420152016201720182019202020212022 圖表23同業(yè)公司高純電子化學(xué)品業(yè)務(wù)毛利率對(duì)比60%50%40%30%20%10%% 達(dá)研發(fā)能力方面，公司投入大額資金對(duì)光刻膠、高性能電鍍清洗液、研磨液、蝕刻液等半導(dǎo)體用電子化學(xué)品進(jìn)行相關(guān)技術(shù)升大基地進(jìn)行產(chǎn)能擴(kuò)張，特別是在2021年進(jìn)行合肥基地的項(xiàng)目布局，研發(fā)費(fèi)用率明顯提升，大幅高于行圖表圖表24同業(yè)公司研發(fā)費(fèi)用率對(duì)比25%20%15%10% %% 集科技 集科技 達(dá)F2.2.1規(guī)?；?xiàng)目在建，產(chǎn)能有望逐步提升法、浸沒(méi)式光刻膠以及稀釋劑、底部抗反射膜(BARC)等配套材料，主要用于邏輯、模擬和存儲(chǔ)芯片生產(chǎn)制造。ArF沒(méi)式光刻膠的研發(fā)進(jìn)展順利，ASML-1900光刻機(jī)安裝調(diào)試基本結(jié)束，公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室樣品目前取得的數(shù)據(jù)指標(biāo)和對(duì)標(biāo)產(chǎn)品大部分接近。圖表25公司光刻膠產(chǎn)品產(chǎn)能規(guī)劃基地涉及項(xiàng)目名稱規(guī)劃光刻膠產(chǎn)能投資額(萬(wàn)元)預(yù)計(jì)投產(chǎn)時(shí)間刻業(yè)化項(xiàng)目NAND刻蝕的KrF厚膜光刻膠(500噸/年)及配套試劑高分辨率光刻膠系列500噸/年Q4投產(chǎn)年產(chǎn)500噸2023年取得施工許可證,2025年底前竣6月底前投產(chǎn)合計(jì)合計(jì)三大基地總規(guī)劃產(chǎn)能1513噸/年，現(xiàn)投產(chǎn)約100噸/年(上海本部基地)2.2.2KrF厚膜和ArF干法核心光刻膠產(chǎn)品持續(xù)推進(jìn)請(qǐng)通過(guò)合法途徑獲取本公司研究報(bào)告，，請(qǐng)慎重使用并注意閱讀研究報(bào)告尾頁(yè)的聲明內(nèi)容。17/37圖表27ASML單臺(tái)EUV和ArFi光刻機(jī)價(jià)格2000400020182019202020212022 FiKrFArFKrF厚膜光刻膠于2018年9月立項(xiàng)研發(fā)，2020年圖表27ASML單臺(tái)EUV和ArFi光刻機(jī)價(jià)格2000400020182019202020212022 Fi圖表圖表26公司光刻膠產(chǎn)品研究開(kāi)發(fā)情況(2020年定增說(shuō)明書(shū)募資說(shuō)明書(shū)披露規(guī)劃的進(jìn)展結(jié)合實(shí)際情況)2.2.3關(guān)鍵設(shè)備難購(gòu)置，公司現(xiàn)有4臺(tái)光刻機(jī)EUV光刻機(jī)，限制核心半導(dǎo)體設(shè)備材料向中國(guó)市場(chǎng)供應(yīng)，導(dǎo)致我國(guó)購(gòu)置先進(jìn)光刻機(jī)難度升級(jí)。圖表28ASML單臺(tái)ArFdry、KrF、I線光刻機(jī)價(jià)格ILine(右軸,百萬(wàn)歐元)4208ILine(右軸,百萬(wàn)歐元)420820182019202020212022請(qǐng)通過(guò)合法途徑獲取本公司研究報(bào)告，，請(qǐng)慎重使用并注意閱讀研究報(bào)告尾頁(yè)的聲明內(nèi)容。18/372013201420152016201720182019202020212022涂料產(chǎn)量(左軸,噸)圖表30公司涂料產(chǎn)銷量及同比增速000000400020000量(左軸,噸)產(chǎn)量YOY(右軸)250%200%150%100%50%0%在關(guān)鍵設(shè)備布局上2013201420152016201720182019202020212022涂料產(chǎn)量(左軸,噸)圖表30公司涂料產(chǎn)銷量及同比增速000000400020000量(左軸,噸)產(chǎn)量YOY(右軸)250%200%150%100%50%0%圖表29國(guó)內(nèi)代表性高性能光刻膠生產(chǎn)企業(yè)的光刻機(jī)設(shè)備購(gòu)置情況公司名稱購(gòu)置的光刻機(jī)設(shè)備用于生產(chǎn)產(chǎn)品設(shè)備價(jià)格購(gòu)買時(shí)間XTGiArF濕法光刻膠(28nm)ArF干法光刻膠(193nm)KrF光刻膠2021.32021.3ASML1900Gi型ASMLKrFKrF濕法光刻膠折約7607萬(wàn)元20202020H2NIKONNIKON-KrFS207KrF干法光刻膠--2021H2ASMLPAS5500/850掃描式曝光機(jī)konIASMLASML浸沒(méi)式光刻機(jī)1438014380萬(wàn)元20202020H1子公司擬分拆上市同時(shí)，在國(guó)家大力推進(jìn)環(huán)保政策的環(huán)境下，公司加快涂料產(chǎn)品結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)型升級(jí)，一方面研發(fā)生產(chǎn)節(jié)能環(huán)保的高端防腐氟碳涂圖表31公司涂料品業(yè)務(wù)營(yíng)收及毛利率65432102013201420152016201720182019202020212022涂料品營(yíng)收(左軸,億元)毛利率(右軸20132014201520162017201820192020202120220%40%0%20%%據(jù)中國(guó)涂料工業(yè)協(xié)會(huì)統(tǒng)計(jì)，十二五末(2015年)至十三五末(2020年)，我國(guó)涂料產(chǎn)量年均增長(zhǎng)率為7.44%，高于GDP請(qǐng)通過(guò)合法途徑獲取本公司研究報(bào)告，，請(qǐng)慎重使用并注意閱讀研究報(bào)告尾頁(yè)的聲明內(nèi)容。19/3720122013201420152016201720182019202020212022圖表322012-2022年我國(guó)涂料行業(yè)產(chǎn)量,0002,5002,00020122013201420152016201720182019202020212022圖表322012-2022年我國(guó)涂料行業(yè)產(chǎn)量,0002,5002,00000涂料產(chǎn)量(左軸,萬(wàn)噸)YOY(右軸)30%25%20%15%10%5%0%筑的幕墻、公共場(chǎng)館和鋁制門(mén)窗等，未來(lái)隨著我國(guó)城鎮(zhèn)化推進(jìn)，老舊小區(qū)改造等或?qū)⒊蔀橹匦头栏苛闲枨笮略鲩L(zhǎng)點(diǎn)，同圖表332014-2022年我國(guó)涂料行業(yè)營(yíng)業(yè)總收入涂料產(chǎn)業(yè)營(yíng)業(yè)收入(左軸,億元)YOY(右軸),0004,5004,000,500,0002,5002,0000020%15%10%5%0%201420152016201720182019202020212022圖表34我國(guó)推動(dòng)綠色環(huán)保涂料發(fā)展的相關(guān)政策政策名稱相關(guān)內(nèi)容《當(dāng)前優(yōu)先發(fā)展的高技術(shù)產(chǎn)業(yè)化重點(diǎn)領(lǐng)域指南(2011年度)》料，水性重防腐涂料等材料與技術(shù)2015.8《中華人民共和國(guó)大氣污染防治法》制定涂料等含揮發(fā)性有機(jī)物的產(chǎn)品質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)2017.9《“十三五”揮發(fā)性有機(jī)物污染防治工作方案》機(jī)械行業(yè)推廣使用高固體分涂料、水性涂料、粉末涂料2019.1《產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整指導(dǎo)目錄(2019年本)》鼓勵(lì)高固體分、無(wú)溶劑、輻射固化涂料，鼓勵(lì)低VOCs含量的環(huán)境友好、資源節(jié)約型涂料，鼓勵(lì)用于大飛機(jī)、高鐵等重點(diǎn)領(lǐng)域的高性能防腐涂料生產(chǎn)。2021.3《中國(guó)涂料化工行業(yè)“十四五”發(fā)展規(guī)劃》增加；加大科研技改投入，持續(xù)提升產(chǎn)品市場(chǎng)綜合競(jìng)爭(zhēng)力2022.5《支持綠色發(fā)展稅費(fèi)優(yōu)惠政策指引》對(duì)節(jié)能環(huán)保涂料免征消費(fèi)稅《深入打好重污染天氣消除、臭2022.11氧污染防治和柴油貨車污染治理攻堅(jiān)戰(zhàn)行動(dòng)方案》要開(kāi)展含VOCs原輔材料源頭替代行動(dòng)。加快實(shí)施低VOCs含量原輔材料替代。各地對(duì)溶劑型涂料、油墨、膠粘劑、清洗劑使用企業(yè)制定低VOCs含量原輔材料替代計(jì)劃2022.12《環(huán)境監(jiān)管重點(diǎn)單位名錄管理辦法》工業(yè)涂裝行業(yè)規(guī)模以上企業(yè)，全部使用符合國(guó)家規(guī)定的水性、無(wú)溶劑、輻射固化、粉末等四請(qǐng)通過(guò)合法途徑獲取本公司研究報(bào)告，，請(qǐng)慎重使用并注意閱讀研究報(bào)告尾頁(yè)的聲明內(nèi)容。20/37推動(dòng)涂料業(yè)務(wù)板塊獨(dú)立掛牌，集中資源發(fā)展半導(dǎo)體業(yè)務(wù)。當(dāng)前，公司涂料業(yè)務(wù)板塊擬在全國(guó)中小企業(yè)股份轉(zhuǎn)讓系統(tǒng)掛牌、mm5月21日，上海新陽(yáng)、興森科技、新傲科技和上海皓芯簽訂協(xié)議，共同發(fā)起設(shè)立上海新異半導(dǎo)體科技有限公司，投資大硅片項(xiàng)目(原定總投資18億元)，上海新陽(yáng)初始出資1.9億元，持股理。7.51%股權(quán)(確認(rèn)為其他權(quán)益工具投資)；2020年滬硅產(chǎn)業(yè)上市后，以2995.89萬(wàn)元現(xiàn)金購(gòu)買上海新陽(yáng)所持新異剩余的1.5%2年底，上海新陽(yáng)持股滬硅產(chǎn)業(yè)3.96%股份。圖表35公司投資的上海新異公司股權(quán)變動(dòng)和項(xiàng)目進(jìn)展情況第二大項(xiàng)目，公司通過(guò)對(duì)青島聚源芯星合伙企業(yè)進(jìn)行投資(中芯聚源發(fā)起設(shè)立的專項(xiàng)股權(quán)投資基金)，參與到中芯國(guó)際戰(zhàn)5億元成持有中芯國(guó)際總股份數(shù)的51%，剩余約3948.82萬(wàn)股流通股，上海新陽(yáng)通過(guò)處置青島聚源產(chǎn)業(yè)基金獲投資收益約2.56億請(qǐng)通過(guò)合法途徑獲取本公司研究報(bào)告，，請(qǐng)慎重使用并注意閱讀研究報(bào)告尾頁(yè)的聲明內(nèi)容。21/37新昇股權(quán)及按公允價(jià)值計(jì)量的投資產(chǎn)生的投資收益圖表37公司投資收益和公允價(jià)值變動(dòng)收益(億元).5.0新昇股權(quán)及按公允價(jià)值計(jì)量的投資產(chǎn)生的投資收益圖表37公司投資收益和公允價(jià)值變動(dòng)收益(億元).5.0投資收益公允價(jià)值變動(dòng)收益3.042.622.562021年投資收聚源產(chǎn)業(yè)基金投資所致4304201620172018201920202021202223H12020年：對(duì)聚源芯星股權(quán)投資產(chǎn)生的(0.69)公允價(jià)值變動(dòng)收益出售聚源產(chǎn)業(yè)基金和新購(gòu)入(2.35)基金收益互抵圖表36公司戰(zhàn)略投資中芯國(guó)際募集資金規(guī)模20.43億元，公司投資1億元，投資領(lǐng)域聚焦半導(dǎo)體存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)鏈上下游的優(yōu)質(zhì)股權(quán)投資項(xiàng)目。截至本公告日，公司尚未實(shí)繳出資。目前公司核心投資項(xiàng)目?jī)冬F(xiàn)情況：通過(guò)聚源芯星基金戰(zhàn)投中芯國(guó)際的項(xiàng)目已減持完畢、完成現(xiàn)金兌現(xiàn)，通過(guò)換股上海新異獲滬硅產(chǎn)業(yè)股權(quán)已完成部分減持，項(xiàng)目?jī)冬F(xiàn)部分為公司提供了較高的投資收益，未兌現(xiàn)部分在公允價(jià)值變動(dòng)收益和其他權(quán)圖表38公司投資活動(dòng)現(xiàn)金流入(億元)9876543210投98765432108.068.064.06372.510.981.150.060.46201620172018201920202021202223H1三、行業(yè)前景：終端基本面有望修復(fù)，國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體材料空間廣闊半導(dǎo)體材料主要包括晶圓制造和封裝測(cè)試材料，晶圓制造材料市場(chǎng)規(guī)模占比約62.8%，主要包括硅料、電子化學(xué)品、光掩公司研發(fā)生產(chǎn)的大馬士革銅互連/TSV/Bumping電鍍液及配套添加劑、引線腳表面處理材料等屬于封裝測(cè)試材料，清洗、蝕請(qǐng)通過(guò)合法途徑獲取本公司研究報(bào)告，，請(qǐng)慎重使用并注意閱讀研究報(bào)告尾頁(yè)的聲明內(nèi)容。22/37封裝測(cè)試材料,37.20%晶圓制造材料,62.80%引線框架,圖表40全球半導(dǎo)體材料和晶圓制造材料市場(chǎng)規(guī)模封裝測(cè)試材料,37.20%晶圓制造材料,62.80%引線框架,圖表40全球半導(dǎo)體材料和晶圓制造材料市場(chǎng)規(guī)模半導(dǎo)體材料(左軸,億美元)晶圓制造(左軸,億美元)半導(dǎo)體材料YOY(右軸)晶圓制造YOY(右軸)0000040002000201620172018201920202021202225%20%15%10%5%0%-5%圖表39晶圓制造和封裝測(cè)試細(xì)分材料市場(chǎng)規(guī)模占比其他,3%粘接材料,其他,3%粘接材料,3%濺射靶材,2.90%陶瓷基板,6%12.90%包裝材料,硅材料,包裝材料,硅材料,33%4%CMP拋光材料,7.10%鍵合絲,料,7.10%鍵合絲,光掩膜,12.90%光掩膜,12.90%工藝化學(xué)品,14%試劑,13.20%半導(dǎo)體材料市場(chǎng)規(guī)模整體呈波動(dòng)增長(zhǎng)態(tài)勢(shì)，根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)，2018-2021年全球和我國(guó)大陸半導(dǎo)體材料市場(chǎng)年復(fù)合增速分圖表41中國(guó)大陸半導(dǎo)體材料市場(chǎng)規(guī)模00000040002000半導(dǎo)體材料(左軸,億元)2017201820192020YOY(右軸)2021202225%20%%%半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)基本面有望逐漸修復(fù)。據(jù)全球半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)(SIA)公布數(shù)據(jù)，全球頭部集成電路企業(yè)23Q2環(huán)比表現(xiàn)有所修復(fù)，23Q2全球半導(dǎo)體銷售額為1245據(jù)WSTS最新預(yù)測(cè)數(shù)據(jù)，2023年全球半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模將下降10.3%，2024年有望同比上升11.8%。今年下半年半導(dǎo)體企改善、需求回暖帶來(lái)的整體基本面趨好和企業(yè)業(yè)績(jī)回升趨勢(shì)顯現(xiàn)。請(qǐng)通過(guò)合法途徑獲取本公司研究報(bào)告，，請(qǐng)慎重使用并注意閱讀研究報(bào)告尾頁(yè)的聲明內(nèi)容。23/37合計(jì)5150.955759.97-10.3%11.8%圖表43WSTS全球半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模預(yù)測(cè)(2023.6)市場(chǎng)規(guī)模(億美元)同比增速2023202420232024分地區(qū):美洲1282.361509.89-9.1%17.7%歐洲572.53616.376.3%7.合計(jì)5150.955759.97-10.3%11.8%圖表43WSTS全球半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模預(yù)測(cè)(2023.6)市場(chǎng)規(guī)模(億美元)同比增速2023202420232024分地區(qū):美洲1282.361509.89-9.1%17.7%歐洲572.53616.376.3%7.7%日本487.24525.341.2%7.8%亞太2808.813108.38-15.1%10.7%全球5150.955759.97-10.3%11.8%分產(chǎn)品:分立器件359.04381.925.6%6.4%光電子459.49458.814.6%-0.1%傳感器：204.1215.75-6.3%5.7%集成電路4128.324703.49-13.0%13.9%模擬電路839.07889.02-5.7%6.0%微處理器714.7758.55-9.6%6.1%邏輯1734.131852.66-1.8%6.8%存儲(chǔ)840.411203.26-35.2%43.2%2010201120122013201420152016201720182019202020212026F25%20%%%02502000圖表44我國(guó)IC國(guó)產(chǎn)替代空間廣闊我國(guó)IC市場(chǎng)需求總規(guī)模(左軸,十億美元)在中國(guó)大陸生產(chǎn)的IC規(guī)模(左軸,十億美元)自給率(右軸)圖表42全球主要半導(dǎo)體企業(yè)23Q2指引公司23Q1環(huán)比23Q2指引市場(chǎng)預(yù)測(cè)英特爾-17%2.5%↑庫(kù)存調(diào)整三星電子-32%--庫(kù)存調(diào)整博通-2.4%----高通(IC)0.6%-9.3%↓庫(kù)存調(diào)整英偉達(dá)18.8%47%↑增長(zhǎng):AI+數(shù)據(jù)中心AMD-4.4%-1.0%↑數(shù)據(jù)中心業(yè)務(wù)增長(zhǎng)英飛凌4.3%-2.9%↓汽車&工業(yè)市場(chǎng)↑TI-6.2%-0.7%↑汽車↑,工業(yè)持平意法-4.0%0.8%↑汽車&工業(yè)市場(chǎng)↑SKHynix-34%--需求依然低迷鎂光-10%0.2%↑需求依然低迷ADI0.1%-1.5%↓汽車&工業(yè)市場(chǎng)↑聯(lián)發(fā)科-12%0.1%↑需求依然低迷NXP-5.8%2.5%↑汽車&工業(yè)市場(chǎng)↑瑞薩-8.2%-1.1%↑庫(kù)存穩(wěn)定合計(jì)----約6.6%，其余93.4%仍依賴進(jìn)口或海外駐國(guó)內(nèi)企業(yè)，本土企業(yè)的國(guó)產(chǎn)替代空間仍十分廣闊。5%。我國(guó)新建晶圓廠的增加將帶動(dòng)國(guó)內(nèi)晶圓產(chǎn)能持續(xù)上行，國(guó)產(chǎn)晶圓制造和先進(jìn)封裝材料需求空間有望進(jìn)一步打開(kāi)。圖表45我國(guó)晶圓產(chǎn)能占比有望逐步提升90%80%70%60%50%40%30%20%10%%其他中國(guó)臺(tái)灣歐洲及中東韓國(guó)北美日本10%10%11%13%14%15%16%22%25%20152016201820192020202120222026E請(qǐng)通過(guò)合法途徑獲取本公司研究報(bào)告，，請(qǐng)慎重使用并注意閱讀研究報(bào)告尾頁(yè)的聲明內(nèi)容。24/37濕電子化學(xué)品是指主體成分純度大于99.99%的超凈高純?cè)噭凑战M分不同主要可以分為通用型和功能型兩大類，通用型過(guò)復(fù)配方法達(dá)到特殊功能的配方類或復(fù)配類化學(xué)品，由于是混合化學(xué)物，理化指標(biāo)很難通過(guò)普通儀器定量檢測(cè)，只能通過(guò)應(yīng)用手段評(píng)價(jià)其有效性，一般根據(jù)不同客戶需求定制開(kāi)發(fā)，通過(guò)不斷的調(diào)配、試驗(yàn)、試制及測(cè)試才能完成，生產(chǎn)難度大、高純硫酸、雙氧水、氨水、氫氟酸等主要用于晶圓制備中的濕清洗、蝕刻環(huán)節(jié)，功能性的顯影液、蝕刻液、剝離液、緩沖酸11.04%，主要用作晶硅太陽(yáng)能電池片的加工清洗。圖表46濕電子化學(xué)品分類名稱作用總需求半導(dǎo)體領(lǐng)域需求占比顯示面板領(lǐng)域需求占比光伏電池領(lǐng)域需求占比濃硫酸、硝酸、氫氟酸、氫氧光刻膠去除劑等硝酸、冰醋酸、過(guò)氧化氧化銨等配制使用，用于蝕刻和清洗集成電路制程應(yīng)用最多劑，與冰乙酸、過(guò)氧化氫配制使用%通用型主要用于超大規(guī)模集成電洗與蝕刻雜質(zhì)鋁等蝕刻液1.9%9.59%功能功能光刻膠曝光后顯影(主要用于半導(dǎo)體和面板領(lǐng)域)金屬層表面去除固體物質(zhì)型物質(zhì)，同時(shí)4.0%請(qǐng)通過(guò)合法途徑獲取本公司研究報(bào)告，，請(qǐng)慎重使用并注意閱讀研究報(bào)告尾頁(yè)的聲明內(nèi)容。25/37400002502000.8.4137.6116.695.6.4.63744.4圖表472020-2025E中國(guó)濕電子化學(xué)品需求量(萬(wàn)噸)2020202120222023E2024E400002502000.8.4137.6116.695.6.4.63744.4圖表472020-2025E中國(guó)濕電子化學(xué)品需求量(萬(wàn)噸)2020202120222023E2024E2025E40%46%51%55%56%4%R年總市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)269.8億元，2021-2025年CAGR達(dá)14.2%；其中，預(yù)計(jì)2025年集成電路領(lǐng)域需求量將達(dá)106.94萬(wàn)CAGR模達(dá)126.5CAGRCAGR為20.6%。圖表482020-2025E中國(guó)濕電子化學(xué)品市場(chǎng)規(guī)模用于顯示面板(左軸,億元)用于集成電路(左軸,億元)YOY(右軸)YOY(右軸)40002020202120222023E2024E2025E40%35%30%25%20%15%10%5%0%圖表49全球顯示面板產(chǎn)能逐年向我國(guó)轉(zhuǎn)移趨勢(shì)90%圖表49全球顯示面板產(chǎn)能逐年向我國(guó)轉(zhuǎn)移趨勢(shì)90%80%70%60%50%40%30%20%10%%日本韓國(guó)中國(guó)臺(tái)灣中國(guó)大陸2017年2018年2019年2020年2021年2022年TFTLCDAM-OLED80%70%60%50%40%30%20%%20192020202120222023E2024E請(qǐng)通過(guò)合法途徑獲取本公司研究報(bào)告，，請(qǐng)慎重使用并注意閱讀研究報(bào)告尾頁(yè)的聲明內(nèi)容。26/37酸緩沖刻蝕液剝離液噸/萬(wàn)片鹽酸300氨水8英寸6英寸圖表酸緩沖刻蝕液剝離液噸/萬(wàn)片鹽酸300氨水8英寸6英寸圖表5112英寸晶圓對(duì)濕電子化學(xué)品需求量大幅提升2502000圖表532021年全球濕電子化學(xué)品市場(chǎng)份額其他,1%韓國(guó),中國(guó)大陸,中國(guó)臺(tái)灣,圖表52全球12英寸半導(dǎo)體晶圓廠逐年增加201020112012201320142015201620172201020112012201320142015201620172018201920202021202223E24E25E26E27E250200012%10%2502000凈高純?cè)噭┏^(guò)70%的產(chǎn)品依賴進(jìn)口。2021年，我國(guó)大陸濕電子化學(xué)品市場(chǎng)份額占比約12%，歐美老牌化工企業(yè)仍占據(jù)較大市場(chǎng)空間；國(guó)內(nèi)企業(yè)正在積極布局產(chǎn)能，未來(lái)隨著半導(dǎo)體、面板產(chǎn)品升級(jí)，同時(shí)產(chǎn)業(yè)鏈不斷向國(guó)內(nèi)轉(zhuǎn)移，我國(guó)濕電子化學(xué)品需求空間有望進(jìn)一步打開(kāi)。圖表54我國(guó)濕電子化學(xué)品各應(yīng)用領(lǐng)域國(guó)產(chǎn)化率90%80%70%60%50%40%30%20%10%%≤3.5代線≤6英寸GG8英寸9% 95%面板領(lǐng)域0%5% 半導(dǎo)體領(lǐng)域80%35%光伏電池≤3.5代線G6/G8顯示面板集成電路≤6英集成電路≤6英寸≥8英寸相關(guān)政策支持下，我國(guó)大力發(fā)展高端領(lǐng)域用濕電子化學(xué)品，近年來(lái)國(guó)內(nèi)企業(yè)的電子級(jí)硝酸、氫氟酸和磷酸等產(chǎn)品已取得較大突破，電子級(jí)硫酸、鹽酸、氨水和雙氧水也實(shí)現(xiàn)了部分批量應(yīng)用(仍以供應(yīng)給國(guó)內(nèi)企業(yè)為主)；但是NMP、四甲基氫氧化銨等在高端領(lǐng)域的應(yīng)用仍是空白。測(cè)、提純和容器處理等技術(shù)上已達(dá)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)，市占率不斷提升，行業(yè)整體進(jìn)入快速發(fā)展階段。領(lǐng)先企業(yè)不斷加大高純產(chǎn)品研發(fā)力度，擴(kuò)大電子級(jí)化學(xué)品產(chǎn)能，部分細(xì)分產(chǎn)品已實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破和國(guó)產(chǎn)替代，例如江化微的電子級(jí)-氫氟酸/硫酸/硝酸，請(qǐng)通過(guò)合法途徑獲取本公司研究報(bào)告，，請(qǐng)慎重使用并注意閱讀研究報(bào)告尾頁(yè)的聲明內(nèi)容。27/37圖表55我國(guó)濕電子化學(xué)品發(fā)展政策政策新聞時(shí)間涉及內(nèi)容《關(guān)于擴(kuò)大戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)加快在光刻膠、高純靶投資培育壯大新增長(zhǎng)點(diǎn)增長(zhǎng)2020.9材、電子封裝材料等領(lǐng)域極的指導(dǎo)意見(jiàn)》《重點(diǎn)新材料首批次應(yīng)用示范指導(dǎo)目錄(2021年版)》2022.1將半導(dǎo)體級(jí)硫酸等濕電子化學(xué)品列入其中《關(guān)于十四五推動(dòng)石化化工行業(yè)高質(zhì)量發(fā)展指導(dǎo)意見(jiàn)》2022.3加快發(fā)展高端聚烯烴、電子化學(xué)品等全國(guó)人大建議：增列濕電子化學(xué)品稅則號(hào)，并給予出口2023.3退稅政策給予濕電子化學(xué)品13%的出口退稅優(yōu)惠圖表56國(guó)內(nèi)濕電子化學(xué)品代表性企業(yè)研發(fā)費(fèi)用率(%)江化微晶瑞電材興發(fā)集團(tuán) 上海新陽(yáng)興福電子均值50502018201920202021202223Q1圖表圖表572022-2025年各企業(yè)濕電子化學(xué)品新增產(chǎn)能規(guī)劃企業(yè)名新擴(kuò)建項(xiàng)目生產(chǎn)產(chǎn)品規(guī)劃產(chǎn)能投產(chǎn)時(shí)間江化微超凈高純?cè)噭?硫酸/氨水等)、光刻膠配套試劑等一期5.8萬(wàn)噸/年，項(xiàng)2023年5月(目前硫酸、氨水已驗(yàn)收，鹽酸處于驗(yàn)收階段)學(xué)品/年2023年2月(一期6萬(wàn)噸已投產(chǎn))電子級(jí)硫酸(凱圣氟化學(xué)-技改項(xiàng)目)擴(kuò)建一條1.5萬(wàn)噸/年產(chǎn)線，合計(jì)3萬(wàn)噸/年電子級(jí)氟化氨(技改)加5000噸/年電子級(jí)(萬(wàn)噸/年)：硫酸8,氫氟酸3,硝酸3,氨水2.5,雙氧水2,異丙醇1,混酸0.1合計(jì)19.6萬(wàn)噸/年預(yù)計(jì)2023.6試生產(chǎn)；其余二期2025.10試生產(chǎn)晶瑞晶瑞電材超大規(guī)模集成電路用半導(dǎo)體級(jí)硫酸/年一期3萬(wàn)噸硫酸已投產(chǎn);二期6萬(wàn)噸23E建成潛江市投資建設(shè)晶瑞(湖北)微電子材料項(xiàng)目：電子級(jí)雙氧水、氨水、鹽酸等高純化學(xué)品產(chǎn)線基本建成，一期已順利投產(chǎn)，其中如雙氧水、氨水等產(chǎn)品正逐步向客戶進(jìn)行供應(yīng)合計(jì)15萬(wàn)噸/年項(xiàng)目正在建設(shè)中，建設(shè)周期2年合計(jì)5.3萬(wàn)噸/年目目前處于試生產(chǎn)階段Q22Q4建成。公司濕電子化學(xué)品產(chǎn)能合計(jì)增加至13.3萬(wàn)噸/年興發(fā)集團(tuán)刻液、2萬(wàn)噸/年氨水聯(lián)產(chǎn)1萬(wàn)噸/年氨氣(電子級(jí))合計(jì)8萬(wàn)噸/年年3萬(wàn)噸/年電子級(jí)硫酸;1萬(wàn)噸/年電子級(jí)功能性化學(xué)品合計(jì)4萬(wàn)噸/年建設(shè)周期2年，預(yù)計(jì)2024-25年投產(chǎn)芯芯片銅互連超高純電鍍液及添加劑0.65萬(wàn)噸/年2022年投產(chǎn)銅制/鋁制程蝕刻后清洗液、氮化硅/鈦蝕刻液、研磨上海新陽(yáng)后清洗液等高選擇比氮化鈦刻蝕液系列產(chǎn)品萬(wàn)噸/年2025年底前竣工，2026年6月底前投產(chǎn)干法蝕刻清洗液系列產(chǎn)品1.5萬(wàn)噸/年2025年底前竣工，2026年6月底前投產(chǎn)0.85萬(wàn)噸/年2022年投產(chǎn)請(qǐng)通過(guò)合法途徑獲取本公司研究報(bào)告，，請(qǐng)慎重使用并注意閱讀研究報(bào)告尾頁(yè)的聲明內(nèi)容。